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公開番号2025031076
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-03-07
出願番号2023137053
出願日2023-08-25
発明の名称静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法
出願人キヤノントッキ株式会社
代理人弁理士法人秀和特許事務所
主分類C23C 14/50 20060101AFI20250228BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】静電チャックに設けた切り欠き部を介して被吸着体を撮影することで静電チャックと被吸着体との吸着度を判定することが可能な静電チャックシステムを提供する。
【解決手段】被吸着体を吸着するための静電チャックであって、被吸着体を吸着する吸着面から反対側の面まで貫通する少なくとも1つの切り欠き部が設けられた静電チャックと、切り欠き部を介して被吸着体を撮影可能な撮影手段と、撮影手段により撮影された被吸着体の画像に基づいて、静電チャックと被吸着体の吸着度を判定する判定手段と、を有することを特徴とする静電チャックシステム。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
被吸着体を吸着するための静電チャックであって、前記被吸着体を吸着する吸着面から反対側の面まで貫通する少なくとも１つの切り欠き部が設けられた静電チャックと、
前記切り欠き部を介して前記被吸着体を撮影可能な撮影手段と、
前記撮影手段により撮影された前記被吸着体の画像に基づいて、前記静電チャックと前記被吸着体の吸着度を判定する判定手段と、
を有することを特徴とする静電チャックシステム。
続きを表示（約 780 文字）【請求項２】
前記判定手段の前記吸着度の判定は、前記被吸着体の前記静電チャックに対する吸着が良好であるか否かの判定である請求項１に記載の静電チャックシステム。
【請求項３】
前記判定手段の前記吸着度の判定は、前記被吸着体が前記静電チャックに吸着しているか前記静電チャックから剥離しているかの判定である請求項１に記載の静電チャックシステム。
【請求項４】
前記判定手段は、前記被吸着体に設けられた判定用のマークの画像に基づいて、前記吸着度を判定する請求項１～３のいずれか１項に記載の静電チャックシステム。
【請求項５】
前記判定手段は、前記被吸着体に設けられた判定用のマークの画像と予め定められたモデル画像とのパターンマッチングにより前記吸着度を判定する請求項４に記載の静電チャックシステム。
【請求項６】
前記判定手段は、前記被吸着体に設けられた判定用のマークの画像の特徴量に基づいて、前記吸着度を判定する請求項４に記載の静電チャックシステム。
【請求項７】
前記特徴量は、色度、輝度、及び彩度の少なくともいずれかである請求項６に記載の静電チャックシステム。
【請求項８】
前記切り欠き部は、前記静電チャックを貫通する貫通孔である請求項１～３のいずれか１項に記載の静電チャックシステム。
【請求項９】
前記切り欠き部は、矩形の前記静電チャックのコーナー部に設けられることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の静電チャックシステム。
【請求項１０】
前記切り欠き部は、前記静電チャックの中央部に設けられることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の静電チャックシステム。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法に関するものである。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置（有機ＥＬディスプレイ）の製造においては、有機ＥＬ表示装置を構成する有機発光素子（有機ＥＬ素子；ＯＬＥＤ）を形成する際に、成膜装置の蒸着源から蒸発した蒸着材料を、画素パターンが形成されたマスクを介して、基板に蒸着させることで、有機物層や金属層を形成する。
【０００３】
上向蒸着方式（デポアップ）の成膜装置において、蒸着源は成膜装置の真空容器の下部に設けられ、基板は真空容器の上部に配置され、基板の下面に蒸着される。このような上向蒸着方式の成膜装置の真空容器内において、基板はその下面の周辺部だけが基板ホルダによって保持されるので、基板がその自重によって撓み、これが蒸着精度を低下させる１つの要因となっている。上向蒸着方式以外の方式の成膜装置においても、また、基板の自重による撓みは生じる可能性がある。
【０００４】
基板の自重による撓みを低減するための方法として、基板の上面をその全体にわたって静電チャックで吸着することで、基板の撓みを低減することができる。特許文献１では、静電チャックで基板及びマスクを吸着する静電チャックシステムにおいて、基板やマスクのアライメントマークを撮影するためのアライメント用の切り欠き部や、基板と静電チャックとの吸着度を判定するための吸着度判定用の切り欠き部を静電チャックに設け、切り欠き部を介してカメラで撮影することでアライメントや吸着度の判定を行う技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０２０－０７０４８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１の技術では、静電チャックにアライメント用の切り欠き部と吸着度判定用の切り欠き部を別々に設けているが、吸着力の低下を抑制する観点では、静電チャックに設ける切り欠き部は少ない方がよい。また、特許文献１には、吸着度を判定する具体的な方法は開示されていない。
【０００７】
本発明は、静電チャックに設けた切り欠き部を介して被吸着体を撮影することで静電チャックと被吸着体との吸着度を判定することが可能な静電チャックシステムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、被吸着体を吸着するための静電チャックであって、前記被吸着体を吸着する吸着面から反対側の面まで貫通する少なくとも１つの切り欠き部が設けられた静電チャックと、
前記切り欠き部を介して前記被吸着体を撮影可能な撮影手段と、
前記撮影手段により撮影された前記被吸着体の画像に基づいて、前記静電チャックと前記被吸着体の吸着度を判定する判定手段と、
を有することを特徴とする静電チャックシステムである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、静電チャックに設けた切り欠き部を介して被吸着体を撮影することで静電チャックと被吸着体との吸着度を判定することが可能な静電チャックシステムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
実施例の電子デバイスの製造装置を示す図である。
実施例の成膜装置を示す図である。
実施例の静電チャックシステムのブロック図、静電チャックの断面図及び平面図である。
実施例の静電チャックの平面図である。
実施例のアライメントマークを撮影した画像の模式図である。
実施例の成膜処理の流れを示すフローチャートである。
実施例の電子デバイスを示す図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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