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公開番号2024090049
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-07-04
出願番号2022205689
出願日2022-12-22
発明の名称成膜装置
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人
主分類H01L 21/31 20060101AFI20240627BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板支持部の上で基板が滑ることを抑制できる技術を提供する。
【解決手段】本開示の一態様による成膜装置は、処理容器と、前記処理容器内に設けられ、基板を載置する凹部を有する基板支持部と、を備え、前記凹部は、底面に突起を有し、前記突起は、前記凹部に載置される前記基板の外周に沿って設けられる。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
処理容器と、
前記処理容器内に設けられ、基板を載置する凹部を有する基板支持部と、
を備え、
前記凹部は、底面に突起を有し、
前記突起は、前記凹部に載置される前記基板の外周に沿って設けられる、
成膜装置。
続きを表示（約 610 文字）【請求項２】
前記凹部は、底面に溝を有し、
前記溝は、前記突起の外側に設けられる、
請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記突起の高さは、前記凹部の上面よりも低い、
請求項１に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記突起は、前記基板の外周に沿って延びるリング状を有する、
請求項１に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記突起は、前記基板の外周に沿って複数設けられる、
請求項１に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記凹部の内径は、前記基板の外径よりも大きい、
請求項１に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記凹部の内径は、周方向の少なくとも一部において拡大される、
請求項１に記載の成膜装置。
【請求項８】
前記凹部は、周方向の少なくとも一部において前記底面から前記凹部の上面に向けて拡がるように傾斜する、
請求項１に記載の成膜装置。
【請求項９】
前記凹部に載置される前記基板を加熱する加熱部を備える、
請求項１に記載の成膜装置。
【請求項１０】
前記基板支持部は、回転可能であり、
前記凹部は、前記基板支持部の回転方向に沿って複数設けられる、
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の成膜装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、成膜装置に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
処理容器内にて回転テーブルの上に載置した円形の基板を公転させながら基板に処理ガスを供給して処理を行う装置が知られている（例えば、特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１０－０５６４７０号公報
特開２０１３－２２２９４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、基板支持部の上で基板が滑ることを抑制できる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一態様による成膜装置は、処理容器と、前記処理容器内に設けられ、基板を載置する凹部を有する基板支持部と、を備え、前記凹部は、底面に突起を有し、前記突起は、前記凹部に載置される前記基板の外周に沿って設けられる。
【発明の効果】
【０００６】
本開示によれば、基板支持部の上で基板が滑ることを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
実施形態に係る成膜装置を示す縦断面図である。
実施形態に係る成膜装置の内部を示す平面図である。
実施形態に係る成膜装置の内部を示す平面図である。
実施形態に係る成膜装置の内部を示す斜視図である。
第１例に係る回転テーブルの一部を示す平面図である。
図５のＡ－Ａ線矢視断面図である。
第２例に係る回転テーブルの一部を示す平面図である。
図７のＢ－Ｂ線矢視断面図である。
第３例に係る回転テーブルの一部を示す平面図である。
図９のＣ－Ｃ線矢視断面図である。
図９のＤ－Ｄ線矢視断面図である。
第４例に係る回転テーブルの一部を示す平面図である。
基板滑り発生割合を示す図である。
パーティクル発生割合を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、添付の図面を参照しながら、本開示の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。
【０００９】
〔成膜装置〕
図１から図４を参照し、実施形態に係る成膜装置について説明する。図１は、実施形態に係る成膜装置を示す縦断面図である。図２は、実施形態に係る成膜装置の内部を示す平面図である。図３は、実施形態に係る成膜装置の内部を示す平面図である。図４は、実施形態に係る成膜装置の内部を示す斜視図である。
【００１０】
実施形態に係る成膜装置は、処理容器１と、回転テーブル２とを備える。
（【００１１】以降は省略されています）

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