TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025036021
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-03-14
出願番号
2024022865,2023141086
出願日
2024-02-19,2023-08-31
発明の名称
表面粗さ評価方法とその装置、表面粗さ評価プログラム、および表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体
出願人
TDK株式会社
代理人
前田・鈴木国際特許弁理士法人
主分類
G01B
21/30 20060101AFI20250306BHJP(測定;試験)
要約
【課題】表面の粗さの不均一性を評価する。
【解決手段】本開示においては、局所的な測定領域ごとに表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求め、局所ヒストグラム情報を1番目からn個ずつ累積して複数の累積ヒストグラム情報を生成し、最大数N個で累積して生成した累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、各累積ヒストグラム情報の基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出し、検出した類似度が所定の閾値以上となる最小のnを表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いる。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求めるステップと、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個でそれぞれ累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成するステップと、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出するステップと、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いるステップと
を有する表面粗さ評価方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、物体の表面粗さの不均一性を評価する表面粗さ評価方法、表面粗さ評価装置、表面粗さ評価プログラム、および表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体に関する。
続きを表示(約 2,300 文字)
【背景技術】
【0002】
種々の材料、物品、部品または装置等において、その表面粗さが重要なファクターとなる場合がある。たとえば、特許文献1には、電子部品の搬送工程において、搬送路の表面粗さを電子部品の表面粗さよりも小さくすることにより、搬送に伴う電子部品の欠陥の発生を防止し、安定した搬送を行う方法が記載されている。
【0003】
しかしながら、従来の方法では、複数箇所の表面粗さを測定して平均的な表面粗さを算出することはできるが、表面粗さの不均一性(または均一性)を客観的に判断するための指標がなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2017-210342号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本開示の目的は、物品の表面粗さの不均一性を客観的に定量化して評価することができる表面粗さ評価方法、表面粗さ評価装置、表面粗さ評価プログラム、および表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示に係る表面粗さ評価方法は、
評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求めるステップと、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個でそれぞれ累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成するステップと、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出するステップと、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いるステップと
を有する。
【0007】
このような表面粗さ評価方法を用いることにより、物品の表面粗さの不均一性を客観的に定量化して評価することができる。物品の表面は、局所的には精細で平坦度の高い表面粗さとなっていても、表面全体として見た場合に不均一な表面粗さとなっている場合がある。しかし、本開示のように物品の表面粗さの不均一性を定量的に評価することにより、表面粗さの均質な製品を適切に供給することができる。また、表面粗さの不均一性あるいはその表示に装置の機能の劣化が現れるような場合には、その装置の性能や劣化状態(耐久性)、あるいは、装置がメンテナンス時期かどうか等を適切に知ることができる。
【0008】
また、本開示に係る表面粗さ評価装置は、
評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求める手段と、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個で累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成する手段と、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出する手段と、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いる手段と
を有する。
【0009】
また、本開示に係る表面粗さ評価プログラムは、
評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求めるステップと、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個で累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成するステップと、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出するステップと、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いるステップと
を、コンピュータに実行させるためのプログラムである。
【0010】
また、本開示に係る表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体は、前記の表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体である。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
TDK株式会社
電子部品
6日前
TDK株式会社
搬送装置
5日前
TDK株式会社
電子部品
11日前
TDK株式会社
電子部品
11日前
TDK株式会社
コイル部品
6日前
TDK株式会社
網膜投影装置
5日前
TDK株式会社
網膜投影装置
5日前
TDK株式会社
電力変換装置
11日前
TDK株式会社
積層型電子部品
5日前
TDK株式会社
積層型電子部品
5日前
TDK株式会社
レーザモジュール
11日前
TDK株式会社
積層貫通コンデンサ
5日前
TDK株式会社
電子部品の製造方法
4日前
TDK株式会社
電子部品の製造方法
11日前
TDK株式会社
配線体、及び表示装置
19日前
TDK株式会社
過渡電圧保護デバイス
4日前
TDK株式会社
誘電体組成物および電子部品
15日前
TDK株式会社
誘電体組成物および電子部品
15日前
TDK株式会社
橙色蛍光体の製造方法および蛍光体
15日前
TDK株式会社
磁場検出装置及び磁場検出装置アレイ
25日前
TDK株式会社
磁気センサとその設計方法、及び組立体
11日前
TDK株式会社
アンテナ装置及びこれを備えるICカード
11日前
TDK株式会社
金属磁性粉末、複合磁性体、および電子部品
5日前
TDK株式会社
磁気センサ、磁気センサ装置および磁気センサシステム
1日前
TDK株式会社
光素子、レーザモジュール、及びニアアイウェアラブル装置
4日前
TDK株式会社
積層コイル部品
18日前
TDK株式会社
センサーモジュール
20日前
TDK株式会社
表面粗さ評価方法とその装置、表面粗さ評価プログラム、および表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体
5日前
TDK株式会社
表面粗さ評価方法とその装置、表面粗さ評価プログラム、および表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体
4日前
株式会社大真空
センサ
18日前
アズビル株式会社
湿度センサ
26日前
日本FC企画株式会社
特性試験装置
4日前
株式会社トプコン
植物センサ
29日前
日本FC企画株式会社
特性試験装置
14日前
株式会社ミツトヨ
エンコーダ
12日前
アズビル株式会社
圧力センサ
11日前
続きを見る
他の特許を見る