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公開番号2024042695
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-03-28
出願番号2023207049
出願日2023-12-07
発明の名称樹脂組成物
出願人味の素株式会社
代理人弁理士法人酒井国際特許事務所
主分類C08L 101/00 20060101AFI20240321BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】比透磁率が高く、磁性損失が低い硬化物を得ることができる、溶融粘度が低い樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)Fe-Ni-Si-Cr系合金磁性粉体、及び(B)熱硬化性樹脂、を含む樹脂組成物であって、(A)成分に含まれるCrの含有量が、(A)成分100質量%に対して0.1質量%以上6質量%以下である、樹脂組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
(A)Fe-Ni-Si-Cr系合金磁性粉体、及び
(B)熱硬化性樹脂、を含む樹脂組成物であって、
(A)成分に含まれるCrの含有量が、(A)成分100質量%に対して0.1質量%以上6質量%以下である、樹脂組成物。
続きを表示(約 550 文字)【請求項2】
さらに、(C)Fe-Ni-Si-Cr系合金磁性粉体以外の磁性粉体を更に含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
【請求項3】
(C)成分が、フェライト系の磁性粉体を含む、請求項2に記載の樹脂組成物。
【請求項4】
(C)成分が、Mn、Zn、Ni及びCuからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を含むフェライト系の磁性粉体を含む、請求項2に記載の樹脂組成物。
【請求項5】
(C)成分が、(A)成分よりも小さい平均粒径を有する、請求項2に記載の樹脂組成物。
【請求項6】
(B)成分が、(B-1)エポキシ樹脂を含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
【請求項7】
(B)成分が、(B-2)硬化剤を含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
【請求項8】
さらに、(E)分散剤を含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
【請求項9】
さらに、(F)硬化促進剤を含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
【請求項10】
(A)成分に含まれるSiの含有量が、(A)成分100質量%に対して、0.2質量%以上5質量%以下である、請求項1に記載の樹脂組成物。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、樹脂組成物、並びに、当該樹脂組成物を用いた硬化物、磁性ペースト、樹脂シート、回路基板及びインダクタ基板に関する。
続きを表示(約 3,500 文字)【背景技術】
【0002】
インダクタ部品のコア材料として、磁性粉体を含む樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物を用いることがある。磁性粉体としては、FeNi合金粉を用いることがあった(特許文献1)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2018-178254号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
従来は、半導体装置の基板には、独立したインダクタ部品を実装することが一般的であった。しかし、近年、基板の導体パターンによりコイルを形成し、インダクタ素子を基板の内部に設ける手法が行われることがある。このような用途に用いるインダクタ素子の性能のさらなる向上のため、コア材料の磁気特性をより改善させることが求められている。また、半導体装置の基板にホールがある場合、該ホール内に磁性粉体を含む樹脂組成物を充填させることがある。この場合、樹脂組成物の溶融粘度が低いことが求められている。
【0005】
本発明は、前記の課題に鑑みて創案されたもので、比透磁率が高く、磁性損失が低い硬化物を得ることができる、溶融粘度が低い樹脂組成物;前記の樹脂組成物の硬化物;前記の樹脂組成物を含む磁性ペースト及び樹脂シート;並びに、前記の樹脂組成物の硬化物を含む回路基板及びインダクタ基板;を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者は、前記の課題を解決するべく鋭意検討した。その結果、本発明者は、特定の量のSi及びCrを含む(A)Fe-Ni-Si-Cr系合金磁性粉体と(B)熱硬化性樹脂とを組み合わせて含む樹脂組成物が、前記の課題を解決できることを見い出し、本発明を完成させた。
【0007】
すなわち、本発明は、下記のものを含む。
[1] (A)Fe-Ni-Si-Cr系合金磁性粉体、及び
(B)熱硬化性樹脂、を含む樹脂組成物であって、
(A)成分に含まれるCrの含有量が、(A)成分100質量%に対して0.1質量%以上6質量%以下である、樹脂組成物。
[2] さらに、(C)Fe-Ni-Si-Cr系合金磁性粉体以外の磁性粉体を更に含む、[1]に記載の樹脂組成物。
[3] (C)成分が、フェライト系の磁性粉体を含む、「2」に記載の樹脂組成物。
[4] (C)成分が、Mn、Zn、Ni及びCuからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を含むフェライト系の磁性粉体を含む、[2]又は[3]に記載の樹脂組成物。
[5] (C)成分が、(A)成分よりも小さい平均粒径を有する、[2]~[4]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[6] (B)成分が、(B-1)エポキシ樹脂を含む、[1]~[5]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[7] (B)成分が、(B-2)硬化剤を含む、[1]~[6]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[8] さらに、(E)分散剤を含む、[1]~[7]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[9] さらに、(F)硬化促進剤を含む、[1]~[8]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[10] (A)成分に含まれるSiの含有量が、(A)成分100質量%に対して、0.2質量%以上5質量%以下である、[1]~[9]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[11] (A)成分に含まれるCrの含有量が、(A)成分100質量%に対して0.5質量%以上6質量%以下である、[1]~[10]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[12] (A)成分の量が、樹脂組成物中の不揮発成分100質量%に対して、40質量%以上である、[1]~[11]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[13] (A)成分の量が、樹脂組成物中の不揮発成分100体積%に対して、30体積%以上である、[1]~[12]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[14] (A)成分及び(C)成分の合計量が、樹脂組成物中の不揮発成分100質量%に対して、70質量%以上である、[2]~[13]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[15] (A)成分及び(C)成分の合計量が、樹脂組成物中の不揮発成分100体積%に対して、50体積%以上である、[2]~[14]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[16] ホール充填用である、[1]~[15]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[17] [1]~[16]のいずれかに記載の樹脂組成物の硬化物。
[18] [1]~[16]のいずれかに記載の樹脂組成物を含む、磁性ペースト。
[19] 支持体と、該支持体上に設けられた樹脂組成物層とを備え、
樹脂組成物層が、[1]~[16]のいずれかに記載の樹脂組成物を含む、樹脂シート。
[20] ホールを有する基板と、前記ホールに充填された[1]~[16]のいずれかに記載の樹脂組成物の硬化物と、を備える回路基板。
[21] [1]~[16]のいずれかに記載の樹脂組成物の硬化物を含む硬化物層を備える、回路基板。
[22] [20]又は[21]に記載の回路基板を備える、インダクタ基板。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、比透磁率が高く、磁性損失が低い硬化物を得ることができる、溶融粘度が低い樹脂組成物;並びに、前記の樹脂組成物の硬化物;前記の樹脂組成物を含む磁性ペースト及び樹脂シート;並びに、前記の樹脂組成物の硬化物を含む回路基板及びインダクタ基板;を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
図1は、本発明の一実施形態の第一の例に係る回路基板の製造方法において用意されるコア基板を模式的に示す断面図である。
図2は、本発明の一実施形態の第一の例に係る回路基板の製造方法において、スルーホールを形成されたコア基板を模式的に示す断面図である。
図3は、本発明の一実施形態の第一の例に係る回路基板の製造方法において、スルーホール内にめっき層を形成されたコア基板を模式的に示す断面図である。
図4は、本発明の一実施形態の第一の例に係る回路基板の製造方法において、コア基板のスルーホール内に樹脂組成物を充填した様子を模式的に示す断面図である。
図5は、本発明の一実施形態の第一の例に係る回路基板の製造方法の工程(2)を説明するための模式的な断面図である。
図6は、本発明の一実施形態の第一の例に係る回路基板の製造方法の工程(3)を説明するための模式的な断面図である。
図7は、本発明の一実施形態の第一の例に係る回路基板の製造方法の工程(5)を説明するための模式的な断面図である。
図8は、本発明の一実施形態の第一の例に係る回路基板の製造方法の工程(5)を説明するための模式的な断面図である。
図9は、本発明の一実施形態の第二の例に係る回路基板の製造方法において、工程(i)を説明するための模式的な断面図である。
図10は、本発明の一実施形態の第二の例に係る回路基板の製造方法において、工程(i)を説明するための模式的な断面図である。
図11は、本発明の一実施形態の第二の例に係る回路基板の製造方法において、工程(ii)を説明するための模式的な断面図である。
図12は、本発明の一実施形態の第二の例に係る回路基板の製造方法において、工程(iv)を説明するための模式的な断面図である。
図13は、インダクタ基板が有する回路基板をその厚さ方向の一方からみた模式的な平面図である。
図14は、図13に示すII-II一点鎖線で示した位置で切断した回路基板の切断端面を示す模式的な図である。
図15は、インダクタ基板が含む回路基板の第1導体層の構成を説明するための模式的な平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。ただし、本発明は、下記実施形態及び例示物に限定されるものではなく、特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施されうる。
(【0011】以降は省略されています)

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