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公開番号2024166712
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-29
出願番号2023083011
出願日2023-05-19
発明の名称エッチング加工製品及びその製造方法
出願人TOPPANホールディングス株式会社
代理人弁理士法人鈴榮特許綜合事務所
主分類C23F 1/00 20060101AFI20241122BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】高アスペクト比で高精細パターンを有するエッチング加工製品を簡便に製造する技術を提供する。
【解決手段】エッチング加工製品は、第1面とその裏面である第2面とを有し、1以上の貫通孔群が設けられた金属板からなる。上記1以上の貫通孔群の各々は、各辺の長さが上記金属板の厚さ以上である矩形状の開口を前記第1面に有している第1貫通孔と、幅が上記金属板の上記厚さ未満である線形状の開口を各々が上記第1面に有し、上記第1貫通孔の周囲に配置された複数の第2貫通孔とを含んでいる。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
第１面とその裏面である第２面とを有し、１以上の貫通孔群が設けられた金属板からなり、前記１以上の貫通孔群の各々は、各辺の長さが前記金属板の厚さ以上である矩形状の開口を前記第１面に有している第１貫通孔と、幅が前記金属板の前記厚さ未満である線形状の開口を各々が前記第１面に有し、前記第１貫通孔の周囲に配置された複数の第２貫通孔とを含んだエッチング加工製品。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
前記複数の第２貫通孔の各々の前記開口は幅が２０乃至１５０μｍの範囲内にあり、前記第１貫通孔の前記開口の面積Ｓ１と、前記複数の第２貫通孔の各々の前記開口の面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２は１０以上である請求項１に記載のエッチング加工製品。
【請求項３】
前記第１貫通孔の前記開口の各辺の長さＬ１と、前記複数の第２貫通孔の各々の前記開口の幅Ｗ２との比Ｌ１／Ｗ２は１０乃至９００の範囲内にある請求項１に記載のエッチング加工製品。
【請求項４】
前記１以上の貫通孔群の各々において、前記複数の第２貫通孔の各々の前記開口は、前記第１貫通孔の前記開口までの距離が３．５ｍｍ以下である請求項１に記載のエッチング加工製品。
【請求項５】
前記金属板には、前記１以上の貫通孔群の各々を取り囲むように配列した複数の第３貫通孔が更に設けられ、前記第１貫通孔の前記開口の各辺の長さＬ１と、前記複数の第３貫通孔の配列が取り囲む各領域の前記第１面における寸法Ｌ３との比Ｌ１／Ｌ３は０．５以下である請求項１に記載のエッチング加工製品。
【請求項６】
前記複数の第３貫通孔の前記第１面における開口幅Ｗ３と、前記複数の第２貫通孔の各々の前記開口の幅Ｗ２との比Ｗ３／Ｗ２は５乃至５０の範囲内にある請求項５に記載のエッチング加工製品。
【請求項７】
前記１以上の貫通孔群の各々において、前記複数の第２貫通孔の各々の前記開口は、前記第１貫通孔の前記開口までの距離及び前記複数の第３貫通孔の開口までの最短距離の少なくとも一方が２．０ｍｍ以下である請求項５に記載のエッチング加工製品。
【請求項８】
前記１以上の貫通孔群は２以上の貫通孔群である請求項１に記載のエッチング加工製品。
【請求項９】
第１面とその裏面である第２面とを有している金属板を準備することと、
エッチングマスクを前記第１面の上に形成することと、
前記エッチングマスクを設けた前記第１面へエッチング液を噴霧して、前記金属板をエッチングすることと
を含み、
前記エッチングマスクとして、１以上の開口パターンが設けられ、前記１以上の開口パターンの各々は、各辺の長さが前記金属板の厚さ以上である矩形状の開口を有する第１開口部と、幅が前記金属板の前記厚さ未満である線形状の開口を各々が有し、前記第１開口部の周囲に配置された複数の第２開口部とを含んだものを使用して、前記エッチングにおいて、エッチングレートに違いを生じさせて前記第１開口部の位置で前記金属板に第１貫通孔を形成し、その後、前記複数の第２開口部の位置で前記金属板に複数の第２貫通孔をそれぞれ形成するエッチング加工製品の製造方法。
【請求項１０】
前記エッチングマスクの形成は、
前記第１面の上に感光性樹脂層を設けることと、
前記感光性樹脂層をパターン露光することと、
パターン露光後の前記感光性樹脂層を現像することと
を含んだ請求項９に記載のエッチング加工製品の製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、エッチング加工製品及びその製造方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
電子部品の高密度実装化に伴い、高精細パターンを要求されるエッチング加工製品のファインピッチ化が急速に進展し、近年においてはエッチングの限界加工ピッチとなりつつある。これらの部品の多くはフォトエッチング法で製造されている。フォトエッチング法では、銅系や鉄系の金属材料表面に耐腐食性のフォトレジスト膜を所望するパターンに形成し、パターンから露出した金属部分をエッチング液にて腐食し加工する。
【０００３】
このようなエッチング液を用いたウェットエッチングでは、フォトレジストの開口部からフォトレジスト直下まで等方的にエッチングが進行するので、サイドエッチングが問題となる。サイドエッチングとは、フォトレジスト膜面下へも等方的エッチングが入ることをいい、サイドエッチング量が多いと金属材料のエッチング部分を高アスペクト比にするには、隣り合うパターンとのピッチを狭くできないといった問題が発生する。このため従来のフォトエッチング技術により金属のエッチング加工製品を製造する場合、金属材料の厚さよりも開口幅が狭い高アスペクト比の貫通孔を形成することは難しく、上述したファインピッチ化に対応することが非常に困難となっている。
【０００４】
この問題を解決するために、フォトエッチング法により金属層に設けられた貫通孔が、金属層の表層側に一次エッチングによる側壁を有し、深層側に電着フォトレジストを用いた二次エッチングによる側壁を有する金属のエッチング加工製品が開発されている（例えば、特許文献１及び２を参照。）しかしながら、このエッチング加工製品を製造するためには現行プロセスが使えないため、設備改造やプロセスの最適化などが必要となる。また、この方法は２段エッチングを行うものであり、プロセスが複雑となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２００４－２０４２５１号公報
特開２００４－２１８０３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、高アスペクト比で高精細パターンを有するエッチング加工製品を簡便に製造する技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一側面によると、第１面とその裏面である第２面とを有し、１以上の貫通孔群が設けられた金属板からなり、上記１以上の貫通孔群の各々は、各辺の長さが上記金属板の厚さ以上である矩形状の開口を上記第１面に有している第１貫通孔と、幅が上記金属板の上記厚さ未満である線形状の開口を各々が上記第１面に有し、上記第１貫通孔の周囲に配置された複数の第２貫通孔とを含んだエッチング加工製品が提供される。
【０００８】
本発明の他の側面によると、上記複数の第２貫通孔の各々の上記開口は幅が２０乃至１５０μｍの範囲内にあり、上記第１貫通孔の上記開口の面積Ｓ１と、上記複数の第２貫通孔の各々の上記開口の面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２は１０以上である上記側面に係るエッチング加工製品が提供される。
【０００９】
本発明の更に他の側面によると、上記第１貫通孔の上記開口の各辺の長さＬ１と、上記複数の第２貫通孔の各々の上記開口の幅Ｗ２との比Ｌ１／Ｗ２は１０乃至９００の範囲内にある上記側面の何れかに係るエッチング加工製品が提供される。
【００１０】
本発明の更に他の側面によると、上記１以上の貫通孔群の各々において、上記複数の第２貫通孔の各々の上記開口は、上記第１貫通孔の上記開口までの距離が３．５ｍｍ以下である上記側面の何れかに係るエッチング加工製品が提供される。
（【００１１】以降は省略されています）

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