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公開番号2025176115
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-12-03
出願番号2025145228,2022098548
出願日2025-09-02,2021-07-06
発明の名称精製方法
出願人日本碍子株式会社
代理人弁理士法人アイテック国際特許事務所
主分類B01D 9/02 20060101AFI20251126BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】化合物を溶媒に溶解させた溶液から特定の結晶形を得る。
【解決手段】本発明の精製方法は、少なくとも1つの結晶形を持つ化合物を結晶化させる精製方法であって、前記化合物を溶媒に溶解させた溶液から特定の結晶形が析出する特定の赤外線波長を目標波長に設定し、前記目標波長を含む赤外線を放出可能な赤外線放出装置を用いて、前記溶液に前記目標波長を含む赤外線を照射させながら前記溶媒を蒸発させて前記特定の結晶形を析出させるものである。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
少なくとも１つの結晶形を持つ化合物を結晶化させる精製方法であって、
前記化合物を溶媒に溶解させた溶液から特定の結晶形が析出する特定の赤外線波長を目標波長に設定し、前記目標波長を含む赤外線を放出可能な赤外線放出装置を用いて、前記溶液に前記目標波長を含む赤外線を照射させながら前記溶媒を蒸発させて前記特定の結晶形を析出させる、
精製方法。
続きを表示（約 580 文字）【請求項２】
前記化合物は、複数の結晶形を持つものである、
請求項１に記載の精製方法。
【請求項３】
前記特定の赤外線波長を前記目標波長に設定するにあたり、前記結晶形の赤外線吸収スペクトルと前記溶媒に対する前記化合物の溶解速度とに基づいて設定する、
請求項１又は２に記載の精製方法。
【請求項４】
前記赤外線放出装置は、板状の放射体と、熱源としての面状ヒーターとを有する、
請求項１～３のいずれか１項に記載の精製方法。
【請求項５】
前記赤外線放出装置は、前記目標波長にピークを有する赤外線を放出可能である、
請求項１～４のいずれか１項に記載の精製方法。
【請求項６】
前記赤外線放出装置は、外から内に向かって金属パターンと誘電体層と金属基板とがこの順に積層された構造体から前記目標波長にピークを有する赤外線を放出するものであり、前記金属パターンは、前記誘電体層状に同じ形状で同じサイズの金属電極が互いに等間隔に配列されたものであり、前記金属電極の幅に応じて放射する赤外線のピーク波長が変化する、
請求項５に記載の精製方法。
【請求項７】
前記化合物は、フェブキソスタットである、
請求項１～６のいずれか１項に記載の精製方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、精製方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
目的とする有機化合物を精製する方法として、蒸留、再結晶、クロマトグラフィ、抽出などが一般的に知られている。また、レーザ光を利用した有機化合物の精製方法が特許文献１に開示されている。特許文献１では、結晶形として安定形及び準安定形を含む物質の溶液から準安定形の物質を選択的に製造するにあたり、溶液中へレーザ光を照射することにより気泡を発生させて準安定形結晶核を発生させ、準安定形結晶を選択的に製造している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１４－１８９４６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１では、レーザ光照射は溶液中に気泡を発生させるために行っており、赤外吸収波長光については着目されていない。
【０００５】
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、化合物を溶媒に溶解させた溶液から特定の結晶形を得ることを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の精製方法は、
少なくとも１つの結晶形を持つ化合物を結晶化させる精製方法であって、
前記化合物を溶媒に溶解させた溶液から特定の結晶形が析出する特定の赤外線波長及び特定の濃度をそれぞれ目標波長及び目的濃度に設定し、前記目標波長を含む赤外線を放出可能な赤外線放出装置を用いて、前記化合物を前記目的濃度となるように前記溶媒に溶解させた溶液に前記目標波長を含む赤外線を照射させながら前記溶媒を蒸発させて前記特定の結晶形を析出させる、
ものである。
【０００７】
この精製方法によれば、化合物を溶解させる溶媒と溶液に照射する赤外線と溶液の化合物濃度とを調整することにより、化合物を溶媒に溶解させた溶液から特定の結晶形を析出させることができる。特定の結晶形が析出する理由は明らかではないが、以下のように考えられる。複数の結晶形を持つ化合物についていえば、通常、溶媒の種類によって化合物の溶解速度が異なる。溶解速度は結晶の析出しやすさと関連があると考えられる。また、照射される赤外線の吸収率が高い結晶形ほど、熱振動が活発になり結晶核が生成されにくくなると考えられる。更に、溶液の化合物濃度も、溶液から析出する結晶形に影響を与えると考えられる。こうしたことから、特定の結晶形が析出するのに適した条件は、化合物を溶解させる溶媒と溶液に照射する赤外線と溶液の化合物濃度とによって決まると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
精製装置１の斜視図（一部を断面で示した）。
赤外線ヒーター１０の部分底面図。
フェブキソスタットの赤外線吸収スペクトルを示すグラフ。
ロキソプロフェンの赤外線吸収スペクトルを示すグラフ。
カルバマゼピンの赤外線吸収スペクトルを示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に本発明の好適な実施形態について説明する。
【００１０】
本実施形態の精製方法は、少なくとも１つの結晶形を持つ化合物を結晶化させる精製方法であって、その化合物を溶媒に溶解させた溶液から特定の結晶形が析出する特定の赤外線波長及び特定の濃度をそれぞれ目標波長及び目的濃度に設定し、目標波長を含む赤外線を放出可能な赤外線放出装置を用いて、化合物を目的濃度となるように溶媒に溶解させた溶液に目標波長を含む赤外線を照射させながら溶媒を蒸発させて特定の結晶形を析出させるものである。
（【００１１】以降は省略されています）

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