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公開番号2024086778
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-06-28
出願番号2024060320,2021201981
出願日2024-04-03,2021-12-13
発明の名称積層セラミックコンデンサ
出願人株式会社村田製作所
代理人個人,個人
主分類H01G 4/30 20060101AFI20240621BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】内部電極層の直流抵抗の増加を抑制することができる積層セラミックコンデンサを提供すること。
【解決手段】積層体10と、3つ以上の外部電極40とを有する積層セラミックコンデンサ1であって、第1の内部電極層31は、第1の対向電極部31Mと、第1の引き出し部31Aと、第2の引き出し部31Bとを有し、第1の対向電極部31Mは、第1の中央部領域31MMと、第1の引き出し部31Aと接続される部分である第1の接続部領域31MAと、第2の引き出し部31Bと接続される部分である第2の接続部領域31MBとを有し、誘電体層20に対する第1の接続部領域31MAおよび第2の接続部領域31MBの被覆率は、誘電体層20に対する第1の中央部領域31MMの被覆率よりも高く、誘電体層20に対する第1の引き出し部31Aおよび第2の引き出し部31Bの被覆率は、誘電体層20に対する第1の中央部領域31MMの被覆率よりも高い。
【選択図】図6

特許請求の範囲【請求項1】
積層方向に相対する第1の主面および第2の主面と、前記積層方向に直交する長さ方向に相対する第1の端面および第2の端面と、前記積層方向および前記長さ方向に直交する幅方向に相対する第1の側面および第2の側面を有する積層体と、4つの外部電極と、を備えた積層セラミックコンデンサであって、
前記積層体は、誘電体層と、第1の内部電極層と、第2の内部電極層と、を有し、
前記第1の内部電極層は、第1の中央部領域と、第1の接続部領域と、第2の接続部領域と、第1の表面部へ引き出される第1の引き出し部と、第2の表面部へ引き出される第2の引き出し部と、を有し、
前記第2の内部電極層は、第2の中央部領域と、第3の接続部領域と、第4の接続部領域と、第3の表面部へ引き出される第3の引き出し部と、第4の表面部へ引き出される第4の引き出し部と、を有し、
前記誘電体層に対する前記第1の接続部領域の被覆率は、前記誘電体層に対する前記第1の中央部領域の被覆率よりも高く、
前記積層セラミックコンデンサの前記積層方向視での形状が略正方形形状である、積層セラミックコンデンサ。
続きを表示(約 880 文字)【請求項2】
前記誘電体層に対する前記第2の接続部領域の被覆率は、前記誘電体層に対する前記第1の中央部領域の被覆率よりも高い、請求項1に記載の積層セラミックコンデンサ。
【請求項3】
前記誘電体層に対する前記第1の引き出し部の被覆率は、前記誘電体層に対する前記第1の中央部領域の被覆率よりも高い、請求項1または2に記載の積層セラミックコンデンサ。
【請求項4】
前記誘電体層に対する前記第2の引き出し部の被覆率は、前記誘電体層に対する前記第1の中央部領域の被覆率よりも高い、請求項3に記載の積層セラミックコンデンサ。
【請求項5】
前記第1の表面部は、前記第1の側面および前記第1の端面であり、
前記第2の表面部は、前記第2の側面および前記第2の端面である、請求項1~4のいずれか1項に記載の積層セラミックコンデンサ。
【請求項6】
前記第3の表面部は、前記第1の側面および前記第2の端面であり、
前記第4の表面部は、前記第2の側面および前記第1の端面である、請求項5に記載の積層セラミックコンデンサ。
【請求項7】
前記第1の表面部は、前記第1の側面であり、
前記第2の表面部は、前記第2の側面である、
請求項1~4のいずれか1項に記載の積層セラミックコンデンサ。
【請求項8】
前記第3の表面部は、前記第1の側面であり、
前記第4の表面部は、前記第2の側面である、
請求項7に記載の積層セラミックコンデンサ。
【請求項9】
前記誘電体層に対する前記第1の中央部領域の被覆率は、52%以上である、請求項1~8のいずれか1項に記載の積層セラミックコンデンサ。
【請求項10】
前記誘電体層に対する前記第1の接続部領域および前記第2の接続部領域の被覆率は72%以上である、請求項1~9のいずれか1項に記載の積層セラミックコンデンサ。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、積層セラミックコンデンサに関する。
続きを表示(約 3,500 文字)【背景技術】
【0002】
従来、積層セラミックコンデンサが知られている。例えば、高速で動作する集積回路部品に供給される電源電圧を安定化するために用いられるデカップリングコンデンサとして、特許文献1に記載されているような構造を有する積層貫通型セラミックコンデンサが知られている。特許文献1に記載されている積層貫通型セラミックコンデンサは、セラミック基体を備える。セラミック基体の内部には、複数の第1の内部電極および複数の第2の内部電極が積層方向において交互に配置されている。そして、第1の内部電極は、その両端がセラミック基体の長さ方向の両端面に導出され、第2の内部電極は、その両端がセラミック基体の幅方向の両端面に導出されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2000-58376号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
このような積層型貫通セラミックコンデンサにおいては、積層型貫通セラミックコンデンサが搭載される電子機器の高性能化に伴い、大容量化が求められている。ここで、大容量化を実現させる手段の一つとして、内部電極の厚みを薄くすることにより、有効部の積層枚数を多くすることが考えられる。しかしながら、内部電極の厚みを薄くした際には、内部電極に用いた金属粉末が誘電体粉末と比較して融点が低い場合、誘電体層を焼結する時に内部電極が液状化し、凝集が進む。この場合、内部電極が複数に分断され、誘電体層に対する内部電極層の被覆率が低下してしまう。これにより、内部電極の金属比率が低くなることによって電流経路の面積が小さくなり、抵抗が高くなるため、直流抵抗(Rdc)が増加してしまう。その結果、積層セラミックコンデンサとしての特性が悪化することが考えられる。なお、上記の被覆率の低下の問題が、セラミック基体の端面や側面に引き出されることになる内部電極の引き出し部において生じた場合、内部電極が積層体の端面や側面から十分に露出せず、内部電極と外部電極との接続性が低下してしまう。内部電極層と外部電極との接続性が低下した場合、より顕著に直流抵抗(Rdc)が増加してしまう可能性がある。
【0005】
本発明の目的は、内部電極層の直流抵抗の増加を抑制することができる積層セラミックコンデンサを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明に係る積層セラミックコンデンサは、複数の積層された誘電体層と、前記誘電体層上に積層された複数の内部電極層とを有し、積層方向に相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向に直交する長さ方向に相対する第1の端面および第2の端面と、前記積層方向および前記長さ方向に直交する幅方向に相対する第1の側面および第2の側面を有する積層体と、3つ以上の外部電極と、を有する積層セラミックコンデンサであって、前記複数の内部電極層は、複数の第1の内部電極層と、複数の第2の内部電極層と、を有し、前記第1の内部電極層は、前記誘電体層を介して前記第2の内部電極層と対向する第1の対向電極部と、前記第1の対向電極部から延び前記積層体の第1の表面部に引き出される第1の引き出し部と、前記第1の対向電極部から延び前記積層体の第2の表面部に引き出される第2の引き出し部と、を有し、前記第2の内部電極層は、前記誘電体層を介して前記第1の内部電極層と対向する第2の対向電極部と、前記第2の対向電極部から延び前記積層体の第3の表面部に引き出される第3の引き出し部と、を有し、前記3つ以上の外部電極は、前記第1の引き出し部と接続される第1の外部電極と、前記第2の引き出し部と接続される第2の外部電極と、前記第3の引き出し部に接続される第3の内部電極と、を有し、前記第1の対向電極部は、前記第1の対向電極部の中央部を含む第1の中央部領域と、前記第1の引き出し部と接続される部分であって、前記第1の中央部領域よりも前記誘電体層に対する被覆率が高い領域である第1の接続部領域と、前記第2の引き出し部と接続される部分であって、前記第1の中央部領域よりも前記誘電体層に対する被覆率が高い領域である第2の接続部領域と、を有し、前記誘電体層に対する前記第1の接続部領域および第2の接続部領域の被覆率は、前記誘電体層に対する前記第1の中央部領域の被覆率よりも高く、前記誘電体層に対する前記第1の引き出し部および第2の引き出し部の被覆率は、前記誘電体層に対する前記第1の中央部領域の被覆率よりも高い。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、内部電極層の直流抵抗の増加を抑制することができる積層セラミックコンデンサを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
第1実施形態の積層セラミックコンデンサの外観斜視図である。
図1に示す積層セラミックコンデンサを矢印IIの方向に沿って第1の側面側を見たときの矢視図である。
図2に示す積層セラミックコンデンサを矢印IIIの方向に沿って第1の主面側を見たときの矢視図である。
図3に示す積層セラミックコンデンサのIV-IV線に沿った断面図である。
図4に示す積層セラミックコンデンサのV-V線に沿った断面図である。
図4に示す積層セラミックコンデンサのVI-VI線に沿った断面図であり、第1の内部電極層を示す図である。
図4に示す積層セラミックコンデンサのVII-VII線に沿った断面図であり、第2の内部電極層を示す図である。
誘電体層に対する第1の内部電極層の被覆率の測定位置を示す図である。
誘電体層に対する第2の内部電極層の被覆率の測定位置を示す図である。
上記実施形態の積層セラミックコンデンサの第2の内部電極層の変形例を示す断面図であり、図7に対応する図である。
第2実施形態の積層セラミックコンデンサの外観斜視図である。
上記実施形態の第1の内部電極層を示す図である。
上記実施形態の第2の内部電極層を示す図である。
第3実施形態の積層セラミックコンデンサの外観斜視図である。
上記実施形態の第1の内部電極層を示す図である。
上記実施形態の第2の内部電極層を示す図である。
第4実施形態の積層セラミックコンデンサの第1の内部電極層を示す図である。
上記実施形態の第2の内部電極層を示す図である。
第5実施形態の積層セラミックコンデンサの外観斜視図である。
上記実施形態の第1の内部電極層を示す図である。
上記実施形態の第2の内部電極層を示す図である。
第6実施形態の積層セラミックコンデンサの外観斜視図である。
上記実施形態の第1の内部電極層を示す図である。
上記実施形態の第2の内部電極層を示す図である。
第7実施形態の積層セラミックコンデンサの外観斜視図である。
上記実施形態の第1の内部電極層を示す図である。
上記実施形態の第2の内部電極層を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
<第1実施形態>
以下、本開示の第1実施形態に係る積層セラミックコンデンサ1について説明する。図1は、本実施形態の積層セラミックコンデンサ1の外観斜視図である。図2は、図1に示す積層セラミックコンデンサ1を矢印IIの方向に沿って第1の側面WS1側を見たときの矢視図である。図3は、図2に示す積層セラミックコンデンサ1を矢印IIIの方向に沿って第1の主面TS1側を見たときの矢視図である。図4は、図3に示す積層セラミックコンデンサ1のIV-IV線に沿った断面図である。図5は、図4に示す積層セラミックコンデンサ1のV-V線に沿った断面図である。図6は、図4に示す積層セラミックコンデンサ1のVI-VI線に沿った断面図であり、第1の内部電極層31を示す図である。図7は、図4に示す積層セラミックコンデンサ1のVII-VII線に沿った断面図であり、第2の内部電極層32を示す図である。
【0010】
積層セラミックコンデンサ1は、積層体10と、外部電極40と、を有する。
(【0011】以降は省略されています)

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