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公開番号2025047163
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-03
出願番号2023155495
出願日2023-09-21
発明の名称基板の表面処理装置およびその表面処理方法
出願人トヨタ自動車株式会社,株式会社TMEIC
代理人弁理士法人平木国際特許事務所
主分類B05B 17/06 20060101AFI20250326BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約【課題】処理室に導入した処理液のミストを再利用することにより、基板の被処理面を安価に表面処理することができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】表面処理装置100Aは、基板Bの被処理面Baに処理液Lを付着させることにより、基板Bの表面処理を行う装置である。処理液LのミストMを生成するミスト生成装置10と、ミスト生成装置10で生成されたミストMが導入され、導入されたミストMを基板Bの被処理面Baに付着させる処理室20と、処理室20から排出されるミストMを、ミスト生成装置10で生成されたミストMとともに処理室20に循環させる循環経路30と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板の被処理面に処理液を付着させることにより、前記基板の表面処理を行う装置であって、
前記処理液のミストを生成するミスト生成装置と、
前記ミスト生成装置で生成されたミストが導入され、導入された前記ミストを前記基板の前記被処理面に付着させる処理室と、
前記処理室から排出される前記ミストを、前記ミスト生成装置で生成された前記ミストとともに前記処理室に循環させる循環経路と、
を備える、基板の表面処理装置。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記ミスト生成装置は、前記循環経路に配置されており、
前記ミスト生成装置は、前記処理室から前記ミストに由来した前記処理液を回収し、前記処理液を収容する収容槽を有しており、
前記ミスト生成装置は、前記収容槽に収容された前記処理液から前記ミストを生成する、請求項１に記載の基板の表面処理装置。
【請求項３】
前記循環経路は、前記処理室の上部から前記ミストを導入し、前記処理室の下部から前記ミストを排出するように、前記処理室に接続されており、
前記循環経路の下部に、前記収容槽が配置されている、請求項２に記載の基板の表面処理装置。
【請求項４】
前記循環経路には、前記処理室に前記ミストを搬送する搬送ガスのガス経路が接続されている、請求項１に記載の基板の表面処理装置。
【請求項５】
前記表面処理装置は、前記基板の前記被処理面を上方に向けた状態で、前記処理室に前記基板を搬送する搬送装置を備えており、
前記循環経路は、前記処理室の上部から前記ミストを導入し、前記処理室の下部から前記ミストを排出するように、前記処理室に接続されている、請求項１に記載の基板の表面処理装置。
【請求項６】
前記ミスト生成装置、前記処理室、および前記循環経路を少なくとも有したユニットを１つの処理ユニットとして、前記搬送装置の搬送方向に沿って、複数の前記処理ユニットが、配置されている、請求項５に記載の基板の表面処理装置。
【請求項７】
前記処理ユニットの隣り合う前記処理室同士の間には、前記基板の前記被処理面に付着したミストに由来する処理液の液切りを行うエアノズルが配置されている、請求項６に記載の基板の表面処理装置。
【請求項８】
基板の被処理面に処理液を付着させることにより、前記基板の表面処理を行う方法であって、
前記処理液から生成したミストを、前記基板が配置された処理室に導入し、前記基板の前記被処理面に前記ミストを付着させるとともに、前記処理室からミストを排出し、排出した前記ミストを、前記生成したミストとともに前記処理室に循環させる、基板の表面処理方法。
【請求項９】
前記処理室から前記ミストに由来する処理液を回収し、回収した前記処理液から前記ミストを生成し、前記生成したミストとともに前記排出したミストを、前記処理室に循環させる、請求項８に記載の基板の表面処理方法。
【請求項１０】
前記処理室の上部から前記ミストを導入し、前記処理室の下部から前記ミストを排出し、前記処理室から流下した前記処理液を回収し、前記回収した処理液から前記ミストを生成する、請求項９に記載の基板の表面処理方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の表面処理装置およびその表面処理方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
たとえば、基板の被処理面に処理液を付着させることにより、基板の表面処理を行う装置が提案されている。特許文献１には、処理液としての洗浄液のミストを生成するミスト生成装置と、生成されたミストを導入し、導入したミストを基板の被処理表面に付着させる処理室とを、備えた表面処理装置が提案されている。表面処理装置によれば、処理室に配置された基板の被処理表面に、生成したミストを付着させることにより、基板の表面に表面処理を行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００７－０３３７３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に示す表面処理装置では、処理室に導入されたミストのうち、基板に付着しなかったミストは、処理室の壁面等に付着して凝集し、処理室の底面に、処理液として溜まることがあった。処理室に溜まった処理液は、再利用することを、想定されておらず、処理液は、排液されることが一般的である。
【０００５】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、処理室に導入した処理液のミストを再利用することにより、基板の被処理面を安価に表面処理することができる表面処理装置および表面処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題に鑑みて、本発明に係る基板の表面処理装置は、基板の被処理面に処理液を付着させることにより、前記基板の表面処理を行う装置であって、前記処理液のミストを生成するミスト生成装置と、前記ミスト生成装置で生成されたミストが導入され、導入された前記ミストを前記基板の前記被処理面に付着させる処理室と、前記処理室から排出される前記ミストを、前記ミスト生成装置で生成された前記ミストとともに前記処理室に循環させる循環経路と、を備える。
【０００７】
本発明によれば、ミスト生成装置で生成されたミストは、処理室に導入される。導入されたミストは、処理室の基板の被処理面に付着し、処理液による基板の表面処理を行うことができる。一方、基板の被処理面に付着しなかったミストの一部は、処理室から排出され、ミスト生成装置で生成されたミストとともに、循環経路を流れ、再度、処理室に供給される。このような結果、処理室に導入した処理液のミストを再利用することにより、基板の被処理面を安価に表面処理することができる。
【０００８】
より好ましい態様としては、前記ミスト生成装置は、前記循環経路に配置されており、前記ミスト生成装置は、前記処理室から前記ミストに由来した前記処理液を回収し、前記処理液を収容する収容槽を有しており、前記ミスト生成装置は、前記収容槽に収容された前記処理液から前記ミストを生成する。
【０００９】
この態様によれば、処理室においてミストが凝集した処理液を収容槽で回収することができる。ミスト生成装置により、回収された処理液からミストが、再度生成されるため、処理室から排出されたミストとともに、回収された処理液を再利用することができる。
【００１０】
さらに好ましい態様としては、前記循環経路は、前記処理室の上部から前記ミストを導入し、前記処理室の下部から前記ミストを排出するように、前記処理室に接続されており、前記循環経路の下部に、前記収容槽が配置されている。
（【００１１】以降は省略されています）

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