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公開番号
2025066165
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-04-22
出願番号
2025013905,2023117511
出願日
2025-01-30,2010-07-02
発明の名称
半導体装置
出願人
株式会社半導体エネルギー研究所
代理人
主分類
H10D
30/67 20250101AFI20250415BHJP()
要約
【課題】安定した電気的特性を有するトランジスタを用いて安定した動作を行う表示装置
を提供することを課題とする。
【解決手段】酸化物半導体層をチャネル形成領域とするトランジスタを適用して表示装置
を作製するに際し、少なくとも駆動回路に適用するトランジスタの上に更なるゲート電極
を配する。酸化物半導体層をチャネル形成領域とするトランジスタを作製するに際しては
、酸化物半導体層に対して脱水化または脱水素化のための加熱処理を行い、上下に接して
設けられるゲート絶縁層及び保護絶縁層と酸化物半導体層の界面に存在する水分などの不
純物を低減する。
【選択図】図11
特許請求の範囲
【請求項1】
トランジスタを含む画素部と駆動回路部を有する表示装置の作製方法であって、
絶縁表面を有する基板上にゲート電極層を形成し、
前記ゲート電極層を覆ってゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上に酸化物半導体層を形成し、
前記酸化物半導体層を脱水化または脱水素化し、
前記脱水化または脱水素化させた前記酸化物半導体層上にソース電極およびドレイン電極層を形成し、
前記ゲート絶縁層、前記脱水化または脱水素化された前記酸化物半導体層、前記ソース電極および前記ドレイン電極層上に、前記酸化物半導体層の一部と接する絶縁性酸化膜により保護層を形成し、
該保護層上に更なるゲート電極層を形成することで少なくとも前記駆動回路部のトランジスタを作製する表示装置の作製方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
トランジスタで構成された回路を有する表示装置の作製方法に関する。
続きを表示(約 2,600 文字)
【背景技術】
【0002】
金属酸化物は多様に存在し、様々な用途に用いられている。金属酸化物として、酸化イ
ンジウムはよく知られた材料であり、液晶ディスプレイなどで必要とされる透光性を有す
る導電性材料として用いられている。
【0003】
金属酸化物には半導体特性を示すものがある。半導体特性を示す金属酸化物としては、
例えば、酸化タングステン、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛などがあり、このような
半導体特性を示す金属酸化物をチャネル形成領域とするトランジスタが既に知られている
(例えば、特許文献1乃至特許文献4、および非特許文献1を参照)。
【0004】
ところで、金属酸化物は一元系酸化物のみでなく多元系酸化物も知られている。例えば
、ホモロガス相を有するInGaO
3
(ZnO)
m
(m:自然数)は、In、Gaおよび
Znを有する多元系酸化物半導体として知られている(非特許文献2乃至非特許文献4を
参照)。
【0005】
そして、上記のようなIn-Ga-Zn系酸化物で構成される酸化物半導体層をトラン
ジスタのチャネル層として適用可能であることが確認されている(特許文献5、非特許文
献5および非特許文献6を参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
特開昭60-198861号公報
特開平8-264794号公報
特表平11-505377号公報
特開2000-150900号公報
特開2004-103957号公報
【非特許文献】
【0007】
M. W. Prins, K. O. Grosse-Holz, G. Muller, J. F. M. Cillessen, J. B. Giesbers, R. P. Weening, and R. M. Wolf、「A ferroelectric transparent thin-film transistor」、 Appl. Phys. Lett.、17 June 1996、 Vol.68 p.3650-3652
M. Nakamura, N. Kimizuka, and T. Mohri、「The Phase Relations in the In2O3-Ga2ZnO4-ZnO System at 1350℃」、J. Solid State Chem.、1991、Vol.93, p.298-315
N. Kimizuka, M. Isobe, and M. Nakamura、「Syntheses and Single-Crystal Data of Homologous Compounds, In2O3(ZnO)m(m=3,4, and 5), InGaO3(ZnO)3, and Ga2O3(ZnO)m(m=7,8,9, and 16) in the In2O3-ZnGa2O4-ZnO System」、 J. Solid State Chem.、1995、Vol.116, p.170-178
中村真佐樹、君塚昇、毛利尚彦、磯部光正、「ホモロガス相、InFeO3(ZnO)m(m:自然数)とその同型化合物の合成および結晶構造」、固体物理、1993年、Vol.28、No.5、p.317-327
K. Nomura, H. Ohta, K. Ueda, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono、「Thin-film transistor fabricated in single-crystalline transparent oxide semiconductor」、SCIENCE、2003、Vol.300、p.1269-1272
K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono、「Room-temperature fabrication of transparent flexible thin-film transistors using amorphous oxide semiconductors」、NATURE、2004、Vol.432 p.488-492
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明の一態様は、電気的特性が良好であり且つ信頼性の高いトランジスタとその作製
方法を提供し、これを適用した、表示品質が良好であり且つ信頼性の高い表示装置を提供
することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の一態様は、酸化物半導体層を有するトランジスタが設けられた表示装置であっ
て、該表示装置のアクティブマトリクス基板は、画素部と駆動回路部を有し、少なくとも
該駆動回路部では、バックチャネル部と重畳する位置に更なるゲート電極が設けられてお
り、該トランジスタの作製に際して、酸化物半導体層には加熱処理が行われ、該加熱処理
により、脱水化または脱水素化されることを特徴とする。更には、該加熱処理後に該酸化
物半導体層を覆って酸素を含む絶縁性無機材料により保護絶縁層が形成される。該加熱処
理によりキャリア濃度も変化する。
【発明の効果】
【0010】
電気的特性が良好なトランジスタを作製し、特に、長期間の使用に際しても、しきい値
電圧がシフトしにくく、信頼性の高いトランジスタを作製することができ、このようなト
ランジスタを少なくとも駆動回路部に適用することで、表示装置の信頼性を向上させるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
(【0011】以降は省略されています)
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