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公開番号2025035820
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-03-14
出願番号2023143106
出願日2023-09-04
発明の名称液体原料監視方法及びガス供給装置
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人
主分類C23C 16/448 20060101AFI20250307BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】原料貯留槽に貯留された液体原料の液量を監視する液体原料監視方法及びガス供給装置を提供する。
【解決手段】液体原料を貯留する原料貯留槽と、前記原料貯留槽に貯留された前記液体原料の液面レベルを検出する液面レベル検出部と、前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽に原料ガスを搬送するキャリアガスを供給するキャリアガス供給部と接続されるガス入口と、前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽から前記キャリアガスに伴って前記原料ガスを流出させるガス流出部と接続されるガス出口と、前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽に前記液体原料を供給する液体原料供給部と接続される原料入口と、を備える、ガス供給装置における液体監視方法であって、前記原料の使用量及び前記原料の補充量に基づいて、前記液体原料の残量を算出する工程と、算出した前記液体原料の残量から仮想センサの検出結果を推定する工程と、前記液面レベル検出部の検出結果及び推定した前記仮想センサの検出結果に基づいて、前記液体原料を監視する、液体原料監視方法。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
液体原料を貯留する原料貯留槽と、
前記原料貯留槽に貯留された前記液体原料の液面レベルを検出する液面レベル検出部と、
前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽に原料ガスを搬送するキャリアガスを供給するキャリアガス供給部と接続されるガス入口と、
前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽から前記キャリアガスに伴って前記原料ガスを流出させるガス流出部と接続されるガス出口と、
前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽に前記液体原料を供給する液体原料供給部と接続される原料入口と、を備える、ガス供給装置における液体監視方法であって、
前記原料の使用量及び前記原料の補充量に基づいて、前記液体原料の残量を算出する工程と、
算出した前記液体原料の残量から仮想センサの検出結果を推定する工程と、
前記液面レベル検出部の検出結果及び推定した前記仮想センサの検出結果に基づいて、前記液体原料を監視する工程と、を有する、
液体原料監視方法。
続きを表示（約 830 文字）【請求項２】
前記原料の使用量は、前記原料を使用する場合の時間と前記原料に関する係数から算出する、
請求項１に記載の液体原料監視方法。
【請求項３】
前記原料の補充量は、前記原料を補充する流量と補充時間とに基づいて算出する、
請求項１に記載の液体原料監視方法。
【請求項４】
前記液体原料の残量は、残量初期値、前記使用量及び前記補充量に基づいて算出する、
請求項１に記載の液体原料監視方法。
【請求項５】
前記液面レベル検出部の検出結果と、推定した前記仮想センサの検出結果とが一致しない場合、前記液面レベル検出部が故障したと判定する工程を有する、
請求項１に記載の液体原料監視方法。
【請求項６】
液体原料を貯留する原料貯留槽と、
前記原料貯留槽に貯留された前記液体原料の液面レベルを検出する液面レベル検出部と、
前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽に原料ガスを搬送するキャリアガスを供給するキャリアガス供給部と接続されるガス入口と、
前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽から前記キャリアガスに伴って前記原料ガスを流出させるガス流出部と接続されるガス出口と、
前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽に前記液体原料を供給する液体原料供給部と接続される原料入口と、
液量監視部と、を備え、
前記液量監視部は、
前記原料の使用量を算出する使用量算出部と、
前記原料の補充量を算出する補充量算出部と、
前記液体原料の残量を算出する残量算出部と、
算出した前記液体原料の残量から仮想センサの検出結果を推定する仮想センサ部と、
前記液面レベル検出部の検出結果及び推定した前記仮想センサの検出結果に基づいて、前記液体原料を監視する故障判定部と、を有する、
ガス供給装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、液体原料監視方法及びガス供給装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、液体原料の液面レベルの位置をステップ状に認識するレベル測定手段を有する原料貯留槽が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１４－７２８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一の側面では、本開示は、原料貯留槽に貯留された液体原料の液量を監視する液体原料監視方法及びガス供給装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、一の態様によれば、液体原料を貯留する原料貯留槽と、前記原料貯留槽に貯留された前記液体原料の液面レベルを検出する液面レベル検出部と、前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽に原料ガスを搬送するキャリアガスを供給するキャリアガス供給部と接続されるガス入口と、前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽から前記キャリアガスに伴って前記原料ガスを流出させるガス流出部と接続されるガス出口と、前記原料貯留槽に設けられ、前記原料貯留槽に前記液体原料を供給する液体原料供給部と接続される原料入口と、を備える、ガス供給装置における液体監視方法であって、前記原料の使用量及び前記原料の補充量に基づいて、前記液体原料の残量を算出する工程と、算出した前記液体原料の残量から仮想センサの検出結果を推定する工程と、前記液面レベル検出部の検出結果及び推定した前記仮想センサの検出結果に基づいて、前記液体原料を監視する工程と、を有する、液体原料監視方法が提供される。
【発明の効果】
【０００６】
一の側面によれば、原料貯留槽に貯留された液体原料の液量を監視する液体原料監視方法及びガス供給装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
ガス供給装置の構成例を示す概略図の一例。
原料貯留槽のレベル検出位置を説明する模式図の一例。
液量監視部の機能ブロック図の一例。
液体原料の液面レベルの変化の一例を示すグラフ。
液体原料補充動作の一例を示すフローチャート。
表示部に表示される表示画面の一例。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
【０００９】
〔ガス供給装置〕
本実施形態に係るガス供給装置３０の構成について、図１を用いて説明する。図１は、ガス供給装置３０の構成例を示す概略図の一例である。
【００１０】
ガス供給装置３０は、液体原料３１を加熱することにより発生した原料ガスをキャリアガスとともに基板処理装置の処理容器１０に供給する装置である。基板処理装置は、ガス供給装置３０から供給されたガスを用いて処理容器１０内の基板に所望の処理（例えば成膜処理）を行う。処理容器１０を有する基板処理装置は、例えば成膜装置であって、処理容器１０内の回転テーブルの上に配置した複数の基板を回転テーブルを回転させることにより公転させ、第１のガス（例えばガス供給装置３０から供給される原料ガス）が供給される領域と、第２のガス（例えば原料ガスと反応することにより基板の表面に所望の膜を形成する反応ガス）が供給される領域と、を順番に通過させて基板に対して成膜処理を行うセミバッチ式の成膜装置であってもよい。なお、処理容器１０を有する基板処理装置は、セミバッチ式の成膜装置に限られるものではなく、例えば、処理容器１０内の複数の基板に対して一度に処理を行うバッチ式の成膜装置であってもよく、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の成膜装置であってもよく、処理容器１０内に複数の載置台を備えた複数枚葉成膜装置であってもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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