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公開番号2024041532
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-03-27
出願番号2022146402
出願日2022-09-14
発明の名称基板、及び基板の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人谷・阿部特許事務所
主分類B41J 2/16 20060101AFI20240319BHJP(印刷;線画機;タイプライター;スタンプ)
要約【課題】アライメントマークの認識性を高めること。
【解決手段】アライメントマークが形成された基板であって、アライメントマークは、基板の表面に照射された光を散乱させる側壁を有する構造体がアライメントマークとなる領域に複数配列することによって構成されていることを特徴とする。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
アライメントマークが形成された基板であって、
前記アライメントマークは、前記基板の表面に照射された光を散乱させる側壁を有する構造体が前記アライメントマークとなる領域に複数配列することによって構成されていることを特徴とする基板。
続きを表示（約 780 文字）【請求項２】
複数の前記構造体の外周線が規定する面積をＳ（μｍ
2
）とし、複数の前記構造体それぞれの周囲の長さの和をＬ（μｍ）とするとき、
比率Ｚ＝Ｌ／Ｓ（Ｚ≧０．１８５（μｍ
-1
））となることを特徴とする請求項１に記載の基板。
【請求項３】
前記構造体は前記基板の表面に形成された凹部であることを特徴とする請求項１に記載の基板。
【請求項４】
前記凹部の一部は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン炭化膜、またはこれらの化合物であることを特徴とする請求項３に記載の基板。
【請求項５】
前記基板はＳＯＩ（シリコンオンインシュレーター）基板であり、前記凹部の底部は絶縁層であることを特徴とする請求項３に記載の基板。
【請求項６】
前記構造体は前記基板の表面に形成された溝であり、前記溝の短手方向の幅に対する、前記溝の深さのアスペクト比は５以上であることを特徴とする請求項１に記載の基板。
【請求項７】
前記構造体は前記基板の表面に形成された溝であり、前記溝の短手方向の幅は１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の基板。
【請求項８】
複数の前記構造体は、閉曲線状の第１構造体と、前記第１構造体によって囲まれる複数の第２構造体と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の基板。
【請求項９】
前記構造体は前記基板の表面に形成された凸部であることを特徴とする請求項１に記載の基板。
【請求項１０】
前記凸部の側壁の一部は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン炭化膜、またはこれらの化合物であることを特徴とする請求項９に記載の基板。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板、および基板の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
ＭＥＭＳ（ＭｉｃｒｏＥｌｅｃｔｒｏＭｅｃｈａｎｉｃａｌＳｙｓｔｅｍｓ）デバイスは、基板上に微細な機械構造体が集約されており、パッケージング、センサー、またはアクチュエータなど幅広く応用されている。また、応用例の一つとして液体吐出ヘッドが挙げられる。
【０００３】
ＭＥＭＳデバイスでは、基板上にアライメントマークと呼ばれる形状を形成することがある。アライメントマークは、例えば光を照射することによって認識可能なマークであり、基板に加工を行うことによって形成された構造体等によって構成される。このアライメントマークを利用することで、他の構造体（基板、膜、フィルム、基板に加工された孔、基板に形成されたパターニング膜）の位置決めをすることができる。従って、アライメントマークの認識性を高くすることは、他の構造体の位置精度を高められるため重要である。
【０００４】
ＭＥＭＳデバイスでは、基板に貫通孔を加工して構造体を形成することがしばしば行われる。特許文献１ではこのような基板に加工された貫通孔をアライメントマークとする例が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１５－２２９３１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１のような貫通穴を用いたマークまたは非貫通の窪みを用いたマークは、簡便に形成しやすいメリットがあるものの、充分な散乱光が得られないことからマーク画像の認識性が低くなる虞がある。アライメントマークの認識性が低いと、基板上に配置すべき構造体の位置の精度が低くなってしまう。
【０００７】
そこで、本発明は、アライメントマークの認識性を高めることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様に係る基板は、アライメントマークが形成された基板であって、前記アライメントマークは、前記基板の表面に照射された光を散乱させる側壁を有する構造体が前記アライメントマークとなる領域に複数配列することによって構成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、アライメントマークの認識性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
アライメントマークの平面図およびセンサー画像を示す図である。
液体吐出ヘッドの製造方法を示した断面図である。
アライメントマークの平面図である。
アライメントマークの平面図、集合体輪郭、および認識輪郭を示した図である。
孔集合体の形状およびマーク認識結果である。
液体吐出ヘッドの製造方法を示した断面図である。
基板の断面図である。
アライメントマークの断面図および平面図である。
アライメントマークの形成例を示す図である。
認識輪郭を示す図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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