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公開番号2024049807
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-10
出願番号2022156267
出願日2022-09-29
発明の名称加熱処理装置
出願人芝浦メカトロニクス株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類F27B 5/14 20060101AFI20240403BHJP(炉,キルン,窯;レトルト)
要約【課題】ヒータのON/OFF時に、ヒータが中心軸に沿った方向に伸縮しても、パーティクル発生を抑制できる加熱処理装置を提供する。
【解決手段】加熱処理装置は、ワークが収納されるチャンバと、チャンバ内に設けられる棒状の複数のヒータ33と、チャンバ内にてヒータを支持する、第1の支持部34、および第2の支持部のいずれかを備える。前記複数のヒータは、ヒータ中心軸交差方向に並び、前記第1の支持部は、前記ヒータの下方に設けられた第1のプレート34a2と、前記ヒータと前記第1のプレートとの間に設けられ、前記ヒータと前記第1のプレートと接触し、前記ヒータ中心軸方向に移動可能な回動部34bを有する。前記第2の支持部は、前記ヒータを保持する保持部と、前記保持部に接続され、前記ヒータの伸縮に応じ、前記ヒータの中心軸方向に弾性変形可能な第2のプレートと、を有する。
【選択図】図8
特許請求の範囲【請求項１】
内部にワークが収納されるチャンバと、
前記チャンバの内部に設けられ、棒状を呈する複数のヒータと、
前記チャンバの内部において前記ヒータを支持する、第１の支持部、および第２の支持部の少なくともいずれかと、
を備え、
前記複数のヒータは、前記ヒータの中心軸と交差する方向に並び、
前記第１の支持部は、前記ヒータの下方に設けられた第１のプレートと、前記ヒータと前記第１のプレートとの間に設けられ、前記ヒータと前記第１のプレートと接触し、前記ヒータの中心軸に沿った方向に移動可能な回動部と、を有し、
前記第２の支持部は、前記ヒータを保持する保持部と、前記保持部に接続され、前記ヒータの伸縮に応じて、前記ヒータの中心軸に沿った方向に弾性変形可能な第２のプレートと、を有する加熱処理装置。
続きを表示（約 390 文字）【請求項２】
前記回動部は、円柱状、または円筒状を呈し、前記ヒータの中心軸と交差する方向に延び、
前記ヒータの中心軸に交差する方向における、前記回動部の長さは、
前記ヒータの伸び量の２０倍以上の長さ、
および、
３つ以上の前記ヒータと接触する長さ、
の少なくともいずれかである請求項１記載の加熱処理装置。
【請求項３】
前記チャンバの内部を排気する排気部をさらに備え、
前記回動部、および前記保持部は、前記ヒータの端部の近傍における非加熱部に設けられている請求項１または２に記載の加熱処理装置。
【請求項４】
前記複数のヒータの温度制御は、前記ワークにおける複数の領域毎に行われ、
前記回動部は、前記複数の領域のそれぞれに１つ設けられている請求項１または２に記載の加熱処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、加熱処理装置に関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
ワークを加熱して、ワークの表面に膜などを形成したり、ワークの表面を処理したりする加熱処理装置がある。
例えば、内部にワークが保持されるチャンバと、チャンバの内部に設けられた板材および複数のヒータと、を有する加熱処理装置が提案されている。板材は、ワークの表面側及びワークの裏面側のそれぞれに対向するように設けられている。
【０００３】
複数のヒータは、棒状を呈し、板材の、ワークの側とは反対側に並べて設けられている。複数のヒータの一方の端部側は、チャンバに固定されている。複数のヒータの他方の端部は、チャンバに固定された板状のブラケットに支持されている。
【０００４】
ここで、ヒータへの電力の印加時（ＯＮ時）には、ヒータが高温になるため自身が膨張する。これによって、ヒータが主に中心軸に沿った方向に伸びる。ヒータへの電力の印加の停止時（ＯＦＦ時）には、ヒータが中心軸に沿った方向に縮む（元に戻る）。そのため、ヒータの端部がチャンバに固定された板状のブラケットに支持されていると、ヒータとブラケットとの接触部分に擦れが生じる。ヒータとブラケットとの接触部分に擦れが生じると、パーティクルが発生する場合がある。発生したパーティクルがワークに付着すると、ワークの品質が低下するおそれがある。
そこで、ヒータのＯＮ／ＯＦＦ時に、ヒータが伸縮したとしても、パーティクルが発生するのを抑制することができる加熱処理装置の開発が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１９－１８４２２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、ヒータのＯＮ／ＯＦＦ時に、ヒータが伸縮したとしても、パーティクルが発生するのを抑制することができる加熱処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
実施形態に係る加熱処理装置は、内部にワークが収納されるチャンバと、前記チャンバの内部に設けられ、棒状を呈する複数のヒータと、前記チャンバの内部において前記ヒータを支持する、第１の支持部、および第２の支持部の少なくともいずれかと、を備えている。前記複数のヒータは、前記ヒータの中心軸と交差する方向に並んでいる。前記第１の支持部は、前記ヒータの下方に設けられた第１のプレートと、前記ヒータと前記第１のプレートとの間に設けられ、前記ヒータと前記第１のプレートと接触し、前記ヒータの中心軸に沿った方向に移動可能な回動部と、を有する。前記第２の支持部は、前記ヒータを保持する保持部と、前記保持部に接続され、前記ヒータの伸縮に応じて、前記ヒータの中心軸に沿った方向に弾性変形可能な第２のプレートと、を有する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の実施形態によれば、ヒータのＯＮ／ＯＦＦ時に、ヒータが伸縮したとしても、パーティクルが発生するのを抑制することができる加熱処理装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本実施の形態に係る加熱処理装置を例示するための模式正面図である。
図１における加熱処理装置のＡ－Ａ線方向の模式断面図である。
チャンバ、およびカセットラックの模式斜視図である。
カセットを例示するための模式斜視図である。
保持部によるヒータの保持を例示するための模式斜視図である。
比較例に係る支持部によるヒータの支持を例示するための模式斜視図である。
本実施の形態に係る支持部によるヒータの支持を例示するための模式図である。
支持部を例示するための模式斜視図である。
支持部の作用を例示するための模式図である。
他の実施形態に係る支持部によるヒータの支持を例示するための模式図である。
他の実施形態に係る支持部によるヒータの支持を例示するための模式図である。
他の実施形態に係るカセットを例示するための模式斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
以下においては、一例として、大気圧よりも減圧された雰囲気においてワークを加熱して、ワークの表面に有機膜を形成する加熱処理装置を説明する。しかしながら、本発明は、これに限定されるわけではない。例えば、本発明は、ワークを加熱して、ワークの表面に無機膜などを形成したり、ワークの表面を処理したりする加熱処理装置にも適用することができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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