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公開番号2024142950
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-11
出願番号2023055373
出願日2023-03-30
発明の名称成膜装置
出願人キヤノントッキ株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類C23C 14/04 20060101AFI20241003BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】基板とマスクとのアライメント精度に対する真空チャンバの変形の影響を比較的簡素な構造で低減すること。
【解決手段】マスクを介して基板に材料を成膜する成膜装置であって、前記基板と前記マスクを収容する真空チャンバと、前記真空チャンバ内に設けられ、前記マスクに対する前記基板の位置を調整する位置調整手段と、を備え、前記真空チャンバは、複数の側壁部と該複数の側壁部に接続された天壁部とを有し、前記位置調整手段は、前記天壁部の周縁部に接続され、該位置調整手段を前記真空チャンバに固定する固定部材を備える。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
マスクを介して基板に膜を成膜する成膜装置であって、
前記基板と前記マスクを収容する真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に設けられ、前記マスクに対する前記基板の位置を調整する位置調整手段と、を備え、
前記真空チャンバは、複数の側壁部と該複数の側壁部に接続された天壁部とを有し、
前記位置調整手段は、
前記天壁部の周縁部に接続され、該位置調整手段を前記真空チャンバに固定する固定部材を備える、
ことを特徴とする成膜装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
マスクを介して基板に材料を成膜する成膜装置であって、
前記基板と前記マスクを収容する真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に設けられ、前記マスクに対する前記基板の位置を調整する位置調整手段と、を備え、
前記真空チャンバは、複数の側壁部と該複数の側壁部に接続された天壁部とを有し、
前記位置調整手段は、
前記複数の側壁部の上端部に接続され、該位置調整手段を前記真空チャンバに固定する固定部材を備える、
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項３】
請求項１に記載の成膜装置であって、
前記固定部材は、前記天壁部と前記複数の側壁部との接合部において、前記天壁部と複数の側壁部との双方に接続されている、
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の成膜装置であって、
前記マスクを支持するマスク支持手段を備え、
前記マスク支持手段は、
前記真空チャンバ内に配置され、前記マスクが搭載されるマスク台と、
前記マスク台から前記天壁部を通過して前記真空チャンバ外に延設された支持軸と、を含み、
前記固定部材は、前記支持軸が通過する開口部を有している、
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項５】
請求項４に記載の成膜装置であって、
前記マスク支持手段は、
前記天壁部の上方に配置され、前記支持軸を支持する軸支持手段を含み、
前記軸支持手段は、
前記天壁部の周縁部に配置された除振台に支持されている、
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項６】
請求項１に記載の成膜装置であって、
前記位置調整手段は、
前記基板を保持する保持手段と、
前記固定部材と前記保持手段との間に設けられ、前記保持手段を変位する変位手段と、を備える、
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項７】
請求項４に記載の成膜装置であって、
前記位置調整手段は、
前記基板を保持する保持手段と、
前記固定部材と前記保持手段との間に設けられ、前記保持手段を磁力により浮上状態で支持する支持手段と、
を備える、
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項８】
請求項７に記載の成膜装置であって、
前記保持手段と前記マスク台との相対位置を計測する計測手段を備える、
ことを特徴とする成膜装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は成膜装置に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイ等の製造においては、マスクを用いて基板上に蒸着物質が成膜される。成膜の前処理としてマスクと基板とのアライメントが行われ、両者が重ね合わされる。アライメントにおいては、真空チャンバ内において基板とマスクの位置ずれの計測と、計測結果に基づく基板とマスクとの相対位置の調整とが行われる。真空チャンバはその内部の負圧によって部分的に変形する場合がある。特許文献１には、アライメントステージ機構を載置する支持板と、真空チャンバの天板とを分離する構造をとっている。これにより真空チャンバの変形がアライメントに与える影響を低減している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２１－８０５６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１の装置は、構造の簡素化の点で改善の余地がある。
【０００５】
本発明は、基板とマスクとのアライメント精度に対する真空チャンバの変形の影響を比較的簡素な構造で低減することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、
マスクを介して基板に材料を成膜する成膜装置であって、
前記基板と前記マスクを収容する真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に設けられ、前記マスクに対する前記基板の位置を調整する位置調整手段と、を備え、
前記真空チャンバは、複数の側壁部と該複数の側壁部に接続された天壁部とを有し、
前記位置調整手段は、
前記天壁部の周縁部に接続され、該位置調整手段を前記真空チャンバに固定する固定部材を備える、
ことを特徴とする成膜装置が提供される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、基板とマスクとのアライメント精度に対する真空チャンバの変形の影響を比較的簡素な構造で低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本発明の一実施形態に係る成膜装置の概略図。
保持ユニット付近の拡大図。
（Ａ）は保持ユニット等の平面図、（Ｂ）は保持ユニット付近の構成の斜視図。
（Ａ）及び（Ｂ）は図１の成膜装置の動作説明図。
（Ａ）及び（Ｂ）は図１の成膜装置の動作説明図。
（Ａ）は固定部材の平面図、（Ｂ）はチャンバの変形例を示す図。
（Ａ）及び（Ｂ）は固定部材の他の例を示す図。
接続部位の例を示す説明図。
（Ａ）は有機ＥＬ表示装置の全体図、（Ｂ）は１画素の断面構造を示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。尚、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
【００１０】
＜第一実施形態＞
＜成膜装置の概要＞
図１は本発明の一実施形態に係る成膜装置１の概略図である。成膜装置１は、基板１００に蒸着物質の膜を成膜する装置であり、マスク１０１を用いて所定のパターンの蒸着物質の薄膜を基板１００に形成する。成膜装置１で成膜が行われる基板１００の材質は、ガラス、樹脂、金属等の材料を適宜選択可能であり、ガラス上にポリイミド等の樹脂層が形成されたものが好適に用いられる。蒸着物質としては、有機材料、無機材料（金属、金属酸化物など）などの物質である。成膜装置１は、例えば表示装置（フラットパネルディスプレイなど）や薄膜太陽電池、有機光電変換素子（有機薄膜撮像素子）等の電子デバイスや、光学部材等を製造する製造装置に適用可能であり、特に、有機ＥＬパネルを製造する製造装置に適用可能である。以下の説明においては成膜装置１が真空蒸着によって基板１００に成膜を行う例について説明するが、本発明はこれに限定はされず、スパッタやＣＶＤ等の各種成膜方法を適用可能である。なお、各図において矢印Ｚは上下方向（重力方向）を示し、矢印Ｘ及び矢印Ｙは互いに直交する水平方向を示す。
（【００１１】以降は省略されています）

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