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公開番号2025064763
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-17
出願番号2023174758
出願日2023-10-06
発明の名称組成物、表面処理剤、物品、物品の製造方法、及びUV吸収剤
出願人AGC株式会社
代理人弁理士法人太陽国際特許事務所
主分類C09K 3/18 20060101AFI20250410BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約【課題】耐光性及び耐摩耗性に優れる表面処理層を形成可能な組成物及び表面処理剤、前記組成物及び表面処理剤に用いられるUV吸収剤、並びに、耐光性及び耐摩耗性に優れる表面処理層を有する物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】鎖状オルガノ(ポリ)シロキサン残基と反応性シリル基とを有する化合物と、UV吸収剤と、を含む組成物及び表面処理剤;前記組成物及び表面処理剤に用いられるUV吸収剤;並びに、前記表面処理剤により形成された表面処理層を有する物品及びその製造方法。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と反応性シリル基とを有する化合物と、ＵＶ吸収剤と、を含む組成物。
続きを表示（約 2,200 文字）【請求項２】
前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と反応性シリル基とを有する化合物に含まれる前記反応性シリル基は、下記式（Ｓ１）で表される、請求項１に記載の組成物。
－Ｓｉ（Ｒ
２
）
ｎ
Ｌ
３－ｎ
…（Ｓ１）
式（Ｓ１）中、
Ｒ
２
は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
ｎは、０～２の整数である。
【請求項３】
前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基は、下記式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で表される、請求項１に記載の組成物。
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2025064763000047.jpg
19
54
式（Ｂ１）中、
Ｒ
３
は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
ｋ１は、１以上の数であり、
＊は、隣接する原子との結合部位である。
JPEG
2025064763000048.jpg
21
69
式（Ｂ２）中、
Ｒ
４
は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ
１１
－Ｂ
ｒ
－（ＳｉＲ
３
２
－Ｏ）
ｋ１
－であり、
Ｔ
１１
は、それぞれ独立に、１価の基であり、
Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
Ｒ
３
は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
＊は、隣接する原子との結合部位である。
【請求項４】
前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と反応性シリル基とを有する化合物は、下記式（Ｃ）又は下記式（Ｄ）で表される、請求項１に記載の組成物。
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2025064763000049.jpg
25
133
式（Ｃ）中、
Ｔ
１１
は、反応性シリル基を含まない１価の基であり、
Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
Ｒ
３
は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
ｐ１は、１以上の整数であり、
Ａ
１１
は、（ｐ１＋ｑ１）価の連結基であり、
ｑ１は、１以上の整数であり、
Ｒ
２
は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
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2025064763000050.jpg
21
149
式（Ｄ）中、
Ｒ
４
は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ
１１
－Ｂ
ｒ
－（ＳｉＲ
３
２
－Ｏ）
ｋ１
－であり、
Ｔ
１１
は、それぞれ独立に、１価の基であり、
Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
Ｒ
３
は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
Ａ
１２
は、それぞれ独立に、（ｑ１＋１）価の連結基であり、
ｑ１は、それぞれ独立に、１以上の整数であり、
Ｒ
２
は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
【請求項５】
前記式（Ｃ）において、ｑ１は１～４の整数であり、
前記式（Ｄ）において、ｑ１はそれぞれ独立に１～４の整数である、
請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
前記ＵＶ吸収剤が芳香環を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記ＵＶ吸収剤が、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤、ヒドロキシフェニルトリアジン系ＵＶ吸収剤、又はベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記ＵＶ吸収剤のジメチルスルホキシド中のｐＫａが１７以下である、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
前記ＵＶ吸収剤の含有量が、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と反応性シリル基とを有する化合物に対して０．０１～３０質量％である、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ＵＶ吸収剤が、反応性シリル基を有する化合物である、請求項１に記載の組成物。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、組成物、表面処理剤、物品、物品の製造方法、及びＵＶ吸収剤に関する。
続きを表示（約 3,200 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、外観、視認性等の性能を向上させるために、物品の表面に指紋を付きにくくする技術や、汚れを落としやすくする技術が求められている。具体的な方法として、物品の表面に表面処理剤を用いて表面処理を行う方法が知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、特定の構造を有するシロキサン基含有シラン化合物を表面処理剤として用いることが記載されている。
特許文献２には、加水分解性シリル基及び／又はＳｉＯＨ基と有機系紫外線吸収性基とが側鎖に結合したビニル系重合体と、特定の一般式で表されるオルガノポリシロキサンと、を含むプライマー組成物が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
国際公開第２０２３／０１７８３０号
特開２００８－２７４１７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
表面処理剤によって形成される表面処理層において、耐光性及び耐摩耗性の向上が望まれる。かかる状況に鑑み、本開示の一実施形態は、耐光性及び耐摩耗性に優れる表面処理層を形成可能な組成物及び表面処理剤、前記組成物及び表面処理剤に用いられるＵＶ吸収剤、並びに、耐光性及び耐摩耗性に優れる表面処理層を有する物品及びその製造方法の提供に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するための手段は、以下の態様を含む。
＜１＞鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と反応性シリル基とを有する化合物と、ＵＶ吸収剤と、を含む組成物。
＜２＞前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と反応性シリル基とを有する化合物に含まれる前記反応性シリル基は、下記式（Ｓ１）で表される、前記＜１＞に記載の組成物。
－Ｓｉ（Ｒ
２
）
ｎ
Ｌ
３－ｎ
…（Ｓ１）
式（Ｓ１）中、
Ｒ
２
は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
ｎは、０～２の整数である。
＜３＞前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基は、下記式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で表される、前記＜１＞又は＜２＞に記載の組成物。
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2025064763000001.jpg
19
54
式（Ｂ１）中、
Ｒ
３
は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
ｋ１は、１以上の数であり、
＊は、隣接する原子との結合部位である。
JPEG
2025064763000002.jpg
21
69
式（Ｂ２）中、
Ｒ
４
は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ
１１
－Ｂ
ｒ
－（ＳｉＲ
３
２
－Ｏ）
ｋ１
－であり、
Ｔ
１１
は、それぞれ独立に、１価の基であり、
Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
Ｒ
３
は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
＊は、隣接する原子との結合部位である。
＜４＞前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と反応性シリル基とを有する化合物は、下記式（Ｃ）又は下記式（Ｄ）で表される、前記＜１＞～＜３＞のいずれか１項に記載の組成物。
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2025064763000003.jpg
25
133
式（Ｃ）中、
Ｔ
１１
は、反応性シリル基を含まない１価の基であり、
Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
Ｒ
３
は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
ｐ１は、１以上の整数であり、
Ａ
１１
は、（ｐ１＋ｑ１）価の連結基であり、
ｑ１は、１以上の整数であり、
Ｒ
【発明の効果】
【０００７】
本開示の一実施形態によれば、耐光性及び耐摩耗性に優れる表面処理層を形成可能な組成物及び表面処理剤、前記組成物及び表面処理剤に用いられるＵＶ吸収剤、並びに、耐光性及び耐摩耗性に優れる表面処理層を有する物品及びその製造方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本開示の実施形態を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本開示の実施形態は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示の実施形態を制限するものではない。
【０００９】
本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本開示において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において、「表面処理層」とは、基材の表面に、表面処理によって形成される層を意味する。
本開示において、化合物又は基が特定の式（Ｘ）で表される場合、当該式（Ｘ）で表される化合物又は基をそれぞれ化合物（Ｘ）若しくは化合物Ｘ、及び基（Ｘ）若しくは基Ｘと記すことがある。
本開示において、オルガノ（ポリ）シロキサン残基とは、オルガノシロキサン残基又はオルガノポリシロキサン残基を意味する。
【００１０】
［組成物］
本開示の組成物は、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と反応性シリル基とを有する化合物（以下、「特定シラン化合物」とも記す。）と、ＵＶ吸収剤と、を含む。
本開示の組成物は、表面処理剤として基材に付与したときに、耐光性及び耐摩耗性に優れる表面処理層を形成できる。発明者は、特定シラン化合物が、表面処理層の充分な耐光性の面では課題があることを見出し、表面処理層の耐光性を向上させるための組成物の開発を試みた。本開示の組成物によれば、ＵＶ吸収剤の機能により耐光性を向上できると考えられる。また、本開示の組成物はＵＶ吸収剤を含むことにより、耐摩耗性にも優れる。
以下、組成物に含まれる各成分について詳述する。
（【００１１】以降は省略されています）

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