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公開番号2024058046
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-25
出願番号2022165159
出願日2022-10-14
発明の名称光学素子の製造方法
出願人AGC株式会社
代理人個人,個人
主分類B29C 51/14 20060101AFI20240418BHJP(プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般)
要約【課題】位相差板の曲げ加工に起因するリタデーションのばらつきを低減する、技術を提供する。
【解決手段】光学素子の製造方法は、液晶層を有する位相差板と、接着層と、前記接着層を介して前記位相差板と対向する曲面を有する3次元構造物と、を備える光学素子の製造方法である。前記製造方法は、前記3次元構造物を取り囲むと共に、前記3次元構造物と前記位相差板とを間隔をおいて保持する、第1型を準備することを有する。前記第1型は開口部が形成される平面と前記平面から突出する凸部とを有し、前記凸部は前記開口部の縁の一部に沿って設けられる。平面視で、前記位相差板は、貯蔵弾性率が180°周期で変化する。前記凸部は、前記貯蔵弾性率が最大になる位置に一対設けられる。前記製造方法は、前記平面と前記凸部とで前記位相差板を支持しながら前記位相差板を前記3次元構造物の曲面に沿って曲げ加工することを有する。
【選択図】図8
特許請求の範囲【請求項１】
液晶層を有する位相差板と、接着層と、前記接着層を介して前記位相差板と対向する曲面を有する３次元構造物と、を備える光学素子の製造方法であって、
前記３次元構造物を取り囲むと共に、前記３次元構造物と前記位相差板とを間隔をおいて保持する、第１型を準備することを有し、
前記第１型は開口部が形成される平面と前記平面から突出する凸部とを有し、前記凸部は前記開口部の縁の一部に沿って設けられ、
平面視で、前記位相差板は、貯蔵弾性率が１８０°周期で変化し、
前記凸部は、前記貯蔵弾性率が最大になる位置に一対設けられ、
前記製造方法は、前記平面と前記凸部とで前記位相差板を支持しながら前記位相差板を前記３次元構造物の曲面に沿って曲げ加工することを有する、光学素子の製造方法。
続きを表示（約 420 文字）【請求項２】
前記位相差板は、前記液晶層として、１／２波長板と１／４波長板を有する、請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記位相差板は、前記１／２波長板と前記１／４波長板との間に垂直配向液晶層を有する、請求項２に記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記位相差板を基準として前記第１型とは反対側に第２型を配置することと、
前記第２型における前記第１型との対向面の凹部に前記凸部を挿入した状態で、前記第２型が前記凹部に前記位相差板を吸着することと、
前記第２型が前記位相差板を吸着した状態で前記第２型が前記位相差板を加熱することと、
前記第２型が前記位相差板にガスを噴射すると同時に前記第１型が減圧されることで、前記位相差板を前記３次元構造物の曲面に沿って曲げ加工することと、
を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、光学素子の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１に記載の光学レンズは、位相差体を有する。位相差体は、フィルム又はコーティングである。コーティング材料は、例えば液晶ポリマーである。フィルム材料は、開示されていない。位相差体は、例えば１／４波長板である。
【０００３】
特許文献２には、モールドの凹凸パターンを転写するための光硬化性組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特表２０１９－５３４４８４号公報
特許第５９７８７６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
フィルム状の位相差板は、接着層を介して３次元構造物の曲面に接着される。位相差板と接着層と３次元構造部とで、光学素子が構成される。光学素子の製造方法は、３次元構造物の曲面に沿って位相差板を曲げ加工する工程を有する。
【０００６】
フィルム状の位相差板が液晶層を含むことがある。液晶層は、液晶分子を有する。液晶層は、液晶分子の長軸方向に伸ばし難く、液晶分子の短軸方向に伸ばし易い。それゆえ、位相差板を曲げ加工することで、厚みがばらつき、リタデーションがばらつくことがあった。
【０００７】
本開示の一態様は、位相差板の曲げ加工に起因するリタデーションのばらつきを低減する、技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示の一態様に係る光学素子の製造方法は、液晶層を有する位相差板と、接着層と、前記接着層を介して前記位相差板と対向する曲面を有する３次元構造物と、を備える光学素子の製造方法である。前記製造方法は、前記３次元構造物を取り囲むと共に、前記３次元構造物と前記位相差板とを間隔をおいて保持する、第１型を準備することを有する。前記第１型は開口部が形成される平面と前記平面から突出する凸部とを有し、前記凸部は前記開口部の縁の一部に沿って設けられる。平面視で、前記位相差板は、貯蔵弾性率が１８０°周期で変化する。前記凸部は、前記貯蔵弾性率が最大になる位置に一対設けられる。前記製造方法は、前記平面と前記凸部とで前記位相差板を支持しながら前記位相差板を前記３次元構造物の曲面に沿って曲げ加工することを有する。
【発明の効果】
【０００９】
本開示の一態様によれば、平面と平面から突出する凸部とで位相差板を支持しながら位相差板を曲げ加工することで、位相差板の厚みのばらつきを低減でき、リタデーションのばらつきを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
図１（Ａ）は一実施形態に係る位相差板と３次元構造物と接着層を示す断面図であり、図１（Ｂ）は一実施形態に係る光学素子の断面図であり、図１（Ｃ）は図１（Ｂ）に示す光学素子の平面図である。
図２（Ａ）は透明基材と配向層の一例を示す斜視図であり、図２（Ｂ）は図２（Ａ）に示す配向層によって配向された液晶分子の一例を示す斜視図である。
図３は、位相差板の変形例を示す断面図である。
図４は、位相差板の貯蔵弾性率の異方性の一例を示す平面図である。
図５は、第１型の一例を示す平面図である。
図６は、光学素子の製造方法の一例を示す断面図である。
図７は、図６に続いて光学素子の製造方法の一例を示す断面図である。
図８は、図７に続いて光学素子の製造方法の一例を示す断面図である。
図９は、図８に続いて光学素子の製造方法の一例を示す断面図である。
図１０は、実施例１と比較例１で作製した光学素子のリタデーションのばらつきを示す図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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