TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2024042910
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-03-29
出願番号2022147831
出願日2022-09-16
発明の名称ガス溶存水溶液製造システム
出願人株式会社アクア・ゼスト
代理人個人
主分類B01F 23/2373 20220101AFI20240322BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】細胞のミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導することが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造することができるガス溶存水溶液製造システムを提供する。
【解決手段】ガス溶存水溶液製造システム10は、純水を電気分解して水素イオン(H+)と酸素分子(O2)とから形成されたガス組成物を生成する電気分解装置12と、純水を所定温度に冷却するチラー13と、チラー13によって所定温度に冷却された純水に電気分解装置12によって生成されたガス組成物をウルトラファインバブルの状態で溶存させるウルトラファインバブル生成装置を備えてウルトラファインバブルのガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造槽15とを有する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
水素イオン(H
+
)と酸素分子(O

)とから形成されて細胞のミトコンドリアを活性化させることが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造システムにおいて、
前記ガス溶存水溶液製造システムが、水を電気分解して前記水素イオン(H
+
)と前記酸素分子(O

)とから形成された前記ガス組成物を生成する電気分解装置と、純水を所定温度に冷却するチラーと、前記チラーによって所定温度に冷却された純水に前記電気分解装置によって生成された前記ガス組成物をウルトラファインバブルの状態で溶存させるウルトラファインバブル生成装置を備えて前記ウルトラファインバブルのガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造槽とを有することを特徴とするガス溶存水溶液製造システム。
続きを表示(約 1,600 文字)【請求項2】
前記ガス溶存水溶液製造システムが、殺菌灯を有して前記ガス溶存水溶液製造槽によって製造された前記ガス溶存水溶液が流入する殺菌槽を含み、前記殺菌槽では、そこに流入した前記ガス溶存水溶液が前記殺菌灯によって殺菌される請求項1に記載のガス溶存水溶液製造システム。
【請求項3】
前記ガス溶存水溶液製造システムが、前記ガス溶存水溶液を前記ガス溶存水溶液製造槽から前記殺菌槽に流入させる第1水溶液管路と、前記ガス溶存水溶液を前記殺菌槽から前記ガス溶存水溶液製造槽に還流させるバイパス管路と、前記第1水溶液管路又は前記バイパス管路に設置された第1給水ポンプとを含み、前記ガス溶存水溶液製造システムでは、前記給水ポンプによって前記ガス溶存水溶液を前記殺菌槽から前記ガス溶存水溶液製造槽に還流させるとともに該ガス溶存水溶液製造槽から該殺菌槽に流入させることで、前記ガス溶存水溶液を前記殺菌槽と前記ガス溶存水溶液製造槽との間で複数回循環させ、前記複数回循環するガス溶存水溶液に前記ウルトラファインバブル生成装置が前記ガス組成物を溶存させる請求項2に記載のガス溶存水溶液製造システム。
【請求項4】
前記チラーが、前記バイパス管路から前記ガス溶存水溶液製造槽に還流したガス溶存水溶液を所定温度に冷却し、前記ウルトラファインバブル生成装置が、前記チラーによって所定温度に冷却されたガス溶存水溶液に前記ガス組成物を溶存させる請求項3に記載のガス溶存水溶液製造システム。
【請求項5】
前記ガス溶存水溶液製造槽及び前記殺菌槽を循環する前記ガス溶存水溶液が、前記第1給水ポンプによって所定の水圧に加圧され、前記ガス溶存水溶液製造槽及び前記殺菌槽を循環する前記ガス溶存水溶液の水圧が、0.5~0.7MPaの範囲にある請求項4に記載のガス溶存水溶液製造システム。
【請求項6】
前記ガス溶存水溶液製造システムが、前記殺菌槽の下流側に設置された攪拌混入槽と、前記ガス溶存水溶液を前記殺菌槽から前記攪拌混入槽に流入させる第2水溶液管路と、前記第2水溶液管路に設置された第2給水ポンプと、前記ガス溶存水溶液を所定温度に冷却するチラーとを含み、前記攪拌混入槽では、前記殺菌槽によって殺菌された前記ガス溶存水溶液を前記チラーによって所定温度に冷却するとともに前記所定温度に冷却された該ガス溶存水溶液を攪拌しつつ該ガス溶存水溶液に所定の栄養素を溶解させる請求項2ないし請求項5いずれかに記載のガス溶存水溶液製造システム。
【請求項7】
前記攪拌混入槽に流入する前記ガス溶存水溶液が、前記第1給水ポンプによって所定の水圧に加圧され、前記攪拌混入槽に流入した前記ガス溶存水溶液の水圧が、0.5~0.7MPaの範囲にある請求項6に記載のガス溶存水溶液製造システム。
【請求項8】
前記電気分解装置が、所定の電極に直流電流のプラスマイナスを交互に印加するパルスジェネレーターによって前記水を電気分解し、前記電極が、白金粉末を担持したナノカーボンから作られた薄板状電極である請求項1ないし請求項7いずれかに記載のガス溶存水溶液製造システム。
【請求項9】
前記ウルトラファインバブル生成装置が、スタティックミキサー式、旋回液流式、加圧溶解式のうちのいずれかである請求項1ないし請求項7いずれかに記載のガス溶存水溶液製造システム。
【請求項10】
前記ガス溶存水溶液製造槽では、前記純水に微量の炭酸ガスを溶存させた後、前記微量の炭酸ガスが溶存する純水又はガス溶存水溶液に前記ウルトラファインバブル生成装置が前記ガス組成物を溶存させる請求項3ないし請求項9いずれかに記載のガス溶存水溶液製造システム。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、ガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造システムに関する。
続きを表示(約 1,700 文字)【背景技術】
【0002】
原水を貯留するための容器と、多孔の上側電極と多孔の下側電極との間で固体高分子電解質膜を挟持したガス発生部と、ガス発生部の上側電極及び下側電極のそれぞれに印加される直流電圧を制御する電源制御部と、上側電極及び下側電極のそれぞれと電源制御部とを連結する一対の導電部材とを備え、ガス発生部の高位部が水平方向に対して高位に位置するように、ガス発生部が水平方向に対して傾斜配置され、導電部材に連結されたガス発生部が、原水の貯留された容器の底部に設置されて、主生成ガスが上側電極の側で発生するとともに副生成ガスが下側電極の側で発生するガス溶存水生成装置が開示されている(特許文献1参照)。
【0003】
ガス溶存水生成装置は、上側電極側では多数の主生成ガスが微小な気泡の形態で上側電極と固体高分子電解質膜との界面で発生し、下側電極側では多数の副生成ガスが微小な気泡の形態で下側電極と固体高分子電解質膜との界面で発生する。上側電極側では、上方への遮蔽物が無いので、主生成ガスの微小な気泡が原水中を浮上する。その際、主生成ガスの微小な気泡では、原水に対するガスの単位体積当たりの気/液接触面積が大きく、浮上速度が遅いために原水との接触が長時間確保されるので、主生成ガスが高濃度で原水に溶存する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2016-000376号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
前記特許文献1に開示のガス溶存水生成装置は、高濃度の主生成ガス溶存水を効率的に生成することができる。しかし、このガス溶存水生成装置は、細胞のミトコンドリアを活性化させることが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造することはできない。
【0006】
本発明の目的は、細胞のミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導することが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造することができるガス溶存水溶液製造システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
前記課題を解決するための本発明の前提は、水素イオン(H
+
)と酸素分子(O

)とから形成されて細胞のミトコンドリアを活性化させることが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造システムである。
【0008】
前記前提における本発明の特徴は、ガス溶存水溶液製造システムが、水を電気分解して前記水素イオン(H
+
)と酸素分子(O

)とから形成されたガス組成物を生成する電気分解装置と、純水を所定温度に冷却するチラーと、チラーによって所定温度に冷却された純水に電気分解装置によって生成されたガス組成物をウルトラファインバブルの状態で溶存させるウルトラファインバブル生成装置を備えてウルトラファインバブルのガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造槽とを有することにある。
【0009】
本発明の一例としては、ガス溶存水溶液製造システムが、殺菌灯を有してガス溶存水溶液製造槽によって製造されたガス溶存水溶液が流入する殺菌槽を含み、殺菌槽では、そこに流入したガス溶存水溶液が殺菌灯によって殺菌される。
【0010】
本発明の他の一例としては、ガス溶存水溶液製造システムが、ガス溶存水溶液をガス溶存水溶液製造槽から殺菌槽に流入させる第1水溶液管路と、ガス溶存水溶液を殺菌槽からガス溶存水溶液製造槽に還流させるバイパス管路と、第1水溶液管路又はバイパス管路に設置された第1給水ポンプとを含み、ガス溶存水溶液製造システムでは、給水ポンプによってガス溶存水溶液を殺菌槽からガス溶存水溶液製造槽に還流させるとともにガス溶存水溶液製造槽から殺菌槽に流入させることで、ガス溶存水溶液を殺菌槽とガス溶存水溶液製造槽との間で複数回循環させ、複数回循環するガス溶存水溶液にウルトラファインバブル生成装置がガス組成物を溶存させる。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

日星電気株式会社
中空糸膜
19日前
東レ株式会社
分離膜エレメント
19日前
東レ株式会社
分離膜エレメント
20日前
株式会社石垣
ろ過装置及びろ過処理方法
24日前
株式会社パイオラックス
流体フィルタ
6日前
東京応化工業株式会社
多孔質膜
11日前
新東工業株式会社
集塵機
18日前
ジャステック株式会社
固液分離装置
11日前
東レ株式会社
多孔質中空糸膜およびその製造方法
20日前
株式会社大真空
二酸化炭素捕集モジュール
24日前
榎本ビーエー株式会社
切粉濾過装置
4日前
株式会社キャタラー
排ガス浄化用触媒
11日前
新東工業株式会社
混練機
6日前
日立造船株式会社
排ガス処理装置
4日前
旭化成株式会社
中空糸膜モジュール
21日前
東ソー株式会社
ゼオライト成形体、およびその製造方法
5日前
個人
微細気泡発生装置
5日前
株式会社日立製作所
光触媒分解装置
18日前
株式会社トクヤマ
セメントクリンカ製造設備
13日前
東芝ライテック株式会社
紫外線照射装置
19日前
株式会社テイエルブイ
円筒フィルターを有する気液分離装置
26日前
株式会社ナベル
液体分配具又は液体分配具組立セット
11日前
コスモ石油株式会社
蒸留方法
18日前
株式会社荏原製作所
排ガス処理装置
13日前
パナソニックIPマネジメント株式会社
除湿装置
19日前
本田技研工業株式会社
二酸化炭素除去装置
19日前
株式会社長寿乃里
ナノバブル水供給システム及び搬送容器
5日前
ダイキン工業株式会社
流体搬送装置
18日前
横河電機株式会社
フロー合成装置
6日前
アンデックス株式会社
換気装置
4日前
日立造船株式会社
生成装置及び生成方法
11日前
株式会社ナベル
フィルタケース又はフィルタケース組立セット
11日前
出光興産株式会社
二酸化炭素利用システム
20日前
イー・ディー・エル株式会社
有機物処理装置及び有機物処理方法
11日前
株式会社神鋼環境ソリューション
攪拌槽
26日前
積水化学工業株式会社
触媒及びブタジエンの製造方法
20日前
続きを見る