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公開番号
2025020943
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-02-13
出願番号
2023124586
出願日
2023-07-31
発明の名称
圧電薄膜、圧電薄膜素子、及び圧電トランスデューサ
出願人
TDK株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
H10N
30/853 20230101AFI20250205BHJP()
要約
【課題】圧電特性に優れた圧電薄膜の提供。
【解決手段】圧電薄膜3は、ペロブスカイト構造を有する金属酸化物を含む。金属酸化物は、ビスマス、カリウム、チタン、マグネシウム、鉄、及び元素Mを含む。元素Mは、ガリウム及びコバルトからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素である。少なくとも一部の金属酸化物は、正方晶及び直方晶からなる群より選ばれる少なくとも一つの結晶である。結晶の(001)面は、圧電薄膜3の表面の法線方向dnにおいて配向している。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
ペロブスカイト構造を有する金属酸化物を含む圧電薄膜であって、
前記金属酸化物が、ビスマス、カリウム、チタン、マグネシウム、鉄、及び元素Mを含み、
前記元素Mが、ガリウム及びコバルトからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素であり、
少なくとも一部の前記金属酸化物が、正方晶及び直方晶からなる群より選ばれる少なくとも一つの結晶であり、
前記結晶の(001)面が、前記圧電薄膜の表面の法線方向において配向している、
圧電薄膜。
続きを表示(約 1,300 文字)
【請求項2】
前記金属酸化物が、下記化学式1で表され、
下記化学式1中のx、y及びzそれぞれが、正の実数であり、
x+y+zが1であり、
下記化学式1中のαが、0より大きく1未満であり、
下記化学式1中のβが、0より大きく1未満であり、
下記化学式1中のγが、0.05以上0.40以下であり、
下記化学式1中のMが、Ga
1-δ
Co
δ
と表され、
δが、0以上1以下である、
請求項1に記載の圧電薄膜。
x(Bi
1-α
K
α
)TiO
3
‐yBi(Ti
1-β
Mg
β
)O
3
‐zBi(Fe
1-γ
M
γ
)O
3
(1)
【請求項3】
三次元の座標系が、X軸、Y軸、及びZ軸から構成され、
前記座標系における任意の座標が、(X,Y,Z)と表され、
前記座標系における座標(x,y,z)は、前記化学式1中のx、y、及びzを示し、
前記座標系における座標Aは、(0.250, 0.005, 0.700)であり、
前記座標系における座標Bは、(0.450, 0.250, 0.300)であり、
前記座標系における座標Cは、(0.200, 0.500, 0.300)であり、
前記座標系における座標Dは、(0.005, 0.250, 0.700)であり、
前記座標(x,y,z)は、頂点が前記座標A、前記座標B、前記座標C、及び前記座標Dである四角形以内に位置する、
請求項2に記載の圧電薄膜。
【請求項4】
エピタキシャル膜である、
請求項1に記載の圧電薄膜。
【請求項5】
強誘電性薄膜である、
請求項1に記載の圧電薄膜。
【請求項6】
請求項1に記載の圧電薄膜を備える、
圧電薄膜素子。
【請求項7】
結晶質基板と、
前記結晶質基板に直接又は間接的に重なる前記圧電薄膜と、
を備える、
請求項6に記載の圧電薄膜素子。
【請求項8】
結晶質基板と、
前記結晶質基板に直接又は間接的に重なる電極層と、
前記電極層に直接又は間接的に重なる前記圧電薄膜と、
を備える、
請求項6に記載の圧電薄膜素子。
【請求項9】
電極層と、
前記電極層に直接又は間接的に重なる前記圧電薄膜と、
を備える、
請求項6に記載の圧電薄膜素子。
【請求項10】
少なくとも一つの中間層を更に備え、
前記中間層が、前記結晶質基板と前記電極層との間に配置されている、
請求項8に記載の圧電薄膜素子。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、圧電薄膜、圧電薄膜素子、及び圧電トランスデューサに関する。
続きを表示(約 2,200 文字)
【背景技術】
【0002】
圧電体は、種々の目的に応じて様々な圧電素子に加工される。例えば、圧電アクチュエータは、圧電体に電圧を加えて圧電体を変形させる逆圧電効果により、電圧を力に変換する。例えば、圧電センサは、圧電体に圧力を加えて圧電体を変形させる圧電効果により、力を電圧に変換する。これらの圧電素子は、様々な電子機器に搭載される。近年の市場では、電子機器の小型化及び性能の向上が要求されるため、圧電薄膜を用いた圧電素子(圧電薄膜素子)が盛んに研究されている。しかしながら、圧電体が薄いほど、圧電効果及び逆圧電効果が得られ難いため、薄膜の状態において優れた圧電特性を有する圧電体の開発が期待されている。
【0003】
従来、圧電体として、ペロブスカイト型強誘電体であるジルコン酸チタン酸鉛(いわゆるPZT)が多用されてきた。しかしながら、PZTは、人体や環境を害する鉛を含むため、PZTの代替として、無鉛(Lead-free)の圧電体の開発が期待されている。例えば、下記の非特許文献1には、無鉛の圧電体の一例として、BaTiO
3
系材料が記載されている。BaTiO
3
系材料は、無鉛の圧電体の中でも比較的優れた圧電特性を有し、圧電薄膜素子への応用が特に期待されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
Yiping GUO et al., “ThicknessDependence of Electrical Properties of Highly (100)-Oriented BaTiO3Thin Films Prepared by One-Step Chemical Solution Deposition” Japanese Journalof Applied Physics, Vol.45, No.2A, 2006, pp.855-859
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明の一側面の目的は、圧電特性に優れた圧電薄膜、当該圧電薄膜を含む圧電薄膜素子、及び圧電薄膜又は圧電薄膜素子を含む圧電トランスデューサを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
例えば、本発明の一側面は、下記の[1]~[5]のいずれか一つに記載の圧電薄膜、下記の[6]~[14]のいずれか一つの記載の圧電薄膜素子、及び下記の[15]及び[16]のいずれか一つの記載の圧電トランスデューサに関する。
【0007】
[1] ペロブスカイト構造を有する金属酸化物を含む圧電薄膜であって、
金属酸化物が、ビスマス、カリウム、チタン、マグネシウム、鉄、及び元素Mを含み、
元素Mが、ガリウム及びコバルトからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素であり、
少なくとも一部の金属酸化物が、正方晶(tetragonal crystal)及び直方晶(orthorhombic crystal)からなる群より選ばれる少なくとも一つの結晶であり、
結晶の(001)面が、圧電薄膜の表面の法線方向において配向している、
圧電薄膜。
【0008】
[2] 金属酸化物が、下記化学式1で表され、
下記化学式1中のx、y及びzそれぞれが、正の実数であり、
x+y+zが1であり、
下記化学式1中のαが、0より大きく1未満であり、
下記化学式1中のβが、0より大きく1未満であり、
下記化学式1中のγが、0.05以上0.40以下であり、
下記化学式1中のMが、Ga
1-δ
Co
δ
と表され、
δが、0以上1以下である、
[1]に記載の圧電薄膜。
x(Bi
1-α
K
α
)TiO
3
‐yBi(Ti
1-β
Mg
β
)O
3
‐zBi(Fe
1-γ
M
γ
)O
3
(1)
【0009】
[3] 三次元の座標系が、X軸、Y軸、及びZ軸から構成され、
座標系における任意の座標が、(X,Y,Z)と表され、
座標系における座標(x,y,z)は、化学式1中のx、y、及びzを示し、
座標系における座標Aは、(0.250, 0.005, 0.700)であり、
座標系における座標Bは、(0.450, 0.250, 0.300)であり、
座標系における座標Cは、(0.200, 0.500, 0.300)であり、
座標系における座標Dは、(0.005, 0.250, 0.700)であり、
座標(x,y,z)は、頂点が座標A、座標B、座標C、及び座標Dである四角形以内に位置する、
[2]に記載の圧電薄膜。
【0010】
[4] エピタキシャル膜である、
[1]~[3]のいずれか一つに記載の圧電薄膜。
(【0011】以降は省略されています)
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