TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2025030798
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-03-07
出願番号2023136405
出願日2023-08-24
発明の名称すきま腐食を防止する方法及びフランジ接続部の防食構造
出願人株式会社ソフテム
代理人個人,個人,個人,個人
主分類C23F 15/00 20060101AFI20250228BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】大径のフランジに適用可能なすきま腐食を防止する方法及びフランジ接続部の防食構造を提供することを目的とする。
【解決手段】フランジ10の表面に陽極20を配置することで、陽極20が形成する電位勾配の中にフランジ10の表面を収納して、フランジ10の電位を卑化させることにより、フランジ10における各部位間の電位差を消滅させるすきま腐食を防止する方法であって、陽極20は、フランジ10の周方向に沿って間隔をあけて複数配置される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
フランジの表面に陽極を配置することで、前記陽極が形成する電位勾配の中に前記フランジの表面を収納して、前記フランジの電位を卑化させることにより、前記フランジにおける各部位間の電位差を消滅させるすきま腐食を防止する方法であって、
前記陽極は、前記フランジの周方向に沿って間隔をあけて複数配置される、
すきま腐食を防止する方法。
続きを表示(約 1,100 文字)【請求項2】
フランジの表面に陽極を配置することで、前記陽極が形成する電位勾配の中に前記フランジの表面を収納して、前記フランジの電位を卑化させることにより、前記フランジにおける各部位間の電位差を消滅させるすきま腐食を防止する方法であって、
前記フランジは、環状であり、周方向に間隔をあけて複数のボルト孔を備え、
前記陽極は、前記フランジの内周縁と、複数の前記ボルト孔との間に環状に配置される、
すきま腐食を防止する方法。
【請求項3】
前記陽極は、箔状又は板状の高純度亜鉛陽極である、
請求項1または2に記載のすきま腐食を防止する方法。
【請求項4】
前記陽極は、複合亜鉛陽極であり、
前記複合亜鉛陽極は、
箔状の亜鉛テープ又は板状の亜鉛陽極と、
陽極ペーストと、
を備える、
請求項1または2に記載のすきま腐食を防止する方法。
【請求項5】
フランジのすきま腐食を防止するための構造であって、
前記フランジは、前記フランジの周方向に沿って間隔をあけて複数設けられる窪みを備え、
前記窪みには、陽極が配置される、
フランジ接続部の防食構造。
【請求項6】
前記フランジは環状であり、周方向に間隔をあけて設けられた複数のボルト孔を備え、
前記窪みは、
前記ボルト孔から5.0mm離隔するように設けられ、
底面が平坦であり、
深さが1.0mm以上3.0mm以下である、
請求項5に記載のフランジ接続部の防食構造。
【請求項7】
前記窪みは平面状に形成され、
前記陽極は、板状、又は箔状である、
請求項6に記載のフランジ接続部の防食構造。
【請求項8】
前記窪みは、円状であり、前記窪みの中心は、前記フランジの中央を中心とする仮想円上に位置するように配置される、
請求項7に記載のフランジ接続部の防食構造。
【請求項9】
フランジのすきま腐食を防止するための構造であって、
前記フランジは、環状であり、周方向に間隔をあけて複数のボルト孔を備え、
前記フランジの内周縁と、複数の前記ボルト孔との間に環状に設けられる窪みを備え、
前記窪みには、陽極が配置される、
フランジ接続部の防食構造。
【請求項10】
前記窪みは、
前記ボルト孔から5.0mm離隔するように設けられ、
底面が平坦であり、
深さが1.0mm以上3.0mm以下である、
請求項9に記載のフランジ接続部の防食構造。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、すきま腐食を防止する方法及びフランジ接続部の防食構造に関する。
続きを表示(約 1,900 文字)【背景技術】
【0002】
ステンレス配管のフランジ接続部において、すきま腐食が発生することがある。すきま腐食を防止する方法として、例えば、非特許文献1に係る近接陽極法が挙げられる。近接陽極法に用いる陽極材として、例えば、非特許文献2に係る株式会社ソフテム製の「サスケット(登録商標)」が挙げられる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0003】
岡本勝群、“近接陽極法による埋設管の防食技術”、[online]、1985年5月20日、中川防しょく技報、28号、p8-12、[令和4年11月18日検索]、インターネット<URL:https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=200902036997323250>
株式会社ソフテム、“高純度亜鉛陽極「サスケット」”、[online]、[令和4年11月18日検索]、インターネット<URL:https://premium.ipros.jp/softem/catalog/detail/468339/>
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
前記従来の「サスケット(登録商標)」は、箔状の高純度亜鉛陽極材の裏面に導電性の粘着剤を塗布したものを、ガスケットの規格に合わせた形状に加工することで形成される。
しかしながら、原材料となる箔状の高純度亜鉛陽極材の幅によっては、大径のフランジ(例えば、外径200mm以上)に適用可能な製品を供給できない課題がある。
【0005】
本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、大径のフランジに適用可能なすきま腐食を防止する方法及びフランジ接続部の防食構造を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
<1>本発明の態様1に係るすきま腐食を防止する方法は、フランジの表面に陽極を配置することで、前記陽極が形成する電位勾配の中に前記フランジの表面を収納して、前記フランジの電位を卑化させることにより、前記フランジにおける各部位間の電位差を消滅させるすきま腐食を防止する方法であって、前記陽極は、前記フランジの周方向に沿って間隔をあけて複数配置される。
【0007】
この発明によれば、すきま腐食を防止するためにフランジの表面に配置する陽極は、フランジの周方向に沿って間隔をあけて複数配置される。これにより、例えば、フランジの大きさに合わせて一体に形成された陽極を用いる場合と比較して、1つの陽極の大きさを小さくすることができる。また、このように陽極の大きさを小さくした場合であっても、陽極を配置する間隔及び個数を適宜変更することで、フランジに対して十分な量の陽極を配置することができる。よって、例えば、陽極の原材料(例えば、箔状の高純度亜鉛陽極材)の幅が足りず、大径のフランジに対して一体に形成された陽極を供給できない場合であっても、本発明に係る方法によって、陽極を適用することができる。
【0008】
<2>本発明の態様2に係るすきま腐食を防止する方法は、フランジの表面に陽極を配置することで、前記陽極が形成する電位勾配の中に前記フランジの表面を収納して、前記フランジの電位を卑化させることにより、前記フランジにおける各部位間の電位差を消滅させるすきま腐食を防止する方法であって、前記フランジは、環状であり、周方向に間隔をあけて複数のボルト孔を備え、前記陽極は、前記フランジの内周縁と、複数の前記ボルト孔との間に環状に配置される。
【0009】
この発明によれば、すきま腐食を防止するためにフランジの表面に配置する陽極は、環状のフランジの内周縁と、フランジが備える複数のボルト孔との間に環状に配置される。これにより、例えば、フランジの径に対して陽極の径を小さくすることができる。よって、例えば、大径のフランジに対して、陽極の原材料の幅が足りなくなる場合を少なくすることができる。また、陽極の原材料の幅が足りない場合であっても、帯状又は線状の原材料を環状に加工することで、適当な大きさの陽極を形成することができる。よって、例えば、陽極の原材料の幅が足りず、大径のフランジに対して一体に形成された陽極を供給できない場合であっても、本発明に係る方法によって、陽極を適用することができる。
【0010】
<3>本発明の態様3に係るすきま腐食を防止する方法は、態様1又は態様2に係るすきま腐食を防止する方法において、前記陽極は、箔状又は板状の高純度亜鉛陽極である。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

日鉄建材株式会社
波形鋼板
1か月前
株式会社カネカ
製膜装置
1か月前
株式会社電気印刷研究所
金属画像形成方法
1か月前
日産自動車株式会社
樹脂部材
2か月前
日鉄防食株式会社
防食施工方法
3か月前
株式会社アルバック
成膜方法
3か月前
株式会社アルバック
ガス導入管
3か月前
東京エレクトロン株式会社
成膜装置
1か月前
株式会社神戸製鋼所
被膜および軸受
3か月前
大阪富士工業株式会社
浴中軸部材の製造方法
23日前
栗田工業株式会社
金属部材の防食方法
3か月前
一般財団法人電力中央研究所
耐腐食膜
2か月前
東京エレクトロン株式会社
基板処理方法
3か月前
TOTO株式会社
構造部材
今日
TOTO株式会社
構造部材
今日
株式会社不二越
熱処理に用いる油切り装置
3か月前
株式会社カワイ
無電解CoW鍍金処理方法
5日前
信越化学工業株式会社
ガス発生装置
4か月前
株式会社カネカ
製膜装置
26日前
日本化学産業株式会社
複合めっき皮膜及びめっき製品
19日前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置
1か月前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置
2か月前
東京エレクトロン株式会社
パージ方法及び成膜装置
5日前
株式会社オプトラン
気泡除去方法及び気泡除去装置
1か月前
株式会社アルバック
電子ビーム式蒸着ユニット
1か月前
東京エレクトロン株式会社
吸着制御方法及び成膜装置
1か月前
栗田工業株式会社
密閉冷却水系のpH制御方法及び装置
1か月前
テス カンパニー、リミテッド
非晶質炭素膜及びその蒸着方法
4か月前
アイテック株式会社
複合めっき材
1か月前
株式会社アルバック
真空成膜装置及び真空成膜方法
1か月前
株式会社アルバック
タングステン配線膜の成膜方法
1か月前
上村工業株式会社
めっき皮膜の製造方法
4か月前
東京エレクトロン株式会社
基板処理方法及び基板処理装置
2か月前
ダイキン工業株式会社
金属錯体
5日前
株式会社神戸製鋼所
表面処理金属材、及び接合体
3か月前
株式会社SCREENホールディングス
スパッタリング装置
5日前
続きを見る