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公開番号2025067969
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-24
出願番号2025021398,2021058037
出願日2025-02-13,2021-03-30
発明の名称保護膜形成方法
出願人株式会社ディスコ
代理人弁理士法人酒井国際特許事務所
主分類H01L 21/301 20060101AFI20250417BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】被加工物の形状や外部環境に因らず、均一な厚みの保護膜を形成することができる保護膜形成方法を提供すること。
【解決手段】保護膜形成方法は、被加工物に保護膜を形成する保護膜形成方法であって、保持テーブルに被加工物を保持する保持ステップ201と、保持テーブルに保持された被加工物の上面に所定量の液状樹脂を滴下するとともに保持テーブルを回転させることで液状樹脂を拡散させ、被加工物の上面を覆う第一の保護膜を形成する第一の保護膜形成ステップ202と、第一の保護膜形成ステップ202の後、液状樹脂を霧化するとともに霧化した液状樹脂を囲むエアカーテンを形成した状態で保持テーブルに保持された被加工物の上面に対して霧化した液状樹脂を供給し、被加工物の上面全面を覆う第二の保護膜を形成する第二の保護膜形成ステップ203と、を含む。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
被加工物に保護膜を形成する保護膜形成方法であって、
保持テーブルに被加工物を保持する保持ステップと、
該保持テーブルに保持された被加工物の上面に所定量の液状樹脂を滴下するとともに該保持テーブルを回転させることで該液状樹脂を拡散させ、該被加工物の上面を覆う第一の保護膜を形成する第一の保護膜形成ステップと、
該第一の保護膜形成ステップの後、該液状樹脂を霧化するとともに霧化した液状樹脂を囲むエアカーテンを形成した状態で該保持テーブルに保持された被加工物の上面に対して該霧化した液状樹脂を供給し、該被加工物の上面全面を覆う第二の保護膜を形成する第二の保護膜形成ステップと、
を含むことを特徴とする保護膜形成方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護膜形成方法に関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程において、表面にデバイスが形成された被加工物（ウェーハ）をチップサイズへと分割する際に、被加工物に設定された分割予定ラインに沿ってレーザービームを照射してアブレーション加工を行う方法が提案されている（特許文献１参照）。このような加工方法では、デブリと呼ばれる加工屑が発生するため、このデブリが飛散して被加工物に再付着すると、被加工物を汚染してしまう恐れがある。
【０００３】
この課題を解決するために、被加工物の表面に水溶性の保護膜を形成し、加工時に生じるデブリを保護膜に付着させ、保護膜とデブリとを同時に洗浄除去する方法が開示されている（特許文献２参照）。保護膜を塗布する方法としては、被加工物を保持したスピンナーテーブルを高速回転させながら、スピンナーテーブル上の被加工物の表面に水溶性の液状樹脂を供給し、遠心力を受けた液状樹脂の移動によって被加工物の表面を覆い、乾燥させて保護膜とする方法が一般的である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平１０－３０５４２０号公報
特開２００６－１４０３１１号公報
特開平６－２１０２３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、被加工物に段差や電極等のバンプが存在する場合、被加工物の加工面に液状樹脂を均一に塗布することが困難であり、部分的に保護膜で被覆されない可能性がある。そこで、超音波により液状樹脂を霧化させて被加工物に塗布する方法（特許文献３参照）を採用したところ、霧化された液状樹脂が静電気等の外乱により揺動してしまい、均一に被加工物に塗布できないという問題が生じた。
【０００６】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、被加工物の形状や外部環境に因らず、均一な厚みの保護膜を形成することができる保護膜形成方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の保護膜形成方法は、被加工物に保護膜を形成する保護膜形成方法であって、保持テーブルに被加工物を保持する保持ステップと、該保持テーブルに保持された被加工物の上面に所定量の液状樹脂を滴下するとともに該保持テーブルを回転させることで該液状樹脂を拡散させ、該被加工物の上面を覆う第一の保護膜を形成する第一の保護膜形成ステップと、該第一の保護膜形成ステップの後、該液状樹脂を霧化するとともに霧化した液状樹脂を囲むエアカーテンを形成した状態で該保持テーブルに保持された被加工物の上面に対して該霧化した液状樹脂を供給し、該被加工物の上面全面を覆う第二の保護膜を形成する第二の保護膜形成ステップと、を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本願発明は、被加工物の形状や外部環境に因らず、均一な厚みの保護膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
図１は、実施形態の保護膜形成装置の構成例を模式的に一部断面で示す側面図である。
図２は、図１に示された保護膜形成装置の加工対象の被加工物の斜視図である。
図３は、図１に示す霧化ユニットの振動面の構成例を一部断面で示す側面図である。
図４は、図１に示すエアカーテン形成ユニットの要部の構成例を一部断面で示す斜視図である。
図５は、実施形態の保護膜形成方法の流れを示すフローチャート図である。
図６は、図５に示す第一の保護膜形成ステップの一例を模式的に一部断面で示す側面図である。
図７は、図５に示す第一の保護膜形成ステップの後の一状態の被加工物の要部を示す断面図である。
図８は、図５に示す第二の保護膜形成ステップの後の一状態の被加工物の要部を示す断面図である。
図９は、第１変形例の霧化ユニットの振動面の構成例を一部断面で示す側面図である。
図１０は、第２変形例の霧化ユニットの振動面の構成例を一部断面で示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。更に、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換または変更を行うことができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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