特許ウォッチ

公開番号2024175013
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-17
出願番号2024158527,2023514647
出願日2024-09-12,2022-04-12
発明の名称ペリクルフレーム積層体及びこれを用いたペリクルの製造方法
出願人信越化学工業株式会社
代理人弁理士法人英明国際特許事務所
主分類G03F 1/62 20120101AFI20241210BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【解決手段】上端面及び下端面を有するペリクルフレームの該上端面に第一の接着剤層を有し、該第一の接着剤層を第一の保護シートでカバーする共に、前記下端面に第二の接着剤層を有し、該第二の接着剤層を第二の保護シートでカバーすることを特徴とするペリクルフレーム積層体、ペリクルフレーム積層体を載置するトレイ部及び蓋部を有する容器により上記ペリクルフレーム積層体を梱包してなる梱包物、及び上記ペリクルフレーム積層体の前記第一の保護シートを剥がし、露出した前記第一の接着剤層に別に用意されたペリクル膜を設けるペリクルの製造方法。
【効果】本発明によれば、ペリクルフレームの上端面及び下端面の両方に接着剤層を形成し、両方とも保護シートで保護したペリクルフレームを使用することでペリクル膜用の接着剤の塗布が不可能な場所でもペリクルの組立を可能とすることができる。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
上端面及び下端面を有するペリクルフレームの該上端面に第一の接着剤層を有し、該第一の接着剤層を第一の保護シートでカバーする共に、前記下端面に第二の接着剤層を有し、該第二の接着剤層を第二の保護シートでカバーすることを特徴とするペリクルフレーム積層体。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ用フォトマスクにゴミ除けとして装着されるペリクルフレーム積層体及びこれを用いたペリクルの製造方法に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、ＬＳＩのデザインルールはサブクオーターミクロンへと微細化が進んでおり、それに伴って、露光光源の短波長化が進んでいる。すなわち、露光光源は水銀ランプによるｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）から、ＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）などに移行しており、さらには主波長１３．５ｎｍのＥＵＶ（ＥｘｔｒｅｍｅＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ）光を使用するＥＵＶ露光が検討されている。
【０００３】
ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体製造又は液晶表示板の製造においては、半導体ウエハまたは液晶用原板に光を照射してパターンを作製するが、この場合に用いるリソグラフィ用フォトマスク及びレチクル（以下、総称して「露光原版」と記述する）にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げてしまうために、転写したパターンが変形したり、エッジが粗雑なものとなるほか、下地が黒く汚れたりして、寸法、品質、外観などが損なわれるという問題があった。
【０００４】
これらの作業は、通常クリーンルームで行われているが、それでも露光原版を常に清浄に保つことは難しい。そこで、露光原版表面にゴミよけとしてペリクルを貼り付けた後に露光をする方法が一般に採用されている。この場合、異物は露光原版の表面には直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となる。
【０００５】
このペリクルの基本的な構成は、アルミニウムやチタンなどからなるペリクルフレームの上端面に、露光に使われる光に対し透過率が高いペリクル膜が張設されるとともに、下端面に気密用ガスケットが形成されているものである。気密用ガスケットは一般的に粘着剤からなる接着剤層が用いられ、この接着剤層の保護を目的とした保護シートが貼り付けられる。ペリクル膜は、露光に用いる光（水銀ランプによるｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）等）を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロース、フッ素系ポリマーなどからなるが、ＥＵＶ露光用では、ペリクル膜として極薄シリコン膜や炭素膜が検討されている。
【０００６】
ＥＵＶ用露光原版は従来の透過型の露光原版と異なり、反射型である。したがって、ＥＵＶ光はペリクル膜を２回通過する。ペリクル膜のＥＵＶ光透過率が８０％である場合、ＥＵＶ光がペリクル膜を２回通過した後の最終透過率は６４％となる。最終透過率を向上させるためには、ペリクル膜のＥＵＶ光透過率を極めて高くする必要がある。極めて高い透過率を得るために、ペリクル膜の膜厚を薄くせざるを得ない。その結果、ペリクル膜が非常に割れやすくなる。
【０００７】
上記のような割れやすいペリクル膜を備えたペリクルをペリクルメーカーで製造し、ユーザーへ出荷する際には、輸送中の振動や気圧変動によりペリクル膜（薄膜）が破損することが頻繁に起こるという問題があった。この輸送中の薄膜の破損を解消するためには、ユーザーのフォトマスク製造工場に隣接する場所でペリクル膜を作製し、ペリクルフレームに装着し、ペリクルを完成させることが検討される。即ち、最終的にペリクルを使用する場所でペリクル膜を製作することで、長距離輸送の必要が無くなり輸送中の破損のリスクを解消することができる。一方、ペリクル膜に組み合わせるペリクルフレームは従来通りペリクルメーカーで製作しフォトマスク製造工場に隣接するペリクル組立工場に出荷すればよい。ペリクル組立工場ではペリクルフレームの上端面に溶液状の接着剤を塗布し、そこにポリシリコン製の薄膜を合わせて接着剤を固めることでペリクルを組み立てることを検討していた。しかしながら、フォトマスク製造工場は、通常、ウエハプロセス工場の一角に位置しており、有機系材料の使用が制限されており、このため接着剤の塗布を行うことが困難であった。
【０００８】
特許文献１には、フッ素樹脂からなるペリクル膜をペリクルフレームの上端面に接着するための接着剤として、シリコーン系粘着剤を使用したペリクルが提案されている。この技術では、一連の流れでペリクル膜をペリクルフレームに装着するため、ペリクル膜付きの状態でペリクルを出荷する必要があり、ペリクル膜の破損の危険が伴う。
【０００９】
また、関連する技術して、特許文献２には、ペリクル膜に所定の粘着シートを貼り付けて、ペリクルフレームに接合してペリクルを製造することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
特開２００１－２４９４４１号公報
国際公開第２０１６／１７５０１９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許