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公開番号
2025047759
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-04-03
出願番号
2023156448
出願日
2023-09-21
発明の名称
チタン銅箔、チタン銅条及び電子部品
出願人
JX金属株式会社
代理人
アクシス国際弁理士法人
主分類
C22C
9/00 20060101AFI20250326BHJP(冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理)
要約
【課題】箔厚のばらつきが低減されたチタン銅箔、チタン銅条及び電子部品を提供する。
【解決手段】本開示のチタン銅箔は、1.5質量%~5.0質量%のTiを含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、圧延方向と平行な方向に10mmの間隔で直線上に位置する9点における箔厚の平均値(μm)に対する前記箔厚の標準偏差(μm)の比が、0.0100以下である。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
1.5質量%~5.0質量%のTiを含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、
圧延方向と平行な方向に10mmの間隔で直線上に位置する9点における箔厚の平均値(μm)に対する前記箔厚の標準偏差(μm)の比が、0.0100以下である、チタン銅箔。
続きを表示(約 630 文字)
【請求項2】
前記箔厚の平均値に対する前記箔厚の標準偏差の比が、0.0050以下である、請求項1に記載のチタン銅箔。
【請求項3】
前記箔厚の平均値に対する前記箔厚の標準偏差の比が、0.0030以下である、請求項2に記載のチタン銅箔。
【請求項4】
前記箔厚の標準偏差が、0.500μm以下である、請求項1に記載のチタン銅箔。
【請求項5】
前記箔厚の標準偏差が、0.200μm以下である、請求項4に記載のチタン銅箔。
【請求項6】
前記箔厚の平均値が、200μm以下である、請求項1又は4に記載のチタン銅箔。
【請求項7】
前記箔厚の平均値が、80μm以下である、請求項6に記載のチタン銅箔。
【請求項8】
前記箔厚の最大値と前記箔厚の最小値との差が、2.00μm以下である、請求項1又は4に記載のチタン銅箔。
【請求項9】
前記箔厚の最大値と前記箔厚の最小値との前記差が、1.20μm以下である、請求項8に記載のチタン銅箔。
【請求項10】
Al、Ag、B、Co、Cr、Fe、Ge、Hf、La、Mg、Mn、Mo、Nb、Ni、P、Si、Sn、Y及びZrからなる群から選択される少なくとも一種の元素の総含有量が、0.0質量%~1.0質量%である、請求項1又は4に記載のチタン銅箔。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
この明細書は、チタン銅箔ならびに、それを含むチタン銅条及び電子部品について記載したものである。
続きを表示(約 1,200 文字)
【背景技術】
【0002】
チタン銅箔は、銅合金箔のなかでも優れた応力緩和特性及び、比較的高い強度を有することから、電子機器のスイッチ、コネクタ、ジャック、端子、リレーその他の部品に使用されることがある。近年は、電子機器の小型化が進むに伴い、当該電子機器用の部品に用いるチタン銅箔として箔厚が薄いものが求められる。箔厚は、たとえば、0.1mm以下である。そのような薄いチタン銅箔で所要の特性を発揮することが要求される。
【0003】
特許文献1では、「箔厚が0.1mm以下の薄いものであってもばねとして用いた際のへたりが小さく、オートフォーカスカメラモジュール等の電子機器部品に使用される導電性ばね材として好適に用いることのできるチタン銅箔及びその製造方法を提供すること」を目的として、「Tiを1.5~5.0質量%で含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、箔厚が0.1mm以下であり、圧延方向と平行な方向に60mmの間隔で並んで位置する5つの測定点での箔厚の変動が0.0μm~1.0μmであるチタン銅箔」が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2017-179570号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
チタン銅箔の箔厚が不均一である場合、それをたとえばコネクタに用いたときにコネクタの接触圧力にばらつきが生じるため、接触抵抗が安定しない。その結果、接触不良が起こり得る。あるいは、チタン銅箔の箔厚が不均一である場合、それをたとえばばね材として用いたときに、チタン銅箔に加わる応力が均一に分散しにくくなる。その結果、電子部品としての疲労耐性が低くなり得る。これらの観点から、チタン銅箔の箔厚の更なる均一化を実現することが必要である。
【0006】
この明細書では、箔厚のばらつきが低減されたチタン銅箔、チタン銅条及び電子部品を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示のチタン銅箔は、1.5質量%~5.0質量%のTiを含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、圧延方向と平行な方向に10mmの間隔で直線上に位置する9点における箔厚の平均値(μm)に対する前記箔厚の標準偏差(μm)の比が、0.0100以下である。
【0008】
本開示のチタン銅箔は、また、1.5質量%~5.0質量%のTiを含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、圧延方向と平行な方向に10mmの間隔で直線上に位置する9点における箔厚の標準偏差が、0.500μm以下である。
【0009】
本開示のチタン銅条は、上記のチタン銅箔を含むものである。
【0010】
本開示の電子部品は、上記のチタン銅箔を含むものである。
【発明の効果】
(【0011】以降は省略されています)
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