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公開番号2025009972
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-20
出願番号2024102995
出願日2024-06-26
発明の名称弁アセンブリのための方法および装置
出願人エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー
代理人個人,個人,個人
主分類C23C 16/452 20060101AFI20250109BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】本開示は、弁アセンブリのための方法および装置に関する。
【解決手段】本技術の様々な実施形態は、UV光を使用して化学物質を活性化する弁アセンブリを提供し得る。弁アセンブリは、二次弁マニホールドに接続された一次弁マニホールドを含む。透明なコネクタが、一次弁マニホールドと二次弁マニホールドとの間に配置されてもよい。UV光は、透明なコネクタに隣接して配置されてもよい。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
一次弁マニホールドであって、
主チャネルと、
接続点で前記主チャネルに接続された第一の端、および第二の端を含む第一のサブチャネルと、
前記接続点で前記主チャネルおよび前記第一のサブチャネルに接続された第三の端、および第四の端を含む第二のサブチャネルと、を備える一次弁マニホールドと、
前記弁マニホールドに接続され、かつ第一のガスチャネルを備える第一のコネクタであって、透明材料から形成される、第一のコネクタと、
前記第一のコネクタに隣接する第一の紫外(UV)光源と、
前記第一のコネクタに接続され、かつ第二のガスチャネルに接続された第一の複数の入口を備える、第一の二次マニホールドと、を備える、装置。
続きを表示(約 750 文字)【請求項2】
前記第一のガスチャネルが、前記第一のサブチャネルの前記第二の端に接続される、請求項1に記載の装置。
【請求項3】
前記第一のガスチャネルが前記第二のガスチャネルに接続される、請求項2に記載の装置。
【請求項4】
前記一次弁マニホールドに接続され、かつ第三のガスチャネルを備える、第二のコネクタをさらに備え、前記第二のコネクタが透明材料から形成される、請求項1に記載の装置。
【請求項5】
前記第二のコネクタに接続され、かつ接続された第四のガスチャネルと、前記第四のガスチャネルに接続された第二の複数の入口とを備える、第二の二次マニホールドをさらに備える、請求項4に記載の装置。
【請求項6】
前記第一の複数の入口からの1つの入口が、第一の化学物質を収容する第一の原料容器に連結するように構成され、前記第二の複数の入口からの1つの入口が、第二の化学物質を収容する第二の原料容器に連結するように構成され、前記第一の化学物質が前記第二の化学物質とは異なる、請求項5に記載の装置。
【請求項7】
前記第二のコネクタに隣接する第二のUV光源をさらに備える、請求項4に記載の装置。
【請求項8】
前記第二のUV光源が、前記第三のガスチャネルの中にUV光を放射するように位置付けられる、請求項7に記載の装置。
【請求項9】
前記第一のUV光源が、前記第一のガスチャネルの中にUV光を放射するように位置付けられる、請求項1に記載の装置。
【請求項10】
前記透明材料が石英またはサファイアのうちの一つである、請求項1に記載の装置。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本開示は概して、弁アセンブリのための方法および装置に関する。より具体的には、本開示は、半導体製造ツールで使用される弁アセンブリに関する。
続きを表示(約 1,300 文字)【背景技術】
【0002】
弁アセンブリを使用して、化学物質および/または不活性ガスを反応チャンバの中にパルスし得る。弁アセンブリはまた、化学物質を反応チャンバの中に流す前に、複数の化学物質を混合するように構成され得る。一部の熱ALD(原子層堆積)反応は、熱的手段のみによって達成することが制限されるかまたは困難であり得る。したがって、化学物質を反応チャンバの中に流す前に、化学物質の分子を活性化して、化学物質の反応性を高めることが望ましい場合がある。また、ウエハ上の活性表面部位を強化するためにOHラジカルを生成することが望ましい場合がある。
【発明の概要】
【0003】
本技術の様々な実施形態は、UV光を使用して化学物質を活性化する弁アセンブリを提供し得る。弁アセンブリは、二次弁マニホールドに接続された一次弁マニホールドを含む。透明なコネクタが、一次弁マニホールドと二次弁マニホールドとの間に配置されてもよい。UV光は、透明なコネクタに隣接して配置されてもよい。
【0004】
一態様によれば、装置は、主チャネルと、接続点で主チャネルに接続された第一の端および第二の端を備える第一のサブチャネルと、接続点で主チャネルおよび第一のサブチャネルに接続された第三の端および第四の端を備える第二のサブチャネルとを備える一次弁マニホールドと、弁マニホールドに接続され、かつ第一のガスチャネルを備える第一のコネクタであって、透明材料から形成されている第一のコネクタと、第一のコネクタに隣接する第一の紫外線(UV)光源と、第一のコネクタに接続され、かつ第二のガスチャネルに接続された第一の複数の入口を備える第一の二次マニホールドと、を備える。
【0005】
上記の装置の一実施形態では、第一のガスチャネルは、第一のサブチャネルの第二の端に接続される。
【0006】
上記の装置の一実施形態では、第一のガスチャネルは第二のガスチャネルに接続される。
【0007】
一実施形態では、上記の装置は、一次弁マニホールドに接続され、かつ第三のガスチャネルを備える第二のコネクタをさらに備え、第二のコネクタは透明材料から形成される。
【0008】
一実施形態では、上記の装置は、第二のコネクタに接続され、かつ接続された第四のガスチャネルと、第四のガスチャネルに接続された第二の複数の入口とを備える、第二の二次マニホールドをさらに備える。
【0009】
上記の装置の一実施形態では、第一の複数の入口からの1つの入口は、第一の化学物質を収容する第一の原料容器に連結するように構成され、第二の複数の入口からの1つの入口は、第二の化学物質を収容する第二の原料容器に連結するように構成され、第一の化学物質は、第二の化学物質とは異なる。
【0010】
一実施形態では、上記の装置は、第二のコネクタに隣接する第二のUV光源をさらに備える。
(【0011】以降は省略されています)

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