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公開番号2025025720
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-21
出願番号2023130783
出願日2023-08-10
発明の名称光ファイバの製造装置および光ファイバの製造方法
出願人住友電気工業株式会社
代理人弁理士法人信栄事務所
主分類C03B 37/10 20060101AFI20250214BHJP(ガラス;鉱物またはスラグウール)
要約【課題】水素ガスを用いて冷却する冷却装置への大気の流入を抑制する光ファイバの製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ母材を加熱溶融して線引する線引炉と、線引きされたガラスファイバを冷却する冷却装置と、前記冷却装置の上端に設けられた予備室と、前記冷却装置内に水素ガスを供給する水素ガス供給装置と、前記予備室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、を備えている、光ファイバの製造装置。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
光ファイバ母材を加熱溶融して線引する線引炉と、
線引きされたガラスファイバを冷却する冷却装置と、
前記冷却装置の上端に設けられた予備室と、
前記冷却装置内に水素ガスを供給する水素ガス供給装置と、
前記予備室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、
を備えている、光ファイバの製造装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記冷却装置の上端に積層された複数の前記予備室を備えており、
前記不活性ガス供給装置は、複数の前記予備室の各々へ前記不活性ガスを供給するように構成されている、請求項１に記載の光ファイバの製造装置。
【請求項３】
前記予備室内の酸素濃度を測定する酸素濃度計を備えている、請求項１または請求項２に記載の光ファイバの製造装置。
【請求項４】
前記水素ガス供給装置は、前記酸素濃度計により測定された酸素濃度の値が所定の値を超えた場合、前記冷却装置への水素ガスの供給を停止する、請求項３に記載の光ファイバの製造装置。
【請求項５】
前記予備室は、前記冷却装置の全体を覆うように構成されている、請求項１または請求項２に記載の光ファイバの製造装置。
【請求項６】
光ファイバ母材を加熱溶融して線引する線引炉と
線引きされたガラスファイバを冷却する冷却装置と、
前記冷却装置内に水素ガスを供給する水素ガス供給装置と、
前記冷却装置内に供給された水素ガスを回収する水素ガス回収装置と、
を備えており、
前記冷却装置の下部には、前記冷却装置内の前記水素ガスを回収するための水素ガス回収口が設けられている、光ファイバの製造装置。
【請求項７】
前記冷却装置の上端に設けられた予備室と、
前記予備室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、
を備えている、請求項６に記載の光ファイバの製造装置。
【請求項８】
前記予備室は、前記冷却装置の全体を覆うように構成されている、請求項７に記載の光ファイバの製造装置。
【請求項９】
光ファイバ母材を加熱溶融して線引する線引き工程と、
線引きされたガラスファイバを水素ガスが供給された冷却装置内に通過させることにより前記ガラスファイバを冷却する冷却工程と、
前記冷却工程の前に、前記ガラスファイバを、前記冷却装置の上端に配置され不活性ガスが供給された予備室内に通過させることにより前記ガラスファイバの周囲の大気を前記不活性ガスで置換する置換工程と、を含む、光ファイバの製造方法。
【請求項１０】
光ファイバ母材を加熱溶融して線引する線引き工程と、
線引きされたガラスファイバを水素ガスが供給された冷却装置内に通過させることにより前記ガラスファイバを冷却する冷却工程と、
前記冷却装置の下部において、前記冷却装置内の前記水素ガスを回収する回収工程と、を含む、光ファイバの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、光ファイバの製造装置および光ファイバの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１および特許文献２は、線引炉より出線したガラスファイバをヘリウム（Ｈｅ）ガスが供給された冷却装置にて冷却する光ファイバの線引装置を開示している。
【０００３】
特許文献３は、線引炉より出線したガラスファイバを水素ガスが供給された冷却装置にて冷却する光ファイバの線引装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０００－１０３６４９号公報
特開２００５－１１９９０１号公報
特開平６－１５７０６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述のように、光ファイバの製造装置において、ガラスファイバを冷却する不活性ガスとして、ヘリウムガスの代わりに、入手しやすく熱伝導率が高い水素ガスを用いることが検討されている。しかしながら、水素ガスは可燃性ガスであり、大気中での水素の爆発濃度範囲は４～７５％であり、防爆対策を実施することが求められる。
【０００６】
本開示の目的は、水素ガスを用いて冷却する冷却装置への大気の流入を抑制する光ファイバの製造装置および製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の光ファイバの製造装置は、
光ファイバ母材を加熱溶融して線引する線引炉と、
線引きされたガラスファイバを冷却する冷却装置と、
前記冷却装置の上端に設けられた予備室と、
前記冷却装置内に水素ガスを供給する水素ガス供給装置と、
前記予備室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、
を備えている。
【発明の効果】
【０００８】
本開示によれば、水素ガスを用いて冷却する冷却装置への大気の流入を抑制する光ファイバの製造装置および製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
図１は、第一実施形態に係る光ファイバの製造装置の構成を示す概念図である。
図２は、図１の光ファイバの製造装置の予備室および冷却装置の構成例を示す模式図である。
図３は、変形例１に係る光ファイバの製造装置の予備室および冷却装置の構成例を示す模式図である。
図４は、変形例２に係る光ファイバの製造装置の予備室および冷却装置の構成例を示す模式図である。
図５は、変形例３に係る光ファイバの製造装置の予備室および冷却装置の構成例を示す模式図である。
図６は、第二実施形態に係る光ファイバの製造装置の構成を示す概念図である。
図７は、図６の光ファイバの製造装置の冷却装置の構成例を示す模式図である。
図８は、変形例４に係る光ファイバの製造装置の予備室および冷却装置の構成例を示す模式図である。
図９は、変形例５に係る光ファイバの製造装置の予備室および冷却装置の構成例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［本開示の実施形態の説明］
最初に本開示の実施形態の内容を列記して説明する。
本開示の光ファイバの製造装置は、
（１）光ファイバ母材を加熱溶融して線引する線引炉と、
線引きされたガラスファイバを冷却する冷却装置と、
前記冷却装置の上端に設けられた予備室と、
前記冷却装置内に水素ガスを供給する水素ガス供給装置と、
前記予備室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、
を備えている。
（【００１１】以降は省略されています）

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