特許ウォッチ

公開番号2024091076
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-07-04
出願番号2022207386
出願日2022-12-23
発明の名称転写装置
出願人東レエンジニアリング株式会社
代理人
主分類H01L 21/52 20060101AFI20240627BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】活性エネルギー線が照射された箇所が必要以上に密集することを防ぐことができる転写装置を提供する。
【解決手段】転写基板22へ活性エネルギー線11を照射することによって転写基板22が保持する素子21を被転写基板23へ転写する転写装置10であり、間欠的に活性エネルギー線11を出射するエネルギー出射部12と、転写基板22に対するエネルギー出射部12から出射された活性エネルギー線11の照射位置を制御する照射位置制御部15と、を備え、照射位置制御部15による転写基板22への活性エネルギー線11の照射位置の移動速度に応じて転写基板22への活性エネルギー線の照射時間間隔が調節される。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
転写基板へ活性エネルギー線を照射することによって当該転写基板が保持する素子を被転写基板へ転写する転写装置であり、
間欠的に活性エネルギー線を出射するエネルギー出射部と、
前記転写基板に対する前記エネルギー出射部から出射された活性エネルギー線の照射位置を制御する照射位置制御部と、
を備え、
前記照射位置制御部による前記転写基板への活性エネルギー線の照射位置の移動速度に応じて前記転写基板への活性エネルギー線の照射時間間隔が調節されることを特徴とする、転写装置。
続きを表示（約 580 文字）【請求項２】
活性エネルギー線の照射位置の移動方向が変更されるときに、前記転写基板への活性エネルギー線の照射時間間隔が比較的長く調節されることを特徴とする、請求項１に記載の転写装置。
【請求項３】
前記転写基板が保持する一つの素子の保持領域に対して照射位置を変更しながら複数回活性エネルギー線を照射することによって素子を前記被転写基板へ転写することを特徴とする、請求項１に記載の転写装置。
【請求項４】
前記エネルギー出射部による活性エネルギー線の出射時間間隔は調節可能であり、当該出射時間間隔が調節されることにより前記転写基板への活性エネルギー線の照射時間間隔が調節されることを特徴とする、請求項１に記載の転写装置。
【請求項５】
前記エネルギー出射部から出射された活性エネルギー線が前記転写基板へ照射されることを阻止する照射阻止部をさらに有し、当該照射阻止部が作動することによって前記エネルギー出射部から出射された活性エネルギー線の一部を前記転写基板へ到達させなくすることにより、前記転写基板への前記活性エネルギー線の照射時間間隔を長くすることを特徴とする、請求項１に記載の転写装置。
【請求項６】
前記照射阻止部は音響光学素子であることを特徴とする、請求項５に記載の転写装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光エネルギーを転写基板に照射することにより素子を被転写基板へ転写する転写装置に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、半導体チップはコスト低減のために小型化され、この小型化した半導体チップを高精度に実装するための取組みが行われている。この小型化したチップを高速で実装するにあたり、転写基板に接合されたチップの転写基板との接合面へレーザを照射することによってアブレーションを生じさせ、チップを転写基板から剥離、付勢させて被転写基板へと転写する、いわゆるレーザリフトオフなる手法が採用されている。
【０００３】
特許文献１には、アブレーション技術を用いて素子を転写する素子の転写装置が開示されている。この素子の転写装置では、レーザビームを発生させるレーザ光源と、そのレーザ光源からのレーザビームを所要の方向に反射させる反射手段と、その反射手段と連動してレーザビームの照射及び非照射を制御する制御手段とを有するレーザ照射装置を用いて、転写基板上に複数配列された素子の一部に対してレーザビームを選択的に照射し、素子を保持する層のアブレーション（溶発）を発生させる。この選択的なアブレーションによって素子の一部が被転写基板上に転写される。すなわち、レーザリフトオフにより素子が転写基板から被転写基板へ転写される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００６－０４１５００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１で示される転写装置では、反射手段が折り返す動作をする場合など加減速状態となるときに転写基板上でレーザが照射された箇所が密集するおそれがあった。特に図７に示すように転写基板１２２における一つの素子１２１の保持領域に照射位置を変えながら複数のレーザ光１１１を照射することによって素子１２１の転写を行う場合、レーザが照射された箇所が密集する箇所において素子１２１がダメージを受け、素子１２１に割れなどが生じる可能性があるという問題があった。
【０００６】
本願発明は、上記問題点を鑑み、活性エネルギー線が照射された箇所が必要以上に密集することを防ぐことができる転写装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために本発明の転写装置は、転写基板へ活性エネルギー線を照射することによって当該転写基板が保持する素子を被転写基板へ転写する転写装置であり、間欠的に活性エネルギー線を出射するエネルギー出射部と、前記転写基板に対する前記エネルギー出射部から出射された活性エネルギー線の照射位置を制御する照射位置制御部と、を備え、前記照射位置制御部による前記転写基板への活性エネルギー線の照射位置の移動速度に応じて前記転写基板への活性エネルギー線の照射時間間隔が調節されることを特徴としている。
【０００８】
本発明の転写装置によれば、加減速状態であるときのように転写基板への活性エネルギー線の照射位置の移動速度が比較的遅いときには前記転写基板への活性エネルギー線の照射時間間隔が比較的長くなるよう調節されることにより、活性エネルギー線が照射された箇所が密集することを防ぐことができる。
【０００９】
また、活性エネルギー線の照射位置の移動方向が変更されるときに、前記転写基板への活性エネルギー線の照射時間間隔が比較的長く調節されると良い。
【００１０】
このように活性エネルギー線の照射位置の移動方向が変更されるときには活性エネルギー線の照射位置の移動速度の減速が伴うため、そのときに活性エネルギー線が照射された箇所が密集することを防ぐことができる。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許