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公開番号2024004833
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-01-17
出願番号2022104692
出願日2022-06-29
発明の名称塗布装置
出願人ニデック株式会社
代理人個人
主分類B05C 5/00 20060101AFI20240110BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約【課題】吐出部の先端の位置の変化に依存することなく、塗布位置を高精度かつ容易に把握することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布装置1は、収容部材21と、吐出部22と、計測部5と、算出部41とを有する。前記収容部材には、塗布剤が収容される。前記吐出部は、前記収容部材から供給された前記塗布剤を先端から吐出する。前記計測部は、前記吐出部の位置を計測して計測結果を示す位置情報を出力する。前記算出部は、前記位置情報に基づいて前記塗布剤を塗布するための塗布位置を算出する。前記位置情報は、前記先端の位置を示す先端位置情報を含む。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
対象物に塗布剤を塗布する塗布装置であって、
前記塗布剤が収容された収容部材と、
前記収容部材から供給された前記塗布剤を先端から吐出する吐出部と、
前記吐出部の位置を計測して計測結果を示す位置情報を出力する計測部と、
前記位置情報に基づいて前記塗布剤を塗布するための塗布位置を算出する算出部と
を有し、
前記位置情報は、前記先端の位置を示す先端位置情報を含む、塗布装置。
続きを表示（約 680 文字）【請求項２】
前記吐出部の延びる方向に直交する回転軸線を中心に前記吐出部を回転させる回転部を更に備え、
前記回転軸線は、前記計測部の計測範囲内に位置する、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記計測部は、
前記先端を撮像する撮像部と、
前記撮像部の撮像結果を示す画像に対して画像処理を実行し、前記画像処理に基づき前記位置情報を生成する画像処理部と
を有する、請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記回転軸線が前記撮像部の光軸に重なる、請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記撮像部は、前記撮像部と前記吐出部との間の遮蔽物に設けられた貫通孔を通して前記先端を撮像する、請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記位置情報は、前記対象物に対する前記吐出部の傾斜角度を示す角度情報を更に含む、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記対象物が配置される配置部と、
前記対象物に対して前記吐出部を移動させる第１移動部と、
前記第１移動部を制御し、前記塗布位置と前記先端との相対的な位置を変える制御部とを更に有する、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記対象物が配置される配置部と、
前記吐出部に対して前記配置部を移動させる第２移動部と、
前記第２移動部を制御し、前記塗布位置と前記先端との相対的な位置を変える制御部と
を更に有する、請求項１に記載の塗布装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、塗布装置に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
従来の液体材料吐出装置は、液体材料を吐出するニードル先端を撮像する下カメラと、液体材料の塗布対象物を撮像する上カメラとを備える（例えば、特許文献１）。液体材料吐出装置では、上カメラ及び下カメラが治具を撮像することで、上カメラ及び下カメラのずれ量を補正している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１３－１８８７３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一般的に、液体材料吐出装置におけるニードル先端の位置は、例えば、ニードルの交換によって変化する。特許文献１の液体材料吐出装置は、ニードル先端の位置の変化を検出できず、所望の吐出位置に液体材料を精密に吐出できない可能性がある。
【０００５】
本開示は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、吐出部の先端の位置の変化に依存することなく、塗布位置を高精度かつ容易に把握することが可能な塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の例示的な塗布装置は、対象物に塗布剤を塗布する。本開示の例示的な塗布装置は、収容部材と、吐出部と、計測部と、算出部とを有する。前記収容部材には、前記塗布剤が収容される。前記吐出部は、前記収容部材から供給された前記塗布剤を先端から吐出する。前記計測部は、前記吐出部の位置を計測して計測結果を示す位置情報を出力する。前記算出部は、前記位置情報に基づいて前記塗布剤を塗布するための塗布位置を算出する。前記位置情報は、前記先端の位置を示す先端位置情報を含む。
【発明の効果】
【０００７】
例示的な本開示によれば、吐出部の先端の位置の変化に依存することなく、塗布位置を高精度かつ容易に把握することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
図１は、例示的な実施形態１の塗布装置の概要を示す図である。
図２は、撮像部によって生成された計測画像を示す図である。
図３は、塗布ユニットの模式図である。
図４は、例示的な実施形態２の塗布装置を示す図である。
図５は、回転機構による塗布ユニットの回転を示す図である。
図６は、例示的な実施形態３の塗布装置を示す図である。
図７は、例示的な実施形態４の塗布装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本開示の例示的な実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。
【００１０】
［実施形態１］
図１を参照して、例示的な実施形態１の塗布装置１を説明する。図１は、例示的な実施形態１の塗布装置１の概要を示す図である。
（【００１１】以降は省略されています）

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