特許ウォッチ

公開番号2025091376
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-18
出願番号2024207491
出願日2024-11-28
発明の名称大流量下で高効率溶解を実現する前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉およびその作動方法
出願人彩虹顕示器件股ふん有限公司
代理人個人,個人
主分類C03B 5/03 20060101AFI20250611BHJP(ガラス;鉱物またはスラグウール)
要約【課題】大流量下で高効率な溶解を可能とする、前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉およびその作動方法を提供する。
【解決手段】窯炉はプール壁1を含み、プール壁1によって清澄ゾーン8、均質化ゾーン7および複数の予備溶解ゾーン6が形成され、予備溶解ゾーン6は均質化ゾーン7に連通し、均質化ゾーン7は清澄ゾーン8に連通し、予備溶解ゾーン6の全幅は清澄ゾーン8および均質化ゾーン7の幅よりも広く、清澄ゾーン8と均質化ゾーン7と予備溶解ゾーン6のそれぞれの両側のプール壁1には複数の電極2が配置され、予備溶解ゾーン6両側の電極間隔は、清澄ゾーン8および均質化ゾーン7の両側の電極間隔よりも狭く、窯炉の電極加電プロセスの運転安定性が向上され、「電源切れ」現象の発生が低減される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
プール壁（１）を含み、前記プール壁（１）によって清澄ゾーン（８）、均質化ゾーン（７）および複数の予備溶解ゾーン（６）が形成され、
前記予備溶解ゾーン（６）は前記均質化ゾーン（７）に連通し、前記均質化ゾーン（７）は前記清澄ゾーン（８）に連通し、
前記予備溶解ゾーン（６）の全幅は前記清澄ゾーン（８）および前記均質化ゾーン（７）の幅よりも広く、
前記清澄ゾーン（８）、前記均質化ゾーン（７）および前記予備溶解ゾーン（６）の両側の前記プール壁（１）には複数の電極（２）が配置され、
前記予備溶解ゾーン（６）両側の前記電極（２）の間隔は、前記清澄ゾーン（８）および前記均質化ゾーン（７）の両側の前記電極（２）の間隔よりも狭く、
前記プール壁（１）には排出口（５）および複数の供給口（４）が設けられ、前記供給口（４）は前記予備溶解ゾーン（６）に連通し、前記排出口（５）は前記清澄ゾーン（８）に連通していることを特徴とする、大流量下で高効率溶解を行う前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記予備溶解ゾーン（６）と前記均質化ゾーン（７）の間に移行ゾーン（３）が設けられている、請求項１に記載の大流量下で高効率溶解を行う前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉。
【請求項３】
前記予備溶解ゾーン（６）両側の前記電極（２）が等間隔で配置されている、請求項２に記載の大流量下で高効率溶解を行う前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉。
【請求項４】
前記予備溶解ゾーン（６）両側の前記電極（２）の間隔が１０５０ｍｍから１１００ｍｍである、請求項３に記載の大流量下で高効率溶解を行う前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉の製造方法。
【請求項５】
前記清澄ゾーン（８）と前記均質化ゾーン（７）の幅が等しい、請求項１に記載の大流量下で高効率溶解を行う前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉。
【請求項６】
前記清澄ゾーン（８）および前記均質化ゾーン（７）の両側の前記電極（２）が等間隔で配置されている、請求項５に記載の大流量下で高効率溶解を行う前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉。
【請求項７】
前記清澄ゾーン（８）および前記均質化ゾーン（７）の両側の前記電極（２）の間隔が２１００ｍｍから２２００ｍｍである、請求項６に記載の大流量下で高効率溶解を行う前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉。
【請求項８】
前記プール壁（１）には胸壁（９）が設けられ、前記胸壁（９）の上部にアーチ型の天井が配置されている、請求項１に記載の大流量下で高効率溶解を行う前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉。
【請求項９】
前記胸壁（９）には複数のバーニングガン（１０）が配置されている、請求項８に記載の大流量下で高効率溶解を行う前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれかに記載の大流量下で高効率溶解を行う前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉の作動方法であって、
供給口（４）から予備溶解ゾーン（６）にガラス粉体を投入し、電極（２）を用いてガラス粉体を予備溶解させ、ガラス液を形成するステップと、
前記ガラス液は前記予備溶解ゾーン（６）から均質化ゾーン（７）に移動し、十分に混合および均質化された後、清澄ゾーン（８）に移動させ、予備清澄が行われ、前記予備清澄が完了すると排出口（５）から流出するステップと、を含む。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板ガラス製造分野に属し、大流量下で高効率溶解を実現する前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉およびその作動方法に関するものである。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
ガラス窯炉はガラス製造業において必須の溶解装置であり、基板ガラスの生産プロセスにおいて最も重要かつ主要な設備の一つである。その主な役割は、ガラス粉体を高品質なガラス液に溶解させ、その後、他の工程で基板ガラスとして成形することである。窯炉内では、清澄ゾーンから予備溶解ゾーンに向かうにつれてガラス液の溶解度は徐々に低下し、ガラス冷材の影響によりガラス液の電気抵抗率が増大する。しかし、引き出し量（抽出量）が増加するにつれ、投入量も増大するため、ガラス液の電気抵抗率の変動が顕著になり、予備溶解ゾーンの電極溶解プロセスが不安定となり、当該区域の電極が通電できず、「電源切れ」現象が発生し、窯炉の運転安定性および製品品質に重大な影響を及ぼす可能性がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
清澄ゾーンから予備溶解ゾーンに至るガラス液の溶解度が段階的に低下し、ガラス冷材の影響でガラス液の電気抵抗率が増大する一方で、引き出し量の増加に伴い投入量が増大し、ガラス液の電気抵抗率の変動がさらに顕著になる。その結果、予備溶解ゾーンの電極溶解プロセスが不安定化し、場合によっては当該区域の電極に通電できない「電源切れ」現象が発生し、窯炉の運転安定性および製品品質に深刻な影響を及ぼす。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
そこで、本発明は、上記の従来技術の欠点を克服するために、大流量下で高効率な溶解を可能とする前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉およびその作動方法を提供することを目的とし、大流量下におけるガラス液の高効率な溶解および窯炉運転の安定性が確保され、「電源切れ」現象の発生が低減される。
【０００５】
本発明は、上記目的を達成するために、以下の技術的手段を採用する。
本発明は、プール壁（１）を含み、前記プール壁（１）によって清澄ゾーン（８）、均質化ゾーン（７）および複数の予備溶解ゾーン（６）が形成され、前記予備溶解ゾーン（６）は前記均質化ゾーン（７）に連通し、前記均質化ゾーン（７）は前記清澄ゾーン（８）に連通し、前記予備溶解ゾーン（６）の全幅は前記清澄ゾーン（８）および前記均質化ゾーン（７）の幅よりも広く、前記清澄ゾーン（８）、前記均質化ゾーン（７）および前記予備溶解ゾーン（６）の両側の前記プール壁（１）には複数の電極（２）が配置され、前記予備溶解ゾーン（６）両側の前記電極（２）の間隔は、前記清澄ゾーン（８）および前記均質化ゾーン（７）の両側の前記電極（２）の間隔よりも狭く、前記プール壁（１）には排出口（５）および複数の供給口（４）が設けられ、前記供給口（４）は前記予備溶解ゾーン（６）に連通し、前記排出口（５）は前記清澄ゾーン（８）に連通していることを特徴とする、大流量下で高効率溶解を行う前ゾーンダブル電極非等間隔窯炉を開示する。
【０００６】
さらに、前記予備溶解ゾーン（６）と前記均質化ゾーン（７）の間に移行ゾーン（３）が設けられている。
【０００７】
さらに、前記予備溶解ゾーン（６）両側の前記電極（２）が等間隔で配置されている。
【０００８】
さらに、前記予備溶解ゾーン（６）両側の前記電極（２）の間隔が１０５０ｍｍから１１００ｍｍである。
【０００９】
さらに、前記清澄ゾーン（８）と前記均質化ゾーン（７）の幅が等しい。
【００１０】
さらに、前記清澄ゾーン（８）および前記均質化ゾーン（７）の両側の前記電極（２）が等間隔で配置されている。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許