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公開番号2025061533
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-10
出願番号2025008316,2020188733
出願日2025-01-21,2020-11-12
発明の名称測色装置
出願人セイコーエプソン株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G01J 3/46 20060101AFI20250403BHJP(測定;試験)
要約【課題】測色装置では、発光部と受光部において発熱が顕著となり易く、装置内部で局所的に温度が上昇することで測色結果等に悪影響を及ぼす虞がある。
【解決手段】測色装置は、開口部を通って入射した光を処理する入射光処理部と、測定対象に向けて光を発する発光部と、入射光処理部が設けられた第1回路基板と、発光部が設けられた第2回路基板と、金属材料で形成され、第1回路基板及び第2回路基板が設けられるフレームアセンブリと、を備え、フレームアセンブリは、装置のベースを成すメインフレームと、第1回路基板を保持する第1サブフレームと、第2回路基板を保持する第2サブフレームと、を備え、第1サブフレーム及び第2サブフレームが、メインフレームに直接的または間接的に接触する。
【選択図】図17
特許請求の範囲【請求項１】
装置の底面に配置された開口部形成部材に形成され、測定対象から届く光を装置内部に取り入れる為の開口部と、
前記開口部を通って入射した光を処理する入射光処理部と、
前記測定対象に向けて光を発する発光部と、
前記入射光処理部が設けられた第１回路基板と、
前記発光部が設けられた第２回路基板と、
金属材料で形成され、前記第１回路基板及び前記第２回路基板が設けられるフレームアセンブリと、を備え、
前記フレームアセンブリは、装置のベースを成すメインフレームと、
前記第１回路基板を保持する第１サブフレームと、
前記第２回路基板を保持する第２サブフレームと、を備え、
前記第１サブフレーム及び前記第２サブフレームが、前記メインフレームに直接的または間接的に接触する、
ことを特徴とする測色装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
請求項１に記載の測色装置において、前記メインフレームは、前記底面及び前記底面に対し反対側の面である上面に対し交差する方向である第１方向と、前記第１方向と交差する方向であって前記第１方向から見て装置の長手方向となる第２方向とに延びるプレート部を有する、
ことを特徴とする測色装置。
【請求項３】
請求項２に記載の測色装置において、前記入射光処理部及び前記発光部に電力を供給するバッテリーを備え、
前記フレームアセンブリは、前記バッテリーを囲う形状を成すバッテリー保持部を備える、
ことを特徴とする測色装置。
【請求項４】
請求項３に記載の測色装置において、前記バッテリー保持部は、前記バッテリーを下方から支持する第１壁部と、
前記第１壁部と対向し、前記バッテリー保持部の前記上面側の壁部を形成する第２壁部と、
前記第２方向と交差する方向であって前記第１方向から見て装置の短手方向となる第３方向において前記バッテリーを挟んで位置する第３壁部及び第４壁部と、を備えて構成される、
ことを特徴とする測色装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載の測色装置において、前記上面に位置するとともに各種表示を行う表示部が接続される第３回路基板と、
前記バッテリーが接続される第４回路基板と、を備え、
前記第１方向において前記底面から前記上面に向かって順に、前記第２回路基板、前記第１回路基板、前記第４回路基板、前記バッテリー、及び前記第３回路基板が重畳する様に配置されている、
ことを特徴とする測色装置。
【請求項６】
請求項５に記載の測色装置において、前記第３回路基板及び前記第４回路基板は、前記メインフレームに直接的または間接的に接触する、
ことを特徴とする測色装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の測色装置において、前記入射光処理部は、入射した光のうちの所定波長成分を透過させる波長可変型の光学フィルターと、
前記光学フィルターを透過した光を受ける受光部と、を備える、
ことを特徴とする測色装置。
【請求項８】
請求項７に記載の測色装置において、前記光学フィルターは、ファブリペローエタロンである、
ことを特徴とする測色装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定対象から届く光をもとに測色する測色装置に関する。
続きを表示（約 3,600 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、測定対象から届く光をもとに測色する測色装置が知られている。測色装置には、例えば測定対象から届く光を分光フィルターに入射させ、分光フィルターで所定波長成分を取り出してフォトダイオードで受光し、フォトダイオードから出力される電圧を検出することで測色する測色装置がある。特許文献１には、その様な測色装置の一例が光学特性測定装置として開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
国際公開第２０１７／１９５５７３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記の様な測色装置では、発光部と受光部およびそれぞれを支持する基板において発熱が顕著となり易く、装置内部で局所的に温度が上昇することで測色結果等に悪影響を及ぼす虞がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決する為の、本発明の測色装置は、装置の底面に配置された開口部形成部材に形成され、測定対象から届く光を装置内部に取り入れる為の開口部と、前記開口部を通って入射した光を処理する入射光処理部と、前記測定対象に向けて光を発する発光部と、前記入射光処理部が設けられた第１回路基板と、前記発光部が設けられた第２回路基板と、前記第１回路基板及び前記第２回路基板を備えるとともに金属材料で形成されたフレームアセンブリと、を備え、前記フレームアセンブリは、装置のベースを成すメインフレームと、前記第１回路基板を保持する第１サブフレームと、前記第２回路基板を保持する第２サブフレームと、を備え、前記第１サブフレーム及び前記第２サブフレームが、前記メインフレームに直接的または間接的に接触することを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
測色装置の機能を示すブロック図。
光学フィルターデバイスの断面図。
測色装置を上方から見た斜視図。
測色装置の下方から見た斜視図。
測色装置を上方から見た平面図。
測色装置を下方から見た平面図。
本体アセンブリの斜視図。
各回路基板とバッテリーの配置を上方から示す斜視図。
各回路基板とバッテリーの配置を下方から示す斜視図。
上の図はパネル基板の上面を示す斜視図、下の図はパネル基板の下面を示す斜視図。
上の図はバッテリー制御基板の上面を示す斜視図、下の図はバッテリー制御基板の下面を示す斜視図。
上の図は受光部基板の上面を示す斜視図、下の図は受光部基板の下面を示す斜視図。
上の図は発光部基板の上面を示す斜視図、下の図は発光部基板の下面を示す斜視図。
フレームアセンブリを上方から見た斜視図。
フレームアセンブリを下方から見た斜視図。
フレームアセンブリを上方から見た斜視図。
フレームアセンブリの分解斜視図。
メインフレームを上方から見た斜視図。
受光部基板保持フレームと発光部基板保持フレームをＹ－Ｚ平面で切断した断面図。
図５におけるＡ－Ａ断面図。
図５におけるＢ－Ｂ断面図。
図５におけるＣ－Ｃ断面図。
測色装置を上方から見た平面図。
測色装置を上方から見た平面図。
測色装置の側面図。
測色装置を上方から見た平面図。
測色装置を上方から見た平面図。
測色装置を上方から見た平面図。
測色装置を上方から見た平面図。
測色装置を下方から見た斜視図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある図。
測色装置を下方から見た斜視図であって、シャッターユニットが開放位置にある図。
底部筐体を取り除いた測色装置を下方から見た斜視図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある図。
底部筐体を取り除いた測色装置を下方から見た斜視図であって、シャッターユニットが開放位置にある図。
図６におけるＤ－Ｄ断面の一部に相当する図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある図。
図６におけるＥ－Ｅ断面の一部に相当する図であって、上の図はシャッターユニットが閉塞位置にある図、下の図はシャッターユニットが開放位置にある図。
図６におけるＤ－Ｄ断面の一部に相当する図であって、底部筐体を省略し、シャッターユニットが閉塞位置より－Ｙ方向にある状態を示す図。
図６におけるＤ－Ｄ断面の一部に相当する図であって、底部筐体を省略し、シャッターユニットが開放位置にある状態を示す図。
シャッター保持部材の側面図。
シャッター部材の部分拡大斜視図。
シャッター保持部材及び板ばねの斜視図。
図６におけるＥ－Ｅ断面の一部に相当する図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある図。
図６におけるＥ－Ｅ断面の一部に相当する図であって、シャッターユニットが閉塞位置より－Ｙ方向にある状態を示す図。
シャッターユニットの部分拡大斜視図。
図５におけるＧ－Ｇ断面の一部に相当する図であって、シャッターユニットが開放位置にある状態を示す図。
図５におけるＧ－Ｇ断面の一部に相当する図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある状態を示す図。
シャッターユニットの動作領域とシャッター検出部の検出領域との関係を模式的に示す図。
シャッターユニットの他の実施形態を示す図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある状態を示す図。
シャッターユニットの他の実施形態を示す図であって、シャッターユニットが開放位置にある状態を示す図。
シャッターユニットの他の実施形態を示す図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある状態を示す図。
シャッターユニットの他の実施形態を示す図であって、シャッターユニットが開放位置にある状態を示す図。
電源オフ指令を受けた際の制御部の処理内容を示すフローチャート。
基準値を取得する際の制御部の処理内容を示すフローチャート。
測色を行う際の制御部の処理内容を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明を概略的に説明する。
第１の態様に係る測色装置は、装置の底面に配置された開口部形成部材に形成され、測定対象から届く光を装置内部に取り入れる為の開口部と、前記開口部を通って入射した光を処理する入射光処理部と、前記測定対象に向けて光を発する発光部と、前記入射光処理部が設けられた第１回路基板と、前記発光部が設けられた第２回路基板と、前記第１回路基板及び前記第２回路基板を備えるとともに金属材料で形成されたフレームアセンブリと、を備え、前記フレームアセンブリは、装置のベースを成すメインフレームと、前記第１回路基板を保持する第１サブフレームと、前記第２回路基板を保持する第２サブフレームと、を備え、前記第１サブフレーム及び前記第２サブフレームが、前記メインフレームに直接的または間接的に接触することを特徴とする。
【０００８】
本態様によれば、金属材料で形成されたフレームアセンブリはメインフレーム、第１サブフレーム、及び第２フレームを備え、前記第１回路基板を保持する前記第１サブフレーム及び前記第２回路基板を備える前記第２サブフレームが、装置のベースを成すメインフレームに直接的または間接的に接触するので、前記第１回路基板及び前記第２回路基板で生じた熱が、前記フレームアセンブリの全体に伝わることとなる。これにより、装置内部で局所的に温度が上昇することを抑制でき、測色結果等に悪影響を及ぼすことを抑制できる。
【０００９】
第２の態様は、第１の態様において、前記メインフレームは、前記底面及び前記底面に対し反対側の面である上面に対し交差する方向である第１方向と、前記第１方向と交差する方向であって前記第１方向から見て装置の長手方向となる第２方向とに延びるプレート部を有することを特徴とする。
本態様によれば、前記メインフレームが前記プレート部を有することで、表面積が増大し、放熱効率が向上する。
【００１０】
第３の態様は、第２の態様において、前記入射光処理部及び前記発光部に電力を供給するバッテリーを備え、前記フレームアセンブリは、前記バッテリーを囲う形状を成すバッテリー保持部を備えることを特徴とする。
（【００１１】以降は省略されています）

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