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公開番号2025007751
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-17
出願番号2023109358
出願日2023-07-03
発明の名称光ファイバ心線および光ファイバ心線の製造方法
出願人古河電気工業株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類C03C 25/40 20060101AFI20250109BHJP(ガラス;鉱物またはスラグウール)
要約【課題】プライマリ層のヤング率および破断伸びを適切な値に設定可能な光ファイバ心線および光ファイバ心線の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明における光ファイバ心線は、光ファイバ裸線と、前記光ファイバ裸線を覆う第1紫外線硬化型樹脂により形成されたプライマリ層と、前記プライマリ層を覆う第2紫外線硬化型樹脂により形成されたセカンダリ層とを備え、前記プライマリ層は、不飽和炭素結合由来の架橋点およびシランカップリング剤由来の架橋点を有し、前記プライマリ層は、ケイ素原子を0.014wt%以上0.72wt%以下含むことを特徴とする。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
光ファイバ裸線と、
前記光ファイバ裸線を覆う第１紫外線硬化型樹脂により形成されたプライマリ層と、
前記プライマリ層を覆う第２紫外線硬化型樹脂により形成されたセカンダリ層とを備え、
前記プライマリ層は、不飽和炭素結合由来の架橋点およびシランカップリング剤由来の架橋点を有し、
前記プライマリ層は、ケイ素原子を０．０１４ｗｔ％以上０．７２ｗｔ％以下含むことを特徴とする光ファイバ心線。
続きを表示（約 720 文字）【請求項２】
前記プライマリ層の破断伸びが２００％以上であることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ心線。
【請求項３】
前記プライマリ層は、ケイ素原子を０．０１４ｗｔ％以上０．４３ｗｔ％以下含むことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ心線。
【請求項４】
前記プライマリ層のヤング率が０．２９ＭＰａ以上であることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ心線。
【請求項５】
前記プライマリ層のヤング率が２．３２ＭＰａ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ心線。
【請求項６】
前記プライマリ層が酸性であることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ心線。
【請求項７】
前記プライマリ層がシランカップリング剤由来の架橋点を含まないプライマリ層と比較して破断伸びが上昇していることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか1項に記載の光ファイバ心線。
【請求項８】
請求項１に記載の光ファイバ心線と、
前記光ファイバ心線の前記セカンダリ層を覆う第３紫外線硬化型樹脂により形成された着色層とを備えることを特徴とする光ファイバ着色心線。
【請求項９】
請求項１に記載の光ファイバ心線の前記セカンダリ層が着色されていることを特徴とする光ファイバ着色心線。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の複数の光ファイバ着色心線と、
前記光ファイバ着色心線を覆う第４紫外線硬化型樹脂により形成されたリボン層とを備えることを特徴とする光ファイバリボン。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバ心線および光ファイバ心線の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
光ファイバ心線において、光ファイバ裸線を覆うプライマリ層、プライマリ層を覆うセカンダリ層のそれぞれが紫外線硬化型樹脂によって所望のヤング率に設定される技術が知られている（特許文献１）。例えば、プライマリ層のヤング率は低く設定され、プライマリ層は光ファイバ裸線に加わる外力を緩衝し、光ファイバ裸線の微小変形による光の伝送損失（マイクロベンドロス）を抑えることができる。また、セカンダリ層のヤング率はプライマリ層のヤング率よりも高く設定され、セカンダリ層は光ファイバ裸線およびプライマリ層を外力から保護している。
【０００３】
プライマリ層のヤング率は低いことが望ましいため、特許文献２に記載された技術は、プライマリ層３の紫外線硬化型樹脂が発現し得る最大のヤング率（飽和ヤング率）を低く設定している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００５－１６２５２２号公報
国際公開第２０１８／０６２３６４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、プライマリ層に要求される特性は、ヤング率だけではない。例えば、プライマリ層の破断伸びが不十分である場合、プライマリ層の光ファイバ裸線からの剥離が生じやすくなるという問題が生じ得る。
【０００６】
本発明は、プライマリ層のヤング率および破断伸びを適切な値に設定可能な光ファイバ心線および光ファイバ心線の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一観点によれば、光ファイバ裸線と、前記光ファイバ裸線を覆う第１紫外線硬化型樹脂により形成されたプライマリ層と、前記プライマリ層を覆う第２紫外線硬化型樹脂により形成されたセカンダリ層とを備え、前記プライマリ層は、不飽和炭素結合由来の架橋点およびシランカップリング剤由来の架橋点を有し、前記プライマリ層は、ケイ素原子を０．０１４ｗｔ％以上０．７２ｗｔ％以下含むことを特徴とする光ファイバ心線が提供される。
【０００８】
本発明の他の観点によれば、光ファイバ母材から光ファイバ裸線を線引きする工程と、前記光ファイバ裸線の周囲にプライマリ層を形成する第１紫外線硬化型樹脂を塗布し、プライマリ層を形成する工程と、前記プライマリ層の周囲にセカンダリ層を形成する第２紫外線硬化型樹脂を塗布し、前記第２紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射してセカンダリ層を形成する工程とを備え、前記プライマリ層は、不飽和炭素結合由来の架橋点およびシランカップリング剤由来の架橋点を有し、前記プライマリ層は、ケイ素原子を０．０１４ｗｔ％以上０．７２ｗｔ％以下含むことを特徴とする光ファイバ心線の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、プライマリ層のヤング率および破断伸びを適切な値に設定可能な光ファイバ心線および光ファイバ心線の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
第１実施形態に係る光ファイバの断面図である。
第１実施形態に係る光ファイバの製造方法に用いる製造装置の一部分を示す模式図である。
第１実施形態に係る光ファイバの製造方法に用いる製造装置の一部分を示す模式図である。
第１実施形態に係る光ファイバの製造方法のフローチャートである。
紫外線硬化型樹脂の紫外線照射後におけるヤング率の経時変化を示すグラフである。
第２実施形態に係る光ファイバリボンの断面図である。
第２実施形態に係る光ファイバリボンの製造装置の模式図である。
第２実施形態に係る光ファイバリボンの製造方法のフローチャートである。
実施例および比較例における硬化樹脂のヤング率および破断伸びを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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