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公開番号2025001402
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-08
出願番号2023100963
出願日2023-06-20
発明の名称変位量計測システム、変位量計測プログラム、変位量計測方法、変位量計測装置
出願人株式会社共和電業,株式会社ヒカリ
代理人個人,個人
主分類G01B 11/16 20060101AFI20241225BHJP(測定;試験)
要約【課題】計測対象物の面内方向の変位量を精度よく計測できる変位量計測システム、変位量計測プログラム、変位量計測方法、変位量計測装置を提供する。
【解決手段】変位量計測システムは、計測対象物に設置された2次元格子パターンを撮影した2次元画像を用いて計測対象物の表面の面内方向の変位量を計測する変位量計測装置と、計測対象物に設置された2次元格子パターンを撮影する撮像装置と、を備える。変位量計測装置は、2次元画像内の2次元格子パターンを含む解析領域における2次元格子パターンの変位量を算出する算出処理と、変位量が所定条件を満たしている場合に、変位量に基づいて解析領域を移動する領域移動処理と、を実行する。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
計測対象物に設置された２次元格子パターンを撮影した２次元画像を用いて前記計測対象物の表面の面内方向の変位量を計測する変位量計測装置と、
前記計測対象物に設置された前記２次元格子パターンを撮影する撮像装置と、を備える変位量計測システムであって、
前記変位量計測装置は、
前記２次元画像内の前記２次元格子パターンを含む解析領域における前記２次元格子パターンの変位量を算出する変位量算出処理と、
前記変位量が所定条件を満たしている場合に、前記変位量に基づいて前記解析領域を移動する領域移動処理と、を実行する
変位量計測システム。
続きを表示（約 870 文字）【請求項２】
前記変位量計測装置は、
前記領域移動処理において、前記変位量の絶対値が閾値以上である場合に前記解析領域を移動する
請求項１に記載の変位量計測システム。
【請求項３】
前記変位量計測装置は、
前記領域移動処理において、前記変位量が０以外の場合に前記解析領域を移動する
請求項１に記載の変位量計測システム。
【請求項４】
計測対象物に設置された２次元格子パターンを撮影した２次元画像を用いて前記計測対象物の表面の面内方向の変位量を計測する変位量計測プログラムであって、
前記２次元画像内の前記２次元格子パターンを含む解析領域における前記２次元格子パターンの変位量を算出する変位量算出処理と、
前記変位量が所定条件を満たしている場合に、前記変位量に基づいて前記解析領域を移動する領域移動処理と、コンピュータに実行させる
変位量計測プログラム。
【請求項５】
計測対象物に設置された２次元格子パターンを撮影した２次元画像を用いて前記計測対象物の表面の面内方向の変位量を計測する変位量計測方法であって、
前記２次元画像内の前記２次元格子パターンを含む解析領域における前記２次元格子パターンの変位量を算出する変位量算出処理と、
前記変位量が所定条件を満たしている場合に、前記変位量に基づいて前記解析領域を移動する領域移動処理と、を含む
変位量計測方法。
【請求項６】
計測対象物に設置された２次元格子パターンを撮影した２次元画像を用いて前記計測対象物の表面の面内方向の変位量を計測する変位量計測装置であって、
前記２次元画像内の前記２次元格子パターンを含む解析領域における前記２次元格子パターンの変位量を算出する変位量算出処理と、
前記変位量が所定条件を満たしている場合に、前記変位量に基づいて前記解析領域を移動する領域移動処理と、を実行する
変位量計測装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、変位量計測システム、変位量計測プログラム、変位量計測方法、および、変位量計測装置に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
橋梁および鉄塔等の計測対象物の点検作業では、例えば、計測対象物の面内方向の変位量が計測される。特許文献１は、計測対象物の面内方向の変位量計測方法の一例を開示している。特許文献１に開示される変位量計測方法では、計測対象物に設置された２次元格子パターンを撮影した２次元画像を用いて計測対象物の表面の面内方向の変位量を計測する。２次元画像は、例えば、撮像装置によって撮影される。２次元画像内には、２次元格子パターンを含む解析領域が設定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特許第４８３１７０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記変位量計測方法では、計測対象物に対する撮像装置の位置が固定されている。このため、計測対象物の面内方向の変位量が大きい場合、換言すれば、計測対象物に設置される２次元格子パターンの変位量が大きい場合、解析領域の一部が２次元格子パターンから外れることがある。解析領域の一部が２次元格子パターンから外れた場合、解析領域内の２次元格子パターンの格子の数が減少するため、計測対象物の表面の面内方向の変位量を正しく計測することができない。また、２次元格子パターンは、計測範囲に応じたサイズが必要であり、設置するためのスペースが狭い場合、特別な取付治具が必要となる。このため、コストも高くなるといった付随的な課題も存在する。
【０００５】
本発明は、計測対象物の面内方向の変位量を精度よく計測できる変位量計測システム、変位量計測プログラム、変位量計測方法、および、変位量計測装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１観点に係る変位量計測システムは、計測対象物に設置された２次元格子パターンを撮影した２次元画像を用いて前記計測対象物の表面の面内方向の変位量を計測する変位量計測装置と、前記計測対象物に設置された前記２次元格子パターンを撮影する撮像装置と、を備える変位量計測システムであって、前記変位量計測装置は、前記２次元画像内の前記２次元格子パターンを含む解析領域における前記２次元格子パターンの変位量を算出する変位量算出処理と、前記変位量が所定条件を満たしている場合に、前記変位量に基づいて前記解析領域を移動する領域移動処理と、を実行する。
【０００７】
上記変位量計測システムによれば、２次元格子パターンの変位量が所定条件を満たしている場合には、２次元格子パターンの変位に追従するように解析領域が移動する。計測対象物の面内方向の変位量が大きい場合であっても、解析領域の一部が２次元格子パターンから外れることが抑制される。このため、計測対象物の面内方向の変位量を精度よく計測できる
【０００８】
本発明の第２観点に係る変位量計測システムは、第１観点に係る変位量計測システムであって、前記変位量計測装置は、前記領域移動処理において、前記変位量の絶対値が閾値以上である場合に前記解析領域を移動する。
【０００９】
上記変位量計測システムによれば、２次元格子パターンの変位量の絶対値が閾値以上である場合、換言すれば、２次元格子パターンの変位量がある程度大きい場合、２次元格子パターンの変位に追従するように解析領域が移動する。このため、解析領域の一部が２次元格子パターンから外れることが抑制される。
【００１０】
本発明の第３観点に係る変位量計測システムは、第１観点に係る変位量計測システムであって、前記変位量計測装置は、前記領域移動処理において、前記変位量が０以外の場合に前記解析領域を移動する。
（【００１１】以降は省略されています）

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