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公開番号2024160480
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-14
出願番号2023075520
出願日2023-05-01
発明の名称プラズマ処理装置
出願人日新電機株式会社
代理人弁理士法人 HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
主分類H05H 1/46 20060101AFI20241107BHJP(他に分類されない電気技術)
要約【課題】複数のアンテナを用いてプラズマを安定させながら処理室の内部の被処理物に所要のプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置(1)は、筐体(2)と、筐体(2)の内部にプラズマを発生させるための磁界を生成する、複数のアンテナ(7)と、複数のアンテナ(7)のそれぞれに、それぞれ磁界を生成させるための高周波電流を供給する、少なくとも2つの電源(8)と、制御部(C)と、を備える。電源(8)は、プラズマを所要の周期で間歇的に発生させるように、周期のうちの所要のデューティ比の第1期間において、プラズマを発生させる高周波電流を供給する。制御部(C)は、少なくとも2つの電源(8)におけるデューティ比を個別に制御する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
処理室と、
前記処理室の内部にプラズマを発生させるための磁界を生成する、複数のアンテナと、
前記複数のアンテナに前記磁界を生成させるための高周波電流を供給する、少なくとも２つの電源と、
制御部と、を備え、
前記電源は、前記プラズマを所要の周期で間歇的に発生させるように、前記周期のうちの所要のデューティ比の第１期間において、前記プラズマを発生させる高周波電流を供給する電源であり、
前記制御部は、
前記少なくとも２つの電源における前記デューティ比を個別に制御する、プラズマ処理装置。
続きを表示（約 740 文字）【請求項２】
前記処理室の内部に生じたプラズマの発光をモニタする、複数のプラズマ発光モニタを、さらに備え、
前記制御部は、前記複数のプラズマ発光モニタの検出結果を用いて、前記少なくとも２つの電源における前記デューティ比を個別に制御する、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記複数のアンテナは、所定の配列方向に沿って配列されており、
前記複数のプラズマ発光モニタには、前記配列方向及び当該配列方向に直交する直交方向の各々の方向に沿って複数設けられた前記プラズマ発光モニタが含まれている、請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記複数のアンテナは、所定の配列方向に沿って配列されており、
前記処理室の内部で被処理物を前記配列方向に搬送する搬送機構を、さらに備える、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記処理室の内部に生じたプラズマの発光をモニタする、複数のプラズマ発光モニタを、さらに備え、
前記複数のプラズマ発光モニタは、前記配列方向に沿って設けられ、
前記制御部は、前記複数のプラズマ発光モニタの検出結果を用いて、前記少なくとも２つの電源における前記デューティ比を個別に制御する、請求項４に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記被処理物の温度を検知する、複数の温度検知部を、さらに備え、
前記複数の温度検知部は、前記配列方向に沿って設けられ、
前記制御部は、前記複数の温度検知部の検知結果を用いて、前記少なくとも２つの電源における前記デューティ比を個別に制御する、請求項４または５に記載のプラズマ処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、プラズマ処理装置に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
真空容器内に配置したアンテナを用いて当該真空容器内に誘導結合性のプラズマを発生させるプラズマ処理装置が知られている。プラズマ処理装置は、その種別に応じて、発生させたプラズマを用いた所定のプラズマ処理を被処理物に施す。
【０００３】
また、プラズマ処理装置においては、真空容器内に複数のアンテナを設けて被処理物にプラズマ処理を行うものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００２-６９６５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
プラズマ処理装置において、複数のアンテナを用いてプラズマを安定させながら処理室の内部の被処理物に所要のプラズマ処理を行うことについては改善の余地がある。
【０００６】
本開示は上記の問題点を鑑みてなされたものであり、複数のアンテナを用いてプラズマを安定させながら処理室の内部の被処理物に所要のプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、本開示の一側面に係るプラズマ処理装置は、処理室と、前記処理室の内部にプラズマを発生させるための磁界を生成する、複数のアンテナと、前記複数のアンテナに前記磁界を生成させるための高周波電流を供給する、少なくとも２つの電源と、制御部と、を備え、前記電源は、前記プラズマを所要の周期で間歇的に発生させるように、前記周期のうちの所要のデューティ比の第１期間において、前記プラズマを発生させる高周波電流を供給する電源であり、前記制御部は、前記少なくとも２つの電源における前記デューティ比を個別に制御する。
【発明の効果】
【０００８】
本開示の一態様によれば、複数のアンテナを用いてプラズマを安定させながら処理室の内部の被処理物に所要のプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本開示の実施形態１に係るプラズマ処理装置の構成を説明する図である。
図１のＩＩ－ＩＩ線断面図である。
上記プラズマ処理装置の要部構成を示す図である。
図１に示した電源の具体的な動作例を示す図である。
上記プラズマ処理装置において、デューティ比を変更した場合での発光強度比の変化の具体例を示すグラフである。
上記プラズマ処理装置において、デューティ比を変更した場合での成膜速度の変化の具体例を示すグラフである。
本開示の実施形態２に係るプラズマ処理装置の要部構成を説明する図である。
図７に示したプラズマ処理装置において、デューティ比を変更した場合での表面温度と成膜速度との具体的な関係の例を説明するグラフである。
図７に示したプラズマ処理装置の変形例の要部構成を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
〔実施形態１〕
以下、本開示の実施形態１について、図１乃至図４を用いて詳細に説明する。図１は、本開示の実施形態１に係るプラズマ処理装置１の構成を説明する図である。図２は、図１のＩＩ－ＩＩ線断面図である。図３は、上記プラズマ処理装置１の要部構成を示す図である。図４は、図１に示した電源８の具体的な動作例を示す図である。
（【００１１】以降は省略されています）

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