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公開番号2025017152
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-05
出願番号2023120071
出願日2023-07-24
発明の名称光ファイバの製造方法
出願人住友電気工業株式会社
代理人弁理士法人信栄事務所
主分類C03B 37/027 20060101AFI20250129BHJP(ガラス;鉱物またはスラグウール)
要約【課題】炉心管の劣化および光ファイバの断線を抑制可能な光ファイバの製造方法を提供する。
【解決手段】光ファイバの製造方法は、カーボン製の炉心管を備えた線引炉を用いて光ファイバを製造する光ファイバの製造方法であって、不活性ガスを主成分として酸素濃度が3ppm以上20ppm以下であるガスを炉心管の内部に供給しながら光ファイバの線引きを行う。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
カーボン製の炉心管を備えた線引炉を用いて光ファイバを製造する光ファイバの製造方法であって、
不活性ガスを主成分として酸素濃度が３ｐｐｍ以上２０ｐｐｍ以下であるガスを前記炉心管の内部に供給しながら前記光ファイバの線引きを行う、光ファイバの製造方法。
続きを表示（約 330 文字）【請求項２】
前記ガスは、酸素濃度が５ｐｐｍ以上である、請求項１に記載の光ファイバの製造方法。
【請求項３】
前記ガスは、酸素濃度が１０ｐｐｍ以下である、請求項１または請求項２に記載の光ファイバの製造方法。
【請求項４】
前記炉心管の内部に供給された前記ガスを回収し、回収された前記ガスを精製した後、前記炉心管の内部に供給する、請求項１に記載の光ファイバ製造方法。
【請求項５】
前記不活性ガスは、ヘリウムガスである、請求項１または請求項４に記載の光ファイバの製造方法。
【請求項６】
前記炉心管の内部の温度は、２２００℃以下である、請求項１または請求項４に記載の光ファイバの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、光ファイバの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,000 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、不活性ガスのガス雰囲気でガラス母材を加熱延伸して光ファイバに線引きすることを開示している。また、特許文献１では、線引炉の上端開口部とガラス母材との間の隙間をシールガスによりシールするシール機構を開示している。シールガスのガス流量は、酸素濃度が５０ｐｐｍ以下になるように制御されている。
【０００３】
特許文献２は、不活性ガスに酸素ガスとフッ素ガスを混合したガス雰囲気でガラス母材を加熱延伸して光ファイバに線引きすることを開示している。
【０００４】
非特許文献１は、酸素濃度が３ｐｐｍ以下の高純度ヘリウムガスを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１２－１４８９２４号公報
特開昭６０－１２２７４３号公報
【非特許文献】
【０００６】
ヘリウム（Ｈｅ）取扱産業ガス岩谷産業株式会社産業ガス総合サイト、［ｏｎｌｉｎｅ］，［令和５年４月２０日検索］，インターネットｈｔｔｐｓ：／／ｉｎｄｕｓｔｒｙ．ｉｗａｔａｎｉ．ｃｏ．ｊｐ／ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ－ｇａｓ／ｌｉｎｅｕｐ／３５９／
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、線引炉の炉心管の材料としては主にカーボンが使われている。このカーボンの酸化を防ぐために、炉心管内に供給されるガスとして酸素を含まない高純度の不活性ガスが使用されている。しかしながら、高純度の不活性ガスは高価である。
【０００８】
本開示は、炉心管の劣化および光ファイバの断線を抑制可能な光ファイバの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本開示の光ファイバの製造方法は、
カーボン製の炉心管を備えた線引炉を用いて光ファイバを製造する光ファイバの製造方法であって、
不活性ガスを主成分として酸素濃度が３ｐｐｍ以上２０ｐｐｍ以下であるガスを前記炉心管の内部に供給しながら前記光ファイバの線引きを行う。
【発明の効果】
【００１０】
本開示によれば、炉心管の劣化および光ファイバの断線を抑制可能な光ファイバの製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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