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公開番号2025073689
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-13
出願番号2023184676
出願日2023-10-27
発明の名称情報処理装置
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250502BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】パターン形成装置におけるスループットを従来より向上させることができる情報処理装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る情報処理装置は、パターン形成装置において基板を搬出するためにパターン形成位置から、基板ステージによって保持されている基板が基板搬送部に受け渡される所定の位置まで基板ステージが移動を行う際の基板の保持の状態と、基板上における複数のショット領域のレイアウトとに基づいて、複数のショット領域にパターンを形成する際に最後にパターンが形成される最終ショット領域を決定する第1の決定工程を行うことを特徴とする。
【選択図】図7
特許請求の範囲【請求項１】
パターン形成装置において基板を搬出するためにパターン形成位置から、基板ステージによって保持されている前記基板が基板搬送部に受け渡される所定の位置まで前記基板ステージが移動を行う際の前記基板の前記保持の状態と、前記基板上における複数のショット領域のレイアウトとに基づいて、前記複数のショット領域にパターンを形成する際に最後に前記パターンが形成される最終ショット領域を決定する第１の決定工程を行うことを特徴とする情報処理装置。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記第１の決定工程は、前記移動を行う時間が最も短くなるように前記最終ショット領域を決定する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記第１の決定工程は、前記基板が前記基板ステージに設けられているピンによって保持されながら前記移動が行われるか、若しくは前記基板が前記基板ステージに設けられているチャックによって保持されながら前記移動が行われるか判断する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記第１の決定工程は、前記基板が前記ピンによって保持されながら前記移動が行われると判断した場合に、前記基板ステージと前記基板搬送部との双方が並列して前記所定の位置まで移動する際に互いに干渉しない前記パターン形成位置から決定される非干渉領域に、対応する前記パターン形成位置が含まれる少なくとも一つの前記ショット領域を前記複数のショット領域から抽出する抽出工程を含むことを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記抽出工程は、対応する前記パターン形成位置が前記非干渉領域に含まれるか前記複数のショット領域それぞれに対して判断する工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記第１の決定工程は、前記抽出された少なくとも一つのショット領域のうち前記移動を行う時間が最も短くなる前記ショット領域を前記最終ショット領域として決定する工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記第１の決定工程は、前記基板ステージ及び前記基板搬送部それぞれの移動プロファイルから前記非干渉領域を決定する工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記第１の決定工程は、前記基板が前記チャックによって保持されながら前記移動が行われると判断した場合に、前記複数のショット領域のうち前記移動を行う時間が最も短くなる前記ショット領域を前記最終ショット領域として決定する工程を含むことを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記第１の決定工程の後に、前記複数のショット領域に前記パターンを形成する順番を決定する第２の決定工程を行うことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記複数のショット領域それぞれに対して第１レイヤ以外のレイヤにおける前記パターンを形成する際に、前記第２の決定工程の後に、前記基板上に設けられているアライメント処理のための計測が行われる複数のサンプルショット領域のレイアウトに基づいて、前記複数のサンプルショット領域において前記計測を行う際に最後に前記計測が行われる最終サンプルショット領域を決定する第３の決定工程を行うことを特徴とする請求項９に記載の情報処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報処理装置に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、基板上の複数のショット領域それぞれにパターンを形成するパターン形成装置においては、当該複数のショット領域それぞれに対する当該パターンの形成に必要な時間を短縮することでスループットを向上させることが求められている。
特許文献１は、アライメントの際の複数のサンプルショット領域間の移動や、露光を開始する際の当該サンプルショット領域からショット領域への移動に要する時間を短縮することでスループットを向上させている露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００１－９３８１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一方、基板上の複数のショット領域それぞれにパターンを形成した後、複数の搬送方法から選択される搬送方法に従って当該基板を搬出するパターン形成装置が知られている。
しかしながら、そのようなパターン形成装置では当該選択される搬送方法に応じて基板上の複数のショット領域それぞれに対するパターンの形成に必要な時間を短縮することは行われておらず、スループットの向上は十分ではない。
【０００５】
そこで本発明は、パターン形成装置におけるスループットを従来より向上させることができる情報処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る情報処理装置は、パターン形成装置において基板を搬出するためにパターン形成位置から、基板ステージによって保持されている基板が基板搬送部に受け渡される所定の位置まで基板ステージが移動を行う際の基板の保持の状態と、基板上における複数のショット領域のレイアウトとに基づいて、複数のショット領域にパターンを形成する際に最後にパターンが形成される最終ショット領域を決定する第１の決定工程を行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、パターン形成装置におけるスループットを従来より向上させることができる情報処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本実施形態に係る情報処理装置を備える露光装置の模式的断面図及び一部ブロック図。
露光装置の基板搬送系近傍における模式的上面図。
並列駆動によって基板を露光位置から出入口まで搬出する処理を示すフローチャート。
図３の処理の各タイミングにおける基板ステージ及び第１の基板搬送部それぞれの側面図。
逐次駆動によって基板を露光位置から出入口まで搬出する処理を示すフローチャート。
図５の処理の各タイミングにおける基板ステージ及び第１の基板搬送部それぞれの側面図。
本実施形態に係る情報処理装置での複数のショット領域それぞれに対する露光の順番を決定する処理を示すフローチャート。
ステップＳ３０６における非干渉領域に対応するショット領域を取得する処理を示すサブフローチャート。
基板における複数のショット領域及び複数のサンプルショット領域のレイアウトの例を示した図。
非干渉領域の例を示すための露光装置の基板搬送系近傍における模式的上面図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に、本実施形態に係る情報処理装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。
また以下では、投影光学系１１０の光軸に平行な方向（基板１１５の基板面に垂直な方向）をＺ方向、Ｚ方向に垂直な平面（基板１１５の基板面に平行な平面）内において互いに直交する二方向をＸ方向及びＹ方向と定義する。
【００１０】
また以下において示される各数値は、主記憶部１２３又はその代替に記憶されるものとする。
また以下に説明する実施形態は、本実施形態に係る情報処理装置を実現するための手段の一例であり、適宜修正又は変更することができる。
また本実施形態に係る情報処理装置は、以下に示す露光装置に限らず、例えば精密加工装置や精密測定装置にも適用することが可能である。
（【００１１】以降は省略されています）

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