特許ウォッチ

公開番号2024009656
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-01-23
出願番号2022111343
出願日2022-07-11
発明の名称塗布装置
出願人東レエンジニアリング株式会社
代理人
主分類B05C 9/12 20060101AFI20240116BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約【課題】形成された塗布膜の結晶状態が不均一になるのを抑えることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布器と、基板上の塗布膜を乾燥させる乾燥器と、を備える塗布装置であって、前記乾燥器は、基板上の塗布膜の乾燥分布情報から乾燥を促進させる乾燥促進力が塗布膜の部位に応じて調節される構成とする。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布器と、
基板上の塗布膜を乾燥させる乾燥器と、
を備える塗布装置であって、
前記乾燥器は、基板上の塗布膜の乾燥分布情報から乾燥を促進させる乾燥促進力が塗布膜の部位に応じて調節されることを特徴とする塗布装置。
続きを表示（約 730 文字）【請求項２】
前記乾燥分布情報は、形成された塗布膜の乾燥状態から定期的に更新されることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記乾燥分布情報は、塗布された直後の塗布膜の乾燥状態から取得され、その基板の塗布膜に対し、取得された前記乾燥分布情報で調節された乾燥促進力で乾燥させることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記乾燥器は、前記塗布器に設けられており、塗布膜が形成された直後から前記乾燥分布情報に基づいて乾燥促進力が調節されつつ乾燥が行われることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記乾燥器は、塗布膜にエアを供給して乾燥させるものであり、前記乾燥促進力は、前記乾燥器のエア供給量が調節されることにより行われることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記乾燥器は、塗布膜にエアを供給して乾燥させるものであり、前記乾燥促進力は、エアが吐出される前記乾燥器の供給口と、塗布膜との距離が調節されることにより行われることを特徴とする請求項１又は５に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記乾燥器は、前記塗布器が塗布膜を形成するために一方向に移動する塗布方向と直交する幅方向に延びる形状を有しており、前記乾燥器の前記供給口は、幅方向に分割された区画部を有しており、前記区画部毎にエア供給量が調節されることを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記乾燥器の前記供給口は、前記区画部毎に開口面積が設定されることによりエア供給量が調節されていることを特徴とする請求項７に記載の塗布装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に塗布膜を形成する塗布装置に関するものであり、特に、塗布膜の結晶状態が不均一になるのを抑えて乾燥させることができる塗布装置に関するものである。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
近年では、様々な用途に基板Ｗ上に均一な薄膜が形成されたもの（塗布基板という）が使用される。例えば、基板上に一様な膜厚の塗布膜を形成する場合には、スリット状のノズルを有する塗布装置によって形成されている。この塗布装置は、例えば、図８に示すように、基板Ｗを載置するステージ１００と、塗布液を吐出するスリット状のノズルを有する塗布器１０１とを有しており、ノズルのスリットから塗布液を吐出させながら、基板Ｗと塗布器１０１とを相対的に移動させることにより、所定厚さの塗布膜Ｃが基板Ｗ上に形成されるようになっている。
【０００３】
そして、形成された塗布基板Ｗは、塗布装置から搬出された後、塗布装置とは別の乾燥装置１０２によって乾燥させられる（例えば、下記特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００３－０１７４０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上記塗布装置では、形成された塗布膜Ｃの機能性が十分に発揮できないという問題があった。すなわち、塗布膜Ｃの材料の中には、例えば、ペロブスカイト太陽電池の材料のように、機能性が結晶状態に依存するものがある。ところが、塗布装置で形成した塗布膜Ｃを乾燥装置１０２のように乾燥環境を均一にして乾燥させても、塗布膜Ｃの結晶状態が部位によって異なってしまい、塗布膜Ｃの結晶状態の不均一性から、その機能性が損なわれてしまうという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり、形成された塗布膜の結晶状態が不均一になるのを抑えることができる塗布装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布器と、基板上の塗布膜を乾燥させる乾燥器と、を備える塗布装置であって、前記乾燥器は、基板上の塗布膜の乾燥分布情報から乾燥を促進させる乾燥促進力が塗布膜の部位に応じて調節されることを特徴としている。
【０００８】
上記塗布装置によれば、塗布膜の乾燥分布情報から塗布膜の部位に応じて乾燥促進力が調節されるため、塗布膜の結晶状態の不均一性を抑えつつ乾燥させることができる。すなわち、乾燥分布情報から基板の塗布膜の部位に対する乾燥状態が把握することができるため、この乾燥分布情報から塗布膜の部位に応じて乾燥器の乾燥促進力、すなわち、乾燥させるための出力を調節する。具体的には、乾燥が相対的に進んでいる部位には、乾燥促進力を弱め、乾燥が相対的に遅れている部位には、乾燥促進力を強めて乾燥させるように調節する。これにより、塗布膜全体として、乾燥状態の不均一性を抑えることにより、塗布膜の結晶が大きく成長しやすくなり、塗布膜の結晶状態が不均一になるのを抑えることができる。
【０００９】
また、前記乾燥分布情報は、形成された塗布膜の乾燥状態から定期的に更新される構成にしてもよい。
【００１０】
この構成によれば、塗布膜の乾燥状態が生産と共に変化する場合でも、乾燥分布情報が更新されることにより、乾燥状態の変化に対応し、乾燥状態の不均一性を抑えることができる。なお、乾燥分布情報の更新の頻度は、基板複数枚毎でも、１枚ごとであってもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許