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公開番号2025092268
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-19
出願番号2023208046
出願日2023-12-08
発明の名称水栓器具より吐出される湯水中のレジオネラ属菌の殺菌方法
出願人アクアス株式会社
代理人弁理士法人日峯国際特許事務所
主分類E03C 1/042 20060101AFI20250612BHJP(上水;下水)
要約【課題】簡便に、かつ、個々の水栓器具に対して実施可能な、水栓器具より吐出される湯水中のレジオネラ属菌の殺菌方法を提供する。
【解決手段】水栓器具より吐出される湯水中のレジオネラ属菌を殺菌するにあたり、(A)前記水栓器具より吐出される湯水に対して紫外線殺菌処理を行う紫外線殺菌処理工程と、(B)前記水栓器具内部に付着するバイオフィルムの塩素剤処理を行う水栓器具内部処理工程と、(C)前記水栓器具に付属する泡沫キャップ又は散水板又はシャワーヘッドに付着するバイオフィルムの塩素剤処理を行う水栓器具末端部処理工程とを少なくとも行う。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
次の（Ａ）～（Ｃ）の工程、すなわち、
（Ａ）水栓器具より吐出される湯水に対して紫外線殺菌処理を行う紫外線殺菌処理工程、
（Ｂ）前記水栓器具内部に付着するバイオフィルムの塩素剤処理を行う水栓器具内部処理工程、
（Ｃ）前記水栓器具の末端に付属する泡沫キャップ又は散水板又はシャワーヘッドに付着するバイオフィルムの塩素剤処理を行う水栓器具末端部処理工程、
を有する水栓器具より吐出される湯水中のレジオネラ属菌の殺菌方法であって、
前記紫外線殺菌処理工程（Ａ）における前記紫外線殺菌処理を行う紫外線殺菌処理装置が、前記水栓器具のホース部の根元部分に設置されており、前記水栓器具より吐出される湯水の紫外線殺菌を行い、
前記水栓器具内部処理工程（Ｂ）は、次の（ｂ１）～（ｂ３）の工程、すなわち、
（ｂ１）前記水栓器具のホース部の根元部分まで薬注用チューブを差し込むチューブ差し込み工程、
（ｂ２）前記薬注用チューブより注入した塩素剤で、前記水栓器具の前記紫外線殺菌装置より下流を満たし、前記塩素剤を保持する水栓器具薬注保持工程、
（ｂ３）前記塩素剤を保持した前記水栓器具を水洗し、前記塩素剤を洗い流す水栓器具内部水洗工程、
前記水栓器具末端部処理工程（Ｃ）は、次の（ｃ１）及び（ｃ２）の工程、すなわち、
（ｃ１）前記泡沫キャップ又は前記散水板又は前記シャワーヘッドを前記塩素剤に浸漬する水栓器具末端部浸漬工程、
（ｃ２）前記塩素剤に浸漬した前記泡沫キャップ又は前記散水板又は前記シャワーヘッドを水洗する水栓器具末端部水洗工程、
を有することを特徴とする
水栓器具より吐出される湯水中のレジオネラ属菌の殺菌方法。
続きを表示（約 620 文字）【請求項２】
前記水栓器具内部処理工程（Ｂ）、及び、前記水栓器具末端部処理工程（Ｃ）において
遊離塩素濃度（％）× 塩素剤の保持時間又は浸漬時間（分）
で表される遊離塩素ＣＴ値が、０．００３％・分以上であって、
前記遊離塩素濃度が、０．０００１％以上、
前記塩素剤の保持時間又は浸漬時間が、１分以上１００分以下である
ことを特徴とする請求項１に記載の水栓器具より吐出される湯水中のレジオネラ属菌の殺菌方法。
【請求項３】
前記水栓器具内部処理工程（Ｂ）、及び、前記水栓器具末端部処理工程（Ｃ）において
結合塩素濃度（％）× 塩素剤の保持時間又は浸漬時間（分）
で表される結合塩素ＣＴ値が、０．０００５％・分以上であって、
前記結合塩素濃度が、０．００００５％以上、
塩素剤の保持時間又は浸漬時間が、１分以上１００分以下である
ことを特徴とする請求項１に記載の水栓器具より吐出される湯水中のレジオネラ属菌の殺菌方法。
【請求項４】
前記水栓器具内部処理工程（Ｂ）、及び、前記水栓器具末端部処理工程（Ｃ）において用いる塩素剤が、
次亜塩素酸ナトリウム、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム、モノクロラミンから選ばれる１種以上である
ことを特徴とする請求項１に記載の水栓器具より吐出される湯水中のレジオネラ属菌の殺菌方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、簡便に、かつ、個々の水栓器具に対して実施可能な、水栓器具より吐出される湯水中のレジオネラ属菌の殺菌方法に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
レジオネラ属菌は、好気性のグラム陰性桿菌であり、本来、自然界の土壌や淡水に生息する環境細菌であるが、冷却塔冷却水やプール水、温浴施設循環水等の人工水系においても高い確率で生息することが明らかとなっている。レジオネラ属菌が生息する水系のエアロゾルを吸入すると、レジオネラ属菌の気道感染が生じ、レジオネラ肺炎等のレジオネラ症を引き起こすことが知られており、日本国内では１９８０年にレジオネラ症患者が初めて陽性診断されて以降、その患者報告数は年々増加傾向にある。
【０００３】
レジオネラ症は人から人へ感染する例は報告されていないことから、人工水系の適切な衛生管理がレジオネラ症防止手段として重要視されており、例えば給湯設備については、非特許文献１の厚生労働省による「建築物における衛生的環境の維持管理について」において、湯を循環させる中央式給湯方式の給湯設備は、湯温を貯湯タンク内６０℃以上、給湯栓末端でも５５℃以上に保つことと記載されている。
【０００４】
従来のレジオネラ属菌対策として、例えば、給水系は各水栓末端における給水の遊離残留塩素濃度で管理され、給湯系は毎日６０℃以上の熱湯を約３０分間放流する高温フラッシングにより熱殺菌されている。
【０００５】
特に混合水栓が多く設置されている病院やホテル等の施設では、高温フラッシングは水温の調整に手間が掛かる場合がある他、熱傷のリスク等があるため、困難な作業となっている。その他にも、水道光熱費の圧迫や熱湯によるＰＶＣ製排水管の軟化や漏水等の問題がある。
【０００６】
その他の対策方法として、給湯設備全体を薬剤により殺菌する方法があるが、病院やホテル等においては、休業日が無いため、給湯設備を止めることができず、実施が困難であることが多い。
【０００７】
また、水栓の使用頻度が低い箇所では、水栓器具の内部にバイオフィルムが付着して初流水にレジオネラ属菌が放出される。バイオフィルム付着防止の方法として、高温処理や頻繁なフラッシングによる残留塩素濃度の維持等をする必要があり手間が掛かる。
【０００８】
特許文献１には、混合水栓に取り付けられたプラズマ生成器により、混合水栓より吐出される水の中に存在する細菌やウイルスを殺菌処理する方法が記載されている。しかし、この方法で殺菌できるのは水中に存在する細菌やウイルスのみであり、混合水栓内部に定着したバイオフィルム内のレジオネラ属菌を殺菌することができないため、レジオネラ属菌がバイオフィルムから水中へ放出されることを防ぐことができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
再表２０１５／１４１０００号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
そこで本発明は、上述の問題点を解決する、簡便に、かつ、個々の水栓器具に対して実施可能な、水栓器具より吐出される湯水中のレジオネラ属菌の殺菌方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

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