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公開番号2025111188
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-30
出願番号2024005443
出願日2024-01-17
発明の名称基板処理装置
出願人芝浦メカトロニクス株式会社
代理人弁理士法人iX
主分類B05C 11/10 20060101AFI20250723BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約【課題】支持部においてパーテクルが発生したとしても、発生したパーテクルが基板に付着するのを抑制することができる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】実施形態に係る基板処理装置は、チャンバと、前記チャンバの内部に設けられ、基板を第1の方向に搬送する搬送部と、前記チャンバの内部に設けられ、前記搬送部と対向し、前記第1の方向に交差する第2の方向に延び、処理液が供給されるパイプと、前記チャンバの内部に設けられ、前記パイプの、前記搬送部と対向する部分に、所定の間隔をあけて並べて設けられた複数のノズルと、前記第2の方向に延び、前記チャンバの内部において前記パイプを保持し、両側の端部が前記チャンバの外部に設けられたホルダと、前記チャンバの外部に設けられ、前記ホルダの両側の端部のそれぞれを支持する支持部と、前記支持部に支持された前記ホルダを、前記第2の方向に往復移動させる駆動部と、を備えている。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
チャンバと、
前記チャンバの内部に設けられ、基板を第１の方向に搬送する搬送部と、
前記チャンバの内部に設けられ、前記搬送部と対向し、前記第１の方向に交差する第２の方向に延び、処理液が供給されるパイプと、
前記チャンバの内部に設けられ、前記パイプの、前記搬送部と対向する部分に、所定の間隔をあけて並べて設けられた複数のノズルと、
前記第２の方向に延び、前記チャンバの内部において前記パイプを保持し、両側の端部が前記チャンバの外部に設けられたホルダと、
前記チャンバの外部に設けられ、前記ホルダの両側の端部のそれぞれを支持する支持部と、
前記支持部に支持された前記ホルダを、前記第２の方向に往復移動させる駆動部と、
を備えた基板処理装置。
続きを表示（約 660 文字）【請求項２】
前記チャンバの外壁に設けられ、前記ホルダが挿通される与圧部をさらに備え、
前記与圧部は、前記与圧部の、前記ホルダが挿通される部分と、前記ホルダと、の間の隙間の圧力を、環境の圧力よりも高くする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記チャンバの内壁と、前記外壁と、の間に設けられ、前記ホルダが挿通される容器と、
前記容器の内部に設けられ、前記ホルダが挿通する捕捉板と、
をさらに備え、
前記容器の内部に侵入した霧状の前記処理液は、前記捕捉板により捕捉されて、前記容器の内部に滴下する請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記チャンバの内部であって、前記搬送部の、前記パイプ側とは反対側に設けられ、前記複数のノズルから前記基板に向けて供給された前記処理液を受け止める底部と、
前記底部に受け止められた前記処理液を収納するタンクと、
前記タンクに収納された前記処理液を、前記パイプに供給するポンプと、
をさらに備えた請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記タンクの内部に設けられ、前記タンクに収納された前記処理液の状態を検出する検出部と、
前記タンクに収納された前記処理液の温度を制御する温度制御部と、
をさらに備え、
前記検出部は、前記タンクの中央部分を挟んで、前記温度制御部の反対側に設けられている請求項４記載の基板処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、基板処理装置に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどに用いられる基板の面に処理液を供給して基板を処理する装置がある。例えば、搬送装置によって搬送されている基板の面に、複数のノズルから処理液を吹き付けて基板を処理する装置が提案されている。この様な装置においては、基板の面にむら無く処理液を供給するために、基板の搬送方向に交差する方向に、複数のノズルが設けられた部材を往復移動させつつ、複数のノズルから処理液を基板の面に吹き付けている。この場合、複数のノズルが設けられた部材を支える支持部は、基板が搬送されるチャンバの内部に設けられている。（例えば、特許文献１を参照）
【０００３】
ここで、複数のノズルが設けられた部材が往復移動した際に、部材と支持部との間に擦れが生じてパーテクルが発生する場合がある。近年においては、基板の大型化が進み、複数のノズルが設けられた部材の大型化、ひいては部材の重量が増加している。部材の重量が増加すると、パーテクルがさらに発生し易くなる。
【０００４】
前述した様に、複数のノズルが設けられた部材を支える支持部は、基板が搬送されるチャンバの内部に設けられている。そのため、支持部においてパーテクルが発生すると、発生したパーテクルが、同じチャンバの内部を搬送される基板に付着するおそれがある。パーテクルが基板に付着すると処理品質が低下するおそれがある。
そこで、支持部においてパーテクルが発生したとしても、発生したパーテクルが基板に付着するのを抑制することができる基板処理装置の開発が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
実開平５－２２０８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、支持部においてパーテクルが発生したとしても、発生したパーテクルが基板に付着するのを抑制することができる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
実施形態に係る基板処理装置は、チャンバと、前記チャンバの内部に設けられ、基板を第１の方向に搬送する搬送部と、前記チャンバの内部に設けられ、前記搬送部と対向し、前記第１の方向に交差する第２の方向に延び、処理液が供給されるパイプと、前記チャンバの内部に設けられ、前記パイプの、前記搬送部と対向する部分に、所定の間隔をあけて並べて設けられた複数のノズルと、前記第２の方向に延び、前記チャンバの内部において前記パイプを保持し、両側の端部が前記チャンバの外部に設けられたホルダと、前記チャンバの外部に設けられ、前記ホルダの両側の端部のそれぞれを支持する支持部と、前記支持部に支持された前記ホルダを、前記第２の方向に往復移動させる駆動部と、を備えている。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の実施形態によれば、支持部においてパーテクルが発生したとしても、発生したパーテクルが基板に付着するのを抑制することができる基板処理装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本実施の形態に係る基板処理装置を例示するための模式平面図である。
図１に示す基板処理装置の図から、処理液供給部、および移動部を省略して描いた平面図である。
図１に示す基板処理装置の図から搬送部を省略して描いた平面図である。
図１における基板処理装置のＡ－Ａ線断面図である。
図１における基板処理装置のＢ－Ｂ線断面図である。
他の実施形態に係る底部を例示するための模式断面図である。
移動部を例示するための模式断面図である。
一対の梁に対して１つのブラケットが設けられる場合を例示するための模式図である。
駆動部による支持部の動作を例示するための模式図である。
図７におけるＤ部の模式拡大図である。
図１０におけるＥ部の模式拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
なお、各図中における矢印Ｘ、矢印Ｙ、および矢印Ｚは、互いに直交する三方向を表している。例えば、Ｘ方向（第１の方向の一例に相当する）は、基板の搬送方向とすることができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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