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公開番号2025175778
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-12-03
出願番号2024082035
出願日2024-05-20
発明の名称基板処理装置、および基板処理方法
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20251126BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】パーティクルを抑制できる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、処理容器と、前記処理容器の内部に回転可能に設けられる回転テーブルと、前記回転テーブルと一体に回転可能、かつ前記回転テーブルの回転中心から離れた位置において前記回転テーブルと相対的に回転可能に設けられる載置台と、前記回転テーブルの回転および前記載置台の回転を制御する制御部と、を含む。前記制御部は、前記回転テーブルの回転に伴って生じる公転遠心力よりも前記載置台の回転に伴って生じる自転遠心力が大きくなるように、前記回転テーブルの回転および前記載置台の回転を制御する。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
処理容器と、
前記処理容器の内部に回転可能に設けられる回転テーブルと、
前記回転テーブルと一体に回転可能、かつ前記回転テーブルの回転中心から離れた位置において前記回転テーブルと相対的に回転可能に設けられ、基板を載置する載置台と、
前記回転テーブルの回転および前記載置台の回転を制御する制御部と、を含み、
前記制御部は、
前記回転テーブルの回転に伴って生じる公転遠心力よりも前記載置台の回転に伴って生じる自転遠心力が大きくなるように、前記回転テーブルの回転および前記載置台の回転を制御する、
基板処理装置。
続きを表示（約 870 文字）【請求項２】
前記載置台の回転における自転回転速度が、前記回転テーブルの回転における公転回転速度よりも速い、
請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記自転回転速度は、前記公転回転速度の２．５倍以上である、
請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記公転回転速度は、４０ｒｐｍ以上であり、
前記自転回転速度は、前記公転回転速度の１０倍以上である、
請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記載置台の回転中心から基板の中心までの回転半径は、前記回転テーブルの回転中心から前記載置台の回転中心までの回転半径の１／１０以下である、前記
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記載置台は、前記基板を載置する底壁と、前記底壁の外縁から突出し、前記基板の外縁が接触可能な側壁とを有し、当該底壁および当該側壁で囲われた凹部を備える、
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記凹部は、平面視で正円状に形成され、かつ当該凹部の中心と前記載置台の回転中心とがずれている、
請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記凹部は、平面視で楕円状に形成されている、
請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項９】
処理容器と、
前記処理容器の内部に回転可能に設けられる回転テーブルと、
前記回転テーブルと一体に回転可能、かつ前記回転テーブルの回転中心から離れた位置において前記回転テーブルと相対的に回転可能に設けられ、基板を載置する載置台と、を含む基板処理装置の基板処理方法であって、
前記回転テーブルおよび前記載置台を同時に回転させる工程において、前記回転テーブルの回転に伴って生じる公転遠心力よりも前記載置台の回転に伴って生じる自転遠心力を大きくする、
基板処理方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板処理装置、および基板処理方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、処理容器（真空容器）と、処理容器の内部に回転（公転）可能に設けられる回転テーブルと、を有する基板処理装置が開示されている。また、基板処理装置は、回転テーブルの回転中心から離れた位置の周方向上に、基板を載置する複数の載置台を備える。各載置台は、回転テーブルと一体に回転可能、かつ回転テーブルと相対的に回転（自転）可能に構成されている。
【０００３】
基板処理装置の各載置台に載置された各基板は、回転テーブルの回転に伴う遠心力を受けて各載置台内を移動する。特に、基板処理装置は、載置台の回転により載置台内の基板の位置が変化することで、基板の移動機会が増加する。基板の移動によってパーティクルが発生し易くなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２１－１１１７５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本開示は、パーティクルを抑制できる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の一態様によれば、処理容器と、前記処理容器の内部に回転可能に設けられる回転テーブルと、前記回転テーブルと一体に回転可能、かつ前記回転テーブルの回転中心から離れた位置において前記回転テーブルと相対的に回転可能に設けられ、基板を載置する載置台と、前記回転テーブルの回転および前記載置台の回転を制御する制御部と、を含み、前記制御部は、前記回転テーブルの回転に伴って生じる公転遠心力よりも前記載置台の回転に伴って生じる自転遠心力が大きくなるように、前記回転テーブルの回転および前記載置台の回転を制御する、基板処理装置が提供される。
【発明の効果】
【０００７】
一態様によれば、パーティクルを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
実施形態に係る基板処理装置の構成例を示す縦断面図である。
図１の基板処理装置の処理容器内の構成を示す平面図である。
図１の基板処理装置の回転テーブルおよび載置台の構成を示す斜視図である。
図４（Ａ）は、参考例に係る基板処理装置の回転テーブルおよび各載置台の回転状態を示す平面図である。図４（Ｂ）は、参考例に係る載置台における基板の状態を示す図である。
図５（Ａ）は、実施形態に係る基板処理装置の載置台を示す平面図である。図５（Ｂ）は、図５（Ａ）のＶＢ－ＶＢ線の断面図である。
図６（Ａ）は、実施形態に係る基板処理装置の回転テーブルおよび各載置台の回転状態を示す平面図である。図６（Ｂ）は、載置台における基板Ｗの状態を示す図である。
図７（Ａ）は、載置台の直径φを３０２ｍｍとした場合の回転テーブルの公転回転速度と載置台の自転回転速度との関係を示す表である。図７（Ｂ）は、載置台の直径φを３４０ｍｍとした場合の回転テーブルの公転回転速度と載置台の自転回転速度との関係を示す表である。
実施形態に係る基板処理方法のフローチャートである。
図９（Ａ）は、第１変形例に係る載置台を拡大して示す平面図である。図９（Ｂ）は、第２変形例に係る載置台を拡大して示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
【００１０】
［基板処理装置の基本構成］
図１～図３を参照して、実施形態に係る基板処理装置１について説明する。図１は、実施形態に係る基板処理装置１の構成例を示す縦断面図である。図２は、図１の基板処理装置１の処理容器１１内の構成を示す平面図である。なお、図２においては、説明の便宜上、天板の図示を省略している。図３は、図１の基板処理装置１の回転テーブル２１および載置台２１１の構成を示す斜視図である。
（【００１１】以降は省略されています）

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