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公開番号2025027938
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-28
出願番号2023203844
出願日2023-12-01
発明の名称基板処理装置における監視方法
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250220BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】より高い監視精度で監視対象物を監視することができる技術を提供する。
【解決手段】基板を処理する基板処理装置のチャンバ内の監視対象物を監視する監視方法は、画像生成工程と、監視工程とを含む。画像生成工程において、監視用のカメラが、チャンバ内の複数の監視対象物のうちの少なくとも一つの第1監視対象物を含む監視領域からの光を受光して、監視画像データを生成する。監視工程において、画像生成工程の後に実行され、高解像度化処理の学習済みモデルを用いて、監視画像データを高解像度化した高解像度画像データを生成し、高解像度画像データに基づいて、第1監視対象物を監視する。
【選択図】図8
特許請求の範囲【請求項１】
基板を処理する基板処理装置のチャンバ内の監視対象物を監視する監視方法であって、
監視用のカメラが、前記チャンバ内の複数の監視対象物のうちの少なくとも一つの第１監視対象物を含む監視領域からの光を受光して、監視画像データを生成する画像生成工程と、
前記画像生成工程の後に実行され、高解像度化処理の学習済みモデルを用いて、前記監視画像データを高解像度化した高解像度画像データを生成し、前記高解像度画像データに基づいて、前記第１監視対象物を監視する監視工程と
を備える、基板処理装置における監視方法。
続きを表示（約 2,000 文字）【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置における監視方法であって、
前記監視工程において、前記複数の監視対象物にそれぞれ対応した高解像度化処理の複数の前記学習済みモデルのうち、前記第１監視対象物に対応した第１学習済みモデルを用いて、前記高解像度画像データを生成する、基板処理装置における監視方法。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置における監視方法であって、
前記画像生成工程において、前記監視用のカメラは、前記複数の監視対象物のうちの少なくとも前記第１監視対象物および第２監視対象物を含む前記監視領域からの光を受光して、前記監視画像データを生成し、
前記監視工程は、
前記監視画像データのうち前記第２監視対象物を含まず前記第１監視対象物を含む第１判定領域を、前記第１学習済みモデルを用いて高解像度化した第１高解像度画像データを、前記高解像度画像データとして生成し、前記監視画像データのうち前記第１監視対象物を含まず前記第２監視対象物を含む第２判定領域を、前記複数の学習済みモデルのうちの前記第２監視対象物に対応した第２学習済みモデルを用いて高解像度化した第２高解像度画像データを生成する工程と、
前記第１高解像度画像データに基づいて前記第１監視対象物を監視し、前記第２高解像度画像データに基づいて前記第２監視対象物を監視する工程と
を含む、基板処理装置における監視方法。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の基板処理装置における監視方法であって、
前記監視工程において、前記複数の監視対象物にそれぞれ設定された複数の解像度倍率のうち、前記第１監視対象物に設定された第１解像度倍率で前記監視画像データを高解像度化して前記高解像度画像データを生成する、基板処理装置における監視方法。
【請求項５】
請求項４に記載の基板処理装置における監視方法であって、
前記画像生成工程の前に実行され、前記第１学習済みモデルを生成する訓練工程をさらに備え、
前記訓練工程は、
前記監視用のカメラの解像度よりも高い解像度を有する高性能カメラが、前記複数の監視対象物のうち第２監視対象物よりも前記第１監視対象物にピントが合った状態で、前記第１監視対象物を複数のタイミングで撮像して、複数の高解像度学習データを生成する学習画像生成工程と、
前記第１解像度倍率の逆数以下の倍率で前記複数の高解像度学習データをダウンサンプリングして、複数の低解像度学習データに変換する低解像度化工程と、
前記複数の高解像度学習データおよび前記複数の低解像度学習データに基づいて、前記第１学習済みモデルを生成するモデル生成工程と
を備える、基板処理装置における監視方法。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置における監視方法であって、
前記学習画像生成工程において、前記高性能カメラは、前記監視用のカメラによる前記監視領域を撮像する、基板処理装置における監視方法。
【請求項７】
請求項５に記載の基板処理装置における監視方法であって、
前記学習画像生成工程では、変位可能な前記第１監視対象物が互いに異なる位置のそれぞれ位置している前記複数のタイミングで、前記第１監視対象物を撮像して、前記複数の高解像度学習データを生成する、基板処理装置における監視方法。
【請求項８】
請求項４に記載の基板処理装置における監視方法であって、
前記画像生成工程の前に実行され、前記学習済みモデルを生成する訓練工程をさらに備え、
前記訓練工程は、
前記チャンバ内の前記監視対象物の形状についての情報を含む３次元データに基づいて、高解像度学習データおよび低解像度学習データの複数の組を生成する学習画像生成工程と、
前記高解像度学習データおよび前記低解像度学習データの前記複数の組に基づいて、前記学習済みモデルを生成するモデル生成工程と
を備える、基板処理装置における監視方法。
【請求項９】
請求項１から請求項３のいずれか一つに記載の基板処理装置における監視方法であって、
前記監視用のカメラは、前記監視対象物までの距離を示す深度画像データを前記監視画像データとして生成する深度カメラを含む、基板処理装置における監視方法。
【請求項１０】
請求項１から請求項３のいずれか一つに記載の基板処理装置における監視方法であって、
前記監視用のカメラは、可視光を受光する撮像カメラを含む、基板処理装置における監視方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板処理装置における監視方法に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体デバイスなどの製造工程においては、基板に対して純水、フォトレジスト液およびエッチング液等の種々の処理液を供給して、洗浄処理およびレジスト塗布処理などの種々の基板処理を行っている。これらの処理液を使用した基板処理を行う装置としては、基板保持部が基板を水平姿勢で回転させつつ、その基板の表面にノズルから処理液を吐出する基板処理装置が広く用いられている。
【０００３】
このような基板処理装置においては、ノズルの位置が適切であるか否かの監視が行われる。例えば特許文献１では、カメラなどの撮像手段を設けて、ノズルの位置を監視している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１５－１７３１４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板に対する処理を適切に行うためには、ノズルのみならず、より多くの監視対象を監視することが望ましい。
【０００６】
例えば、基板保持部は複数のチャックピンを含む。複数のチャックピンは基板の周縁に沿って等間隔に設けられる。各チャックピンは、基板の周縁に当接する保持位置と、基板から離れた解除位置との間で変位可能に設けられる。チャックピンが保持位置に位置することで、基板保持部が基板を保持することができる。基板保持部が基板を適切に保持できなければ、基板に対する処理を適切に行うことができないので、基板保持部の複数のチャックピンの位置を監視してもよい。
【０００７】
複数のチャックピンを含む監視領域からの光をカメラが受光した場合、そのカメラによって生成された画像データには複数のチャックピンが含まれる。カメラが撮像カメラであれば、実空間でのカメラとチャックピンとの距離が、複数のチャックピンの間で互いに相違する場合、撮像画像データ内における複数のチャックピンの輪郭の明瞭性が互いに相違し得る。例えば、カメラに近いチャックピンは大きいサイズで撮像画像データに含まれるので、当該チャックピンの輪郭形状は明瞭になりやすい。一方で、カメラから遠いチャックピンは小さいサイズで撮像画像データに含まれるので、当該チャックピンの輪郭形状は不明瞭になりやすい。また、実空間においてチャックピンがカメラのレンズのフォーカス位置から離れるほど、撮像画像データにおいてチャックピンの輪郭形状は不明瞭になりやすい。
【０００８】
また、カメラが深度カメラである場合、カメラが生成した画像データには、監視領域内の物体までの距離が画素ごとに含まれる。深度カメラの測定精度はあまり高くないので、深度画像データにおける物体の輪郭形状は不明瞭になり得る。
【０００９】
そして、輪郭形状が不明瞭な監視対象物を含んだ画像データに基づいて、当該監視対象物を監視すると、その監視精度は低下し得る。
【００１０】
そこで、本開示は、より高い監視精度で監視対象物を監視することができる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

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