特許ウォッチ

公開番号2025069590
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-01
出願番号2023179399
出願日2023-10-18
発明の名称表示装置および表示装置用マザー基板
出願人株式会社ジャパンディスプレイ
代理人弁理士法人スズエ国際特許事務所
主分類H10K 59/80 20230101AFI20250423BHJP()
要約【課題】表示装置の歩留まりを改善する。
【解決手段】実施形態によれば、表示装置は、表示領域および周辺領域を有する基板と、基板の上方に配置された有機絶縁層と、表示領域において有機絶縁層の上方に配置された下電極と、有機絶縁層および下電極を覆うとともに下電極と重なる画素開口を有するリブ層と、表示領域においてリブ層の上方に配置された第1隔壁と、画素開口を通じて下電極に接触する有機層と、有機層を覆い第1隔壁に接触した上電極と、周辺領域においてリブ層の上方に配置された第2隔壁とを備える。第1隔壁および第2隔壁の各々は、リブ層の上方に配置された下部と、下部の側面から突出した端部を有する上部とを含む。第2隔壁は、互いに離間した複数のセグメントを含む。さらに、リブ層は、複数のセグメントの少なくとも1つを囲うスリットを有している。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
画像を表示する表示領域および前記表示領域の周囲の周辺領域を有する基板と、
有機絶縁材料で形成され、前記基板の上方に配置された有機絶縁層と、
前記表示領域において前記有機絶縁層の上方に配置された下電極と、
無機絶縁材料で形成され、前記有機絶縁層および前記下電極を覆うとともに、前記下電極と重なる画素開口を有するリブ層と、
前記表示領域において前記リブ層の上方に配置された第１隔壁と、
前記画素開口を通じて前記下電極に接触し、電圧の印加に応じて発光する有機層と、
前記有機層を覆い、前記第１隔壁に接触した上電極と、
前記周辺領域において前記リブ層の上方に配置された第２隔壁と、
を備え、
前記第１隔壁および前記第２隔壁の各々は、前記リブ層の上方に配置された下部と、前記下部の側面から突出した端部を有する上部とを含み、
前記第２隔壁は、互いに離間した複数のセグメントを含み、
前記リブ層は、前記複数のセグメントの少なくとも１つを囲うスリットを有している、
表示装置。
続きを表示（約 1,400 文字）【請求項２】
前記有機絶縁層は、前記スリットと重なる溝を有している、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記リブ層の縁部が前記溝の上方に突出したオーバーハング構造が前記スリットに沿って形成されている、
請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記複数のセグメントの各々は、複数の開口を有している、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記スリットは、複数の交点を含む格子状であり、
前記リブ層は、前記複数の交点の少なくとも１つに配置された交点部を有している、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
画像を表示する表示領域および前記表示領域の周囲の周辺領域を有する基板と、
無機絶縁材料で形成され、前記基板の上方に配置された無機絶縁層と、
有機絶縁材料で形成され、前記無機絶縁層の上方に配置された有機絶縁層と、
前記表示領域において前記有機絶縁層の上方に配置された下電極と、
無機絶縁材料で形成され、前記有機絶縁層および前記下電極を覆うとともに、前記下電極と重なる画素開口を有するリブ層と、
前記画素開口を通じて前記下電極に接触し、電圧の印加に応じて発光する有機層と、
前記有機層を覆う上電極と、
を備え、
前記リブ層の縁部が前記無機絶縁層の縁部から突出したオーバーハング構造が前記周辺領域に形成されている、
表示装置。
【請求項７】
前記オーバーハング構造は、前記基板の縁部に沿って形成されている、
請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記無機絶縁層と前記リブ層は、異なる無機絶縁材料で形成されている、
請求項６に記載の表示装置。
【請求項９】
表示領域および前記表示領域の周囲の周辺領域をそれぞれ含む複数のパネル部と、前記複数のパネル部の周囲の余白領域とを有する基板と、
有機絶縁材料で形成され、前記基板の上方に配置された有機絶縁層と、
前記表示領域において前記有機絶縁層の上方に配置された下電極と、
無機絶縁材料で形成され、前記有機絶縁層および前記下電極を覆うとともに、前記下電極と重なる画素開口を有するリブ層と、
前記表示領域において前記リブ層の上方に配置された第１隔壁と、
前記画素開口を通じて前記下電極に接触し、電圧の印加に応じて発光する有機層と、
前記有機層を覆い、前記第１隔壁に接触した上電極と、
前記周辺領域および前記余白領域の少なくとも一方において前記リブ層の上方に配置された第２隔壁と、
を備え、
前記第１隔壁および前記第２隔壁の各々は、前記リブ層の上方に配置された下部と、前記下部の側面から突出した端部を有する上部とを含み、
前記第２隔壁は、互いに離間した複数のセグメントを含み、
前記リブ層は、前記複数のセグメントの少なくとも１つを囲うスリットを有している、
表示装置用マザー基板。
【請求項１０】
前記有機絶縁層は、前記スリットと重なる溝を有している、
請求項９に記載の表示装置用マザー基板。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、表示装置および表示装置用マザー基板に関する。
続きを表示（約 3,400 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、表示素子として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を適用した表示装置が実用化されている。この種の表示装置において、歩留まりの改善を可能とする技術が必要とされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０００－１９５６７７号公報
特開２００４－２０７２１７号公報
特開２００８－１３５３２５号公報
特開２００９－３２６７３号公報
特開２０１０－１１８１９１号公報
国際公開第２０１８／１７９３０８号
米国特許出願公開第２０２２／００７７２５１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、歩留まりの改善が可能な表示装置および表示装置用マザー基板を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
実施形態の一つの観点によれば、表示装置は、画像を表示する表示領域および前記表示領域の周囲の周辺領域を有する基板と、有機絶縁材料で形成され、前記基板の上方に配置された有機絶縁層と、前記表示領域において前記有機絶縁層の上方に配置された下電極と、無機絶縁材料で形成され、前記有機絶縁層および前記下電極を覆うとともに、前記下電極と重なる画素開口を有するリブ層と、前記表示領域において前記リブ層の上方に配置された第１隔壁と、前記画素開口を通じて前記下電極に接触し、電圧の印加に応じて発光する有機層と、前記有機層を覆い、前記第１隔壁に接触した上電極と、前記周辺領域において前記リブ層の上方に配置された第２隔壁と、を備えている。前記第１隔壁および前記第２隔壁の各々は、前記リブ層の上方に配置された下部と、前記下部の側面から突出した端部を有する上部とを含む。前記第２隔壁は、互いに離間した複数のセグメントを含む。さらに、前記リブ層は、前記複数のセグメントの少なくとも１つを囲うスリットを有している。
【０００６】
実施形態の他の観点によれば、表示装置は、画像を表示する表示領域および前記表示領域の周囲の周辺領域を有する基板と、無機絶縁材料で形成され、前記基板の上方に配置された無機絶縁層と、有機絶縁材料で形成され、前記無機絶縁層の上方に配置された有機絶縁層と、前記表示領域において前記有機絶縁層の上方に配置された下電極と、無機絶縁材料で形成され、前記有機絶縁層および前記下電極を覆うとともに、前記下電極と重なる画素開口を有するリブ層と、前記画素開口を通じて前記下電極に接触し、電圧の印加に応じて発光する有機層と、前記有機層を覆う上電極と、を備えている。さらに、前記リブ層の縁部が前記無機絶縁層の縁部から突出したオーバーハング構造が前記周辺領域に形成されている。
【０００７】
実施形態の一つの観点によれば、表示装置用マザー基板は、表示領域および前記表示領域の周囲の周辺領域をそれぞれ含む複数のパネル部と前記複数のパネル部の周囲の余白領域とを有する基板と、有機絶縁材料で形成され、前記基板の上方に配置された有機絶縁層と、前記表示領域において前記有機絶縁層の上方に配置された下電極と、無機絶縁材料で形成され、前記有機絶縁層および前記下電極を覆うとともに、前記下電極と重なる画素開口を有するリブ層と、前記表示領域において前記リブ層の上方に配置された第１隔壁と、前記画素開口を通じて前記下電極に接触し、電圧の印加に応じて発光する有機層と、前記有機層を覆い、前記第１隔壁に接触した上電極と、前記周辺領域および前記余白領域の少なくとも一方において前記リブ層の上方に配置された第２隔壁と、を備えている。前記第１隔壁および前記第２隔壁の各々は、前記リブ層の上方に配置された下部と、前記下部の側面から突出した端部を有する上部とを含む。前記第２隔壁は、互いに離間した複数のセグメントを含む。さらに、前記リブ層は、前記複数のセグメントの少なくとも１つを囲うスリットを有している。
【０００８】
実施形態の他の観点によれば、表示装置用マザー基板は、表示領域および前記表示領域の周囲の周辺領域をそれぞれ含む複数のパネル部と前記複数のパネル部の周囲の余白領域とを有する基板と、無機絶縁材料で形成され、前記基板の上方に配置された無機絶縁層と、有機絶縁材料で形成され、前記無機絶縁層の上方に配置された有機絶縁層と、前記表示領域において前記有機絶縁層の上方に配置された下電極と、無機絶縁材料で形成され、前記有機絶縁層および前記下電極を覆うとともに、前記下電極と重なる画素開口を有するリブ層と、前記画素開口を通じて前記下電極に接触し、電圧の印加に応じて発光する有機層と、前記有機層を覆う上電極と、を備えている。さらに、前記リブ層の縁部が前記無機絶縁層の端部から突出したオーバーハング構造が前記周辺領域および前記余白領域の少なくとも一方に形成されている。
【０００９】
実施形態のさらに他の観点によれば、表示装置用マザー基板は、表示領域および前記表示領域の周囲の周辺領域をそれぞれ含む複数のパネル部と前記複数のパネル部の周囲の余白領域とを有する基板と、有機絶縁材料で形成され、前記基板の上方に配置された有機絶縁層と、前記表示領域において前記有機絶縁層の上方に配置された下電極と、無機絶縁材料で形成され、前記有機絶縁層および前記下電極を覆うとともに、前記下電極と重なる画素開口を有するリブ層と、前記画素開口を通じて前記下電極に接触し、電圧の印加に応じて発光する有機層と、前記有機層を覆う上電極と、を備えている。さらに、前記リブ層は、前記複数のパネル部の少なくとも１つにおいて前記表示領域を囲う第１スリットを有している。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
図１は、第１実施形態に係る表示装置の構成例を示す図である。
図２は、副画素のレイアウトの一例を示す概略的な平面図である。
図３は、図２中のＩＩＩ－ＩＩＩ線に沿う表示パネルの概略的な断面図である。
図４は、第１実施形態に係るマザー基板の概略的な平面図である。
図５は、第１実施形態に係るマザー基板の一部の概略的な平面図である。
図６は、余白領域、周辺領域および検査領域に配置される隔壁の一例を示す概略的な平面図である。
図７は、図６におけるＶＩＩ－ＶＩＩ線に沿うマザー基板の概略的な断面図である。
図８は、余白領域と検査領域の間のカットラインとその近傍の概略的な平面図である。
図９は、図８中のＩＸ－ＩＸ線に沿うマザー基板の概略的な断面図である。
図１０は、図８中のＸ－Ｘ線に沿うマザー基板の概略的な断面図である。
図１１Ａは、マザー基板にパネル部を形成する工程を示す概略的な断面図である。
図１１Ｂは、図１１Ａに続く工程を示す概略的な断面図である。
図１１Ｃは、図１１Ｂに続く工程を示す概略的な断面図である。
図１１Ｄは、図１１Ｃに続く工程を示す概略的な断面図である。
図１１Ｅは、図１１Ｄに続く工程を示す概略的な断面図である。
図１１Ｆは、図１１Ｅに続く工程を示す概略的な断面図である。
図１１Ｇは、図１１Ｆに続く工程を示す概略的な断面図である。
図１１Ｈは、図１１Ｇに続く工程を示す概略的な断面図である。
図１１Ｉは、図１１Ｈに続く工程を示す概略的な断面図である。
図１２は、図７に示したオーバーハング構造の効果を示す概略的な断面図である。
図１３は、図９に示したオーバーハング構造の効果を示す概略的な断面図である。
図１４は、図１０に示したオーバーハング構造の効果を示す概略的な断面図である。
図１５は、第２実施形態に係るマザー基板または表示装置の構成を示す概略的な平面図である。
図１６は、図１５中のＸＶＩ－ＸＶＩ線に沿うマザー基板の概略的な断面図である。
図１７は、第２実施形態の効果を示す概略的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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