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公開番号2025023381
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-17
出願番号2023127448
出願日2023-08-04
発明の名称硬化性組成物、アルカリ現像性レジスト、および硬化物
出願人株式会社カネカ
代理人
主分類C08L 83/14 20060101AFI20250207BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】本発明では、基板積層体の製造に用いた際、冷熱衝撃試験における信頼性を改善させた硬化性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】下記(α)～(δ)の化合物のヒドロシリル化反応物であり、(α)の物質量をαモル、(β)の物質量をβモルとした場合、0.25≦β/α≦1.5である変性ポリ環状オルガノシロキサン化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物により上記課題を解決することができる。
(α)1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する環状シロキサン化合物、
(β)両末端にSiH基を持つ直鎖シロキサン化合物、
(γ)ジアリルイソシアヌレートおよび/またはフェノール性水酸基を有するアルケニル化合物とからなる群から選ばれる少なくとも一種、
(δ)1分子中に重合性官能基を有するアルケニル化合物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
下記（α）～（δ）の化合物のヒドロシリル化反応物であり、（α）の物質量をαモル、（β）の物質量をβモルとした場合、０．２５≦β／α≦１．５である変性ポリ環状オルガノシロキサン化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物：
（α）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する環状シロキサン化合物、
（β）両末端にＳｉＨ基を持つ直鎖状シロキサン化合物、
（γ）下記式（Ｘ１）で表される構造を有するアルケニル化合物および／またはフェノール性水酸基を有するアルケニル化合物とからなる群から選ばれる少なくとも一種、
（δ）１分子中に重合性官能基を有するアルケニル化合物。
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続きを表示（約 470 文字）【請求項２】
重合性官能基を少なくとも２個有することを特徴とする請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項３】
反応に用いられる直鎖状シロキサン化合物が１，１，５，５－テトラメチル－３，３－ジフェニルトリシロキサンである請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項４】
さらに、アルコール性水酸基を有するアルケニル化合物との反応物である請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項５】
前記変性ポリ環状オルガノシロキサン化合物のＳｉＨ価が１．２０ｍｍｏｌ／ｇ以下である請求項１に記載の硬化性組成物
【請求項６】
（メタ）アクリロイル基を２つ以上含む化合物を含む請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項７】
重合開始剤を含む請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項８】
請求項１～７のいずれか一項に記載の硬化性組成物を用いたアルカリ現像性レジスト。
【請求項９】
請求項１～７のいずれか一項に記載の硬化性組成物を硬化してなる、硬化物。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明はアルカリ現像によりパターンを与える得るアルカリ現像性レジスト、硬化物、および硬化性組成物に関するものである。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
ＣＭＯＳセンサやＣＣＤセンサ等のイメージセンサは、デジタルカメラやスマートフォン等に使用されており、近年では、自動車や工場の監視カメラの普及に伴い使用量が増大するとともに、小型化・高精細化がますます要求されてきている。
【０００３】
イメージセンサを構成する基板積層体は、例えば、受光素子を有する半導体素子基板とガラス基板とが接着剤で貼り合わされた中空構造を有する。中空構造を有する基板積層体は、例えば、半導体素子基板上の周縁にエポキシ樹脂やアクリル樹脂等の液状接着剤を塗布し、封止基板となるガラスを設置した後に加熱して液状接着剤を硬化させて得られる。また、パターン精度の向上を目的として液状接着剤の代わりに感光性組成物を用いる方法も検討されている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、第１基板（例えばガラス基板）上に感光性組成物を塗布することにより塗膜を形成する工程と、得られた塗膜をパターン化する工程と、パターン化された塗膜（以下、「パターン膜」と記載することがある）を介して第１基板と第２基板（例えば半導体素子基板）とを積層することにより積層物を形成する工程と、得られた積層物を加熱して第１基板と第２基板とを接着する工程とを備える基板積層体の製造方法が記載されている。また、特許文献１には、感光性組成物がカチオン重合性化合物と光酸発生剤（光カチオン重合開始剤）とを含むこと、及び上記塗膜をパターン化する工程において、フォトマスクを通して塗膜に光を照射することで、塗膜の露光部を半硬化状態とした後、現像することにより、半硬化状態のパターン膜を形成することが記載されている。以下、半硬化状態のパターン膜を形成することを「Ｂステージ化」と記載することがある。また、半硬化状態のパターン膜を介して第１基板と第２基板とが積層された積層物を加熱することにより、パターン膜を更に硬化させて、第１基板と第２基板とを接着することを、「Ｃステージ化」と記載することがある。なお、「半硬化状態」とは、上記積層物を加熱する工程においてパターン膜の硬化が更に進行する余地が残された状態をさす。
【０００５】
イメージセンサ等に使用される基板積層体は、高い耐久性が求められており、特に冷熱衝撃試験における信頼性（硬化物のクラック、剥離等）が求められている。しかし、特許文献１に記載の技術では、製造した基板積層体の冷熱衝撃試験における信頼性において改善の余地が残されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２０１９－６２０４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記に鑑み、本発明では、基板積層体の製造に用いた際、冷熱衝撃試験における信頼性を改善させた硬化性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、前述の課題解決のために鋭意検討を行った結果、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち本発明は、下記構成を成す。
１）．下記（α）～（δ）の化合物のヒドロシリル化反応物であり、（α）の物質量をαモル、（β）の物質量をβモルとした場合、０．２５≦β／α≦１．５である変性ポリ環状オルガノシロキサン化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物：
（α）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する環状シロキサン化合物、
（β）両末端にＳｉＨ基を持つ直鎖シロキサン化合物、
（γ）下記式（Ｘ１）で表される構造を有するアルケニル化合物および／またはフェノール性水酸基を有するアルケニル化合物とからなる群から選ばれる少なくとも一種、
（δ）１分子中に重合性官能基を有するアルケニル化合物。
【００１０】
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２）．重合性官能基を少なくとも２個有することを特徴とする１）に記載の硬化性組成物。
（【００１１】以降は省略されています）

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