特許ウォッチ

公開番号2025087462
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-10
出願番号2023202139
出願日2023-11-29
発明の名称吸着装置、成膜装置、吸着方法及び製造方法
出願人キヤノントッキ株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類C23C 14/24 20060101AFI20250603BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】吸着板における基板の吸着不良を低減するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】第1面及び前記第1面とは反対の側の第2面を含む基板の前記第1面の周縁部を支持する基板支持部と、前記基板支持部によって支持された前記基板の前記第2面を吸着する吸着板と、前記吸着板と、前記基板の前記第1面にパターンを成膜するためのマスクが載置されるマスク台又は前記マスクとの相対的な傾きを調整する第1調整部と、前記基板の前記第2面の周縁部の複数箇所のそれぞれに対向して設けられ、前記基板を前記第2面の側から押圧するための複数の押圧部材と、前記第1調整部によって前記吸着板が傾けられた状態において、前記吸着板の傾きに応じて、前記複数の押圧部材のそれぞれが、前記基板支持部によって支持された前記基板の前記第2面を押圧する押圧力を調整する第2調整部と、を有する、ことを特徴とする吸着装置を提供する。
【選択図】図7
特許請求の範囲【請求項１】
第１面及び前記第１面とは反対の側の第２面を含む基板の前記第１面の周縁部を支持する基板支持部と、
前記基板支持部によって支持された前記基板の前記第２面を吸着する吸着板と、
前記吸着板と、前記基板の前記第１面にパターンを成膜するためのマスクが載置されるマスク台又は前記マスクとの相対的な傾きを調整する第１調整部と、
前記基板の前記第２面の周縁部の複数箇所のそれぞれに対向して設けられ、前記基板を前記第２面の側から押圧するための複数の押圧部材と、
前記第１調整部によって前記吸着板が傾けられた状態において、前記吸着板の傾きに応じて、前記複数の押圧部材のそれぞれが、前記基板支持部によって支持された前記基板の前記第２面を押圧する押圧力を調整する第２調整部と、
を有する、ことを特徴とする吸着装置。
続きを表示（約 1,500 文字）【請求項２】
前記複数の押圧部材のそれぞれは、前記基板支持部によって支持された前記基板の前記第２面に接触する接触端を含み、
前記第２調整部は、前記複数の押圧部材のそれぞれの接触端の位置を鉛直方向に変位させることにより、前記押圧力を調整する、
ことを特徴とする請求項１に記載の吸着装置。
【請求項３】
前記吸着板は、前記基板の前記第２面を吸着する吸着面を含み、
前記複数の押圧部材のそれぞれは、前記吸着面と前記吸着面とは反対側の面との間で前記吸着板を貫通する貫通孔を介して、前記接触端を前記吸着面から突出させることによって、前記基板を前記第２面の側から押圧し、
前記第２調整部は、前記吸着面から突出する前記複数の押圧部材のそれぞれの前記接触端の突出量が等しくなるように、前記複数の押圧部材のそれぞれの前記接触端の位置を鉛直方向に変位させる、
ことを特徴とする請求項２に記載の吸着装置。
【請求項４】
前記第２調整部は、前記複数の押圧部材のそれぞれの前記接触端を鉛直方向に変位させるための操作部を含む、ことを特徴とする請求項２に記載の吸着装置。
【請求項５】
前記基板支持部、前記吸着板及び前記マスク台を収容する空間を規定し、前記空間を真空雰囲気に維持するチャンバを更に有し、
前記操作部は、前記チャンバの外部に設けられている、
ことを特徴とする請求項４に記載の吸着装置。
【請求項６】
前記第２調整部は、
前記複数の押圧部材のそれぞれに対応して設けられ、前記複数の押圧部材のそれぞれに接続可能な複数のシャフトと、
前記複数の押圧部材のそれぞれに対応して設けられ、前記複数のシャフトのそれぞれを駆動する複数のモータと、
を含み、
前記複数のモータによって前記複数のシャフトのそれぞれを駆動することで、前記複数の押圧部材のそれぞれの前記接触端を鉛直方向に変位させる、
ことを特徴とする請求項２に記載の吸着装置。
【請求項７】
前記基板支持部、前記吸着板及び前記マスク台を収容する空間を規定し、前記空間を真空雰囲気に維持するチャンバを更に有し、
前記複数のモータは、前記チャンバの外部に設けられている、
ことを特徴とする請求項６に記載の吸着装置。
【請求項８】
前記吸着板の傾きを検出する検出部と、
前記検出部で検出された前記吸着板の傾きに基づいて、前記複数のモータのそれぞれによって駆動される前記複数のシャフトのそれぞれの駆動量を制御する制御部と、
を有することを特徴とする請求項７に記載の吸着装置。
【請求項９】
前記吸着板は、前記基板の前記第２面を吸着する吸着面を含み、
前記複数の押圧部材のそれぞれは、前記吸着面と前記吸着面とは反対側の面との間で前記吸着板を貫通する貫通孔を介して、前記接触端を前記吸着面から突出させることによって、前記基板を前記第２面の側から押圧し、
前記制御部は、前記吸着面から突出する前記複数の押圧部材のそれぞれの前記接触端の突出量が等しくなるように、前記複数のモータのそれぞれによって駆動される前記複数のシャフトのそれぞれの駆動量を制御する、
ことを特徴とする請求項８に記載の吸着装置。
【請求項１０】
前記吸着板の傾きを検出する検出部を更に有する、ことを特徴とする請求項１に記載の吸着装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、吸着装置、成膜装置、吸着方法及び製造方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置（有機ＥＬディスプレイ）は、例えば、スマートフォン、テレビ、自動車用ディスプレイ、ＶＲＨＭＤ（ＶｉｒｔｕａｌＲｅａｌｉｔｙＨｅａｄＭｏｕｎｔＤｉｓｐｌａｙ）などに適用されている。有機ＥＬ表示装置を製造する工程においては、基板上に有機発光素子（有機ＥＬ素子：ＯＬＥＤ）を形成する際に、一般的に、成膜装置が用いられている。
【０００３】
成膜装置は、蒸着源から放出された蒸着物質（成膜材料）を、画素パターンに対応するパターンが形成されたマスクを介して、基板に付着させて有機物膜や金属膜などの膜を形成（成膜）する。この際、基板とマスクとを高精度に位置合わせ（アライメント）することが必要となる。
【０００４】
基板とマスクとのアライメントに関する技術については、従来から提案されている（特許文献１及び２参照）。特許文献１には、基板を吸着する吸着板とマスクを載置するマスク台との相対的な傾きを調整して、アライメント精度の低下を抑制する技術が開示されている。特許文献２には、吸着板が基板を吸着する前に基板の複数箇所（角部）を押圧して、基板支持ユニットに支持された基板の撓みを低減する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０２２－５７６７３号公報
特許第７２４６５９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来技術では、マスク台の傾きに合わせて吸着板を傾けた状態において、基板支持ユニットに支持された基板の複数箇所を押圧し、その後、基板を吸着板に吸着（貼着）させると、基板の吸着不良が増加してしまう。吸着板における基板の吸着不良は、工程時間（ＴａｃｔＴｉｍｅ）を増加させ、歩留まりや生産性を低下させる要因となる。
【０００７】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、吸着板における基板の吸着不良を低減するのに有利な技術を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての吸着装置は、第１面及び前記第１面とは反対の側の第２面を含む基板の前記第１面の周縁部を支持する基板支持部と、前記基板支持部によって支持された前記基板の前記第２面を吸着する吸着板と、前記吸着板と、前記基板の前記第１面にパターンを成膜するためのマスクが載置されるマスク台又は前記マスクとの相対的な傾きを調整する第１調整部と、前記基板の前記第２面の周縁部の複数箇所のそれぞれに対向して設けられ、前記基板を前記第２面の側から押圧するための複数の押圧部材と、前記第１調整部によって前記吸着板が傾けられた状態において、前記吸着板の傾きに応じて、前記複数の押圧部材のそれぞれが、前記基板支持部によって支持された前記基板の前記第２面を押圧する押圧力を調整する第２調整部と、を有する、ことを特徴とする。
【０００９】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、例えば、吸着板における基板の吸着不良を低減するのに有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許