TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2025036021
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-03-14
出願番号2024022865,2023141086
出願日2024-02-19,2023-08-31
発明の名称表面粗さ評価方法とその装置、表面粗さ評価プログラム、および表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体
出願人TDK株式会社
代理人前田・鈴木国際特許弁理士法人
主分類G01B 21/30 20060101AFI20250306BHJP(測定;試験)
要約【課題】表面の粗さの不均一性を評価する。
【解決手段】本開示においては、局所的な測定領域ごとに表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求め、局所ヒストグラム情報を1番目からn個ずつ累積して複数の累積ヒストグラム情報を生成し、最大数N個で累積して生成した累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、各累積ヒストグラム情報の基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出し、検出した類似度が所定の閾値以上となる最小のnを表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いる。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求めるステップと、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個でそれぞれ累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成するステップと、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出するステップと、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いるステップと
を有する表面粗さ評価方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本開示は、物体の表面粗さの不均一性を評価する表面粗さ評価方法、表面粗さ評価装置、表面粗さ評価プログラム、および表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体に関する。
続きを表示(約 2,300 文字)【背景技術】
【0002】
種々の材料、物品、部品または装置等において、その表面粗さが重要なファクターとなる場合がある。たとえば、特許文献1には、電子部品の搬送工程において、搬送路の表面粗さを電子部品の表面粗さよりも小さくすることにより、搬送に伴う電子部品の欠陥の発生を防止し、安定した搬送を行う方法が記載されている。
【0003】
しかしながら、従来の方法では、複数箇所の表面粗さを測定して平均的な表面粗さを算出することはできるが、表面粗さの不均一性(または均一性)を客観的に判断するための指標がなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2017-210342号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本開示の目的は、物品の表面粗さの不均一性を客観的に定量化して評価することができる表面粗さ評価方法、表面粗さ評価装置、表面粗さ評価プログラム、および表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示に係る表面粗さ評価方法は、
評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求めるステップと、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個でそれぞれ累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成するステップと、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出するステップと、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いるステップと
を有する。
【0007】
このような表面粗さ評価方法を用いることにより、物品の表面粗さの不均一性を客観的に定量化して評価することができる。物品の表面は、局所的には精細で平坦度の高い表面粗さとなっていても、表面全体として見た場合に不均一な表面粗さとなっている場合がある。しかし、本開示のように物品の表面粗さの不均一性を定量的に評価することにより、表面粗さの均質な製品を適切に供給することができる。また、表面粗さの不均一性あるいはその表示に装置の機能の劣化が現れるような場合には、その装置の性能や劣化状態(耐久性)、あるいは、装置がメンテナンス時期かどうか等を適切に知ることができる。
【0008】
また、本開示に係る表面粗さ評価装置は、
評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求める手段と、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個で累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成する手段と、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出する手段と、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いる手段と
を有する。
【0009】
また、本開示に係る表面粗さ評価プログラムは、
評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求めるステップと、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個で累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成するステップと、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出するステップと、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いるステップと
を、コンピュータに実行させるためのプログラムである。
【0010】
また、本開示に係る表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体は、前記の表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体である。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

個人
粒子分析装置
12日前
株式会社イシダ
計量装置
6日前
個人
アクセサリー型テスター
13日前
栄進化学株式会社
浸透探傷用濃縮液
19日前
株式会社ミツトヨ
画像測定機
14日前
エイブリック株式会社
電流検出回路
26日前
株式会社テイエルブイ
振動検出装置
12日前
ダイハツ工業株式会社
試料セル
12日前
トヨタ自動車株式会社
検査装置
6日前
株式会社チノー
放射光測温装置
26日前
トヨタ自動車株式会社
電気自動車
13日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
26日前
大和製衡株式会社
計量装置
19日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
26日前
株式会社 キョーワ
食品搬送装置
26日前
株式会社熊谷組
計測システム
19日前
富士電機株式会社
エンコーダ
27日前
日本碍子株式会社
ガスセンサ
26日前
理研計器株式会社
ガス検出器
14日前
理研計器株式会社
ガス検出器
14日前
理研計器株式会社
ガス検出器
14日前
理研計器株式会社
ガス検出器
14日前
理研計器株式会社
ガス検出器
14日前
東ソー株式会社
簡易型液体クロマトグラフ
8日前
大成建設株式会社
画像表示システム
22日前
株式会社 システムスクエア
検査装置
20日前
リバークル株式会社
荷重移動試験装置
6日前
株式会社ニコン
検出装置
12日前
大和製衡株式会社
表示システム
4日前
東洋計器株式会社
超音波式流量計
19日前
大和ハウス工業株式会社
引張装置
5日前
株式会社デンソー
試験装置
22日前
東洋計器株式会社
超音波式流量計
19日前
TDK株式会社
温度センサ
27日前
東洋計器株式会社
超音波式流量計
19日前
東洋製罐株式会社
巻締寸法測定装置
21日前
続きを見る