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公開番号
2025155676
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-14
出願番号
2024193545
出願日
2024-11-05
発明の名称
縦型ホール素子
出願人
エイブリック株式会社
代理人
主分類
H10N
52/00 20230101AFI20251002BHJP()
要約
【課題】磁気検出感度を調整することができる縦型ホール素子の提供。
【解決手段】縦型ホール素子100は、P型半導体基板10と、P型半導体基板10の表面に形成されているN型エピタキシャル層30と、N型エピタキシャル層30の表面に配置され、電極111~115が直線上に配置されている電極群110と、電極群110における電極111~115の間に定電流を流す定電流源と、平面視した際に定電流における電流経路の少なくとも一部に重なるように配置され、所定の電圧が印加可能な導体120と、を有する。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
第1導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の表面に形成されている第2導電型の不純物拡散層と、
前記不純物拡散層の表面に配置され、3つ以上の電極が直線上に配置されている電極群と、
前記電極群における前記電極の間に定電流を流す定電流源と、
平面視した際に前記定電流における電流経路の少なくとも一部に重なるように配置され、所定の電圧が印加可能な第1の導体と、
を有することを特徴とする縦型ホール素子。
続きを表示(約 400 文字)
【請求項2】
前記第1の導体は、前記電極群の上方に配置されている請求項1に記載の縦型ホール素子。
【請求項3】
前記第1の導体は、金属層又はポリシリコンによる高濃度不純物導体である請求項2に記載の縦型ホール素子。
【請求項4】
前記第1の導体は、前記電極群の下方に配置されている第1導電型の埋込層である請求項1に記載の縦型ホール素子。
【請求項5】
断面視した際に前記定電流における電流経路の少なくとも一部に重なるように配置され、前記第1導電型のポリシリコンで形成されている第2の導体を更に有する請求項1に記載の縦型ホール素子。
【請求項6】
前記第1導電型がP型、前記第2導電型がN型であって、
前記電極群がポリシリコンによるP型の高濃度不純物導体で形成されている請求項1から5のいずれかに記載の縦型ホール素子。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、縦型ホール素子に関する。
続きを表示(約 1,900 文字)
【背景技術】
【0002】
ホール素子は、半導体基板の表面に容易に形成でき、磁気センサとして非接触での位置検知、角度検知が可能であることから様々な用途に用いられている。
ホール素子のなかでも、半導体基板の表面に対して垂直な磁界成分を検出する横型ホール素子が一般的に良く知られているが、半導体基板の表面に対して平行な磁界成分を検出する縦型ホール素子についても各種提案されている。
【0003】
たとえば、所定の電位に固定された導体プレートが素子表面を覆うように設けた構造とすることにより、ホール素子としての検出精度が高く維持されるとともに、当該ホール素子のノイズ耐性を高めることができる縦型ホール素子が提案されている(特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2006-128400号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明の一つの側面では、磁気検出感度を調整することができる縦型ホール素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の一実施形態における縦型ホール素子は、
第1導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の表面に形成されている第2導電型の不純物拡散層と、
前記不純物拡散層の表面に配置され、3つ以上の電極が直線上に配置されている電極群と、
前記電極群における前記電極の間に定電流を流す定電流源と、
平面視した際に前記定電流における電流経路の少なくとも一部に重なるように配置され、所定の電圧が印加可能な導体と、
を有する。
【発明の効果】
【0007】
本発明の一つの側面によれば、磁気検出感度を調整することができる縦型ホール素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
図1は、本発明の第1の実施形態における縦型ホール素子の平面を示す説明図である。
図2は、本発明の第1の実施形態における縦型ホール素子の断面を示す説明図である。
図3は、本発明の第1の実施形態における縦型ホール素子の断面を示す説明図である。
図4は、本発明の第2の実施形態における縦型ホール素子の平面を示す説明図である。
図5は、本発明の第2の実施形態における縦型ホール素子の断面を示す説明図である。
図6は、本発明の第3の実施形態における縦型ホール素子の平面を示す説明図である。
図7は、本発明の第3の実施形態における縦型ホール素子の断面を示す説明図である。
図8は、本発明の第4の実施形態における縦型ホール素子の断面を示す説明図である。
図9は、本発明の第5の実施形態における縦型ホール素子の断面を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
なお、図面においては、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。また、図面において、X方向、Y方向及びZ方向は、互いに直交する。X方向と、当該X方向の反対の方向(-X方向)とを含む方向を「X軸方向」といい、Y方向と、当該Y方向の反対の方向(-Y方向)とを含む方向を「Y軸方向」といい、Z方向と、当該Z方向の反対の方向(-Z方向、深さ方向)とを含む方向を「Z軸方向」(高さ方向、厚さ方向)という。この点、以下の各実施形態において、各膜のZ方向側の面を「表面」と称する場合がある。
図面は模式的なものであり、幅、長さ及び奥行きの比率などは図面で示したとおりではない。
なお、以下では、第1導電型をP型とし、第2導電型をN型として説明する。
【0010】
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態における縦型ホール素子の平面を示す説明図である。図2は、図1のII-II線に沿った概略断面図であり、本発明の第1の実施形態における縦型ホール素子の断面を示す説明図である。図3は、図1のIII-III線に沿った概略断面図であり、本発明の第1の実施形態における縦型ホール素子の断面を示す説明図である。
本実施形態の縦型ホール素子100は、電極群110と、その外周に配置されているP型ウェル層50と、電極群110の上方に配置されている導体120と、を有する。
(【0011】以降は省略されています)
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