TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2024166225
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-11-28
出願番号
2024152391,2023076050
出願日
2024-09-04,2023-05-02
発明の名称
ウェーハチャック、温度制御システム及び温度制御方法
出願人
株式会社東京精密
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
H01L
21/66 20060101AFI20241121BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】設置する温度センサの数を多くすることなく温度が測定可能なウェーハチャックと、ウェーハチャックの温度を適切に制御することができる温度制御システム及び温度制御方法と、を提供する。
【解決手段】ウェーハチャック18を加熱又は冷却する加熱冷却部40と、ウェーハチャック18に配置された複数の測温点ごとに、保持面18Aから第1深さ位置と、第1深さ位置よりも深い第2深さ位置と、の間の上下温度差を測定する上下温度差測定部(熱電対56)と、ウェーハチャック18におけるウェーハWの発熱部分に対応した対応部分での第2深さ位置の温度である基準温度を測定する基準温度測定部(温度センサ52)と、を備え、上下温度差測定部は、複数の測温点がウェーハチャックの全体にわたって配置されており、対応部分での第1深さ位置と第2深さ位置との上下温度差の測定に用いられる。
【選択図】図2
特許請求の範囲
【請求項1】
ウェーハを保持する保持面を有するウェーハチャックであって、
前記ウェーハチャックを加熱又は冷却する加熱冷却部と、
前記ウェーハチャックに配置された複数の測温点ごとに、前記保持面から第1深さ位置と、前記第1深さ位置よりも深い第2深さ位置と、の間の上下温度差を測定する上下温度差測定部と、
前記ウェーハチャックにおける前記ウェーハの発熱部分に対応した部分を対応部分とした場合に、前記対応部分での前記第2深さ位置の温度である基準温度を測定する基準温度測定部と、
を備え、
前記上下温度差測定部は、前記ウェーハチャックを平面視した場合に、前記複数の測温点が前記ウェーハチャックの全体にわたって配置されており、前記対応部分での前記第1深さ位置と前記第2深さ位置との上下温度差の測定に用いられる、ウェーハチャック。
続きを表示(約 1,300 文字)
【請求項2】
複数の前記基準温度測定部が分散して配置されている請求項1に記載のウェーハチャック。
【請求項3】
請求項1に記載の前記ウェーハチャックと、
前記基準温度測定部の検出結果と前記上下温度差測定部の検出結果とに基づいて、前記対応部分又は前記発熱部分の温度を制御温度として算出する温度制御部と、
を備える温度制御システム。
【請求項4】
前記温度制御部が、
前記基準温度測定部の検出結果に基づいて、前記基準温度を検出する処理と、
前記上下温度差測定部の検出結果に基づいて、前記上下温度差を算出する処理と、
前記基準温度と前記上下温度差とに基づいて、前記対応部分の温度である発熱部測温点の温度を前記制御温度として算出する処理と、
を実行する請求項3に記載の温度制御システム。
【請求項5】
前記温度制御部が、
前記基準温度測定部の検出結果に基づいて、前記基準温度を検出する処理と、
前記上下温度差測定部の検出結果に基づいて、前記上下温度差を算出する処理と、
前記基準温度と、前記上下温度差と、前記ウェーハ及び前記ウェーハチャックの物性値及び寸法を含むデータと、に基づいて、前記発熱部分の温度であるデバイス温度を前記制御温度として算出する処理と、
を実行する請求項3に記載の温度制御システム。
【請求項6】
前記ウェーハチャックには、複数の前記基準温度測定部が分散して配置され、
前記温度制御部が、複数の前記基準温度測定部がそれぞれ検出した温度から、最も低い温度、平均もしくは中央値を前記基準温度として検出する請求項4又は5に記載の温度制御システム。
【請求項7】
請求項1に記載の前記ウェーハチャックの温度を制御する温度制御方法において、
少なくとも1つの前記基準温度測定部が前記ウェーハチャックの前記基準温度を検出する基準温度検出ステップと、
前記上下温度差測定部が、前記保持面に保持された前記ウェーハの部分的な発熱により生じた熱流を検出する熱流検出ステップと、
前記熱流検出ステップの検出結果に基づいて前記上下温度差を算出して、前記基準温度検出ステップで検出した前記基準温度と、前記上下温度差とに基づいて前記対応部分又は前記発熱部分の温度を制御温度として算出する温度制御ステップと、
を含む温度制御方法。
【請求項8】
前記温度制御ステップが、
前記基準温度と前記上下温度差とに基づいて、前記対応部分の温度である発熱部測温点の温度を前記制御温度として算出する処理を含む請求項7に記載の温度制御方法。
【請求項9】
前記温度制御ステップが、
前記基準温度と、前記上下温度差と、前記ウェーハ及び前記ウェーハチャックの物性値及び寸法を含むデータと、に基づいて、前記発熱部分の温度であるデバイス温度を前記制御温度として算出する処理を含む請求項7に記載の温度制御方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、ウェーハチャック、温度制御システム及び温度制御方法に関する。
続きを表示(約 1,800 文字)
【背景技術】
【0002】
半導体製造工程では、半導体ウェーハに各種の処理を施して、半導体デバイスをそれぞれ有する複数のチップ(ダイ)を形成する。各チップは電気的特性が検査され、その後ダイサで分断された後、リードフレーム等に固定されて組み立てられる。電気的特性の検査は、プローバとテスタで構成されるウェーハテストシステムにより行われる。プローバは、ウェーハをウェーハチャックに固定し、各チップの電極パッドにプローブを接触させる。テスタは、プローブに接続される端子から、電源及び各種の試験信号を供給し、チップの電極に出力される信号を解析して、検査対象のチップの半導体デバイスが正常に動作するかを確認する。
【0003】
プローバでは、電気的特性の検査時の温度を設定された温度にし、且つ一定に維持する必要がある。そのため、ウェーハチャックは、検査対象のチップの半導体デバイス(測定デバイス)の発熱に対して、その温度や発熱量を検知するために、測温抵抗体や熱電対式温度センサ等の温度センサを設置し、温度センサの検出結果に基づいてウェーハチャックの温度制御が行われる。
【0004】
例えば、特許文献1に開示されたプローバは、ウェーハチャック(プローバチャック)に複数の温度センサを配設し、複数の温度センサの中から検査対象となる測定デバイスに最も近い温度センサの検出結果に基づいてウェーハチャックの温度制御を行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2006-294873号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
ところで、特許文献1に開示されたプローバにおいて、測定デバイスの発熱部分に対応するウェーハチャックの温度を正確に測定するためには、ウェーハチャックに設置する温度センサの数を多くする必要がある。しかしながら、ウェーハチャック内部の構造的な制限から、その設置数や設置位置に制限があり、多くの温度センサを理想的な位置に組み込むことが困難である。また、多くの温度センサを設置した場合、温度センサの信号線のセットは温度センサの数だけ必要になり、その配線処理が非常に困難となる。
【0007】
特に、測定デバイスが、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、APU(Accelerated Processing Unit)等のSoC(System On Chip)系のデバイスである場合には、メモリデバイスと比べて、局部的に熱密度の大きい発熱となる。そのため、多くの温度センサをウェーハチャックに設置できない場合、測定デバイスの発熱に対してウェーハチャックの温度を適切に制御することが困難となる。
【0008】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、設置する温度センサの数を多くすることなくウェーハの発熱部分に対応するウェーハチャックの温度測定が可能なウェーハチャックと、ウェーハチャックの温度を適切に制御することができる温度制御システム及び温度制御方法と、を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の目的を達成するためのウェーハチャックは、ウェーハを保持する保持面を有するウェーハチャックであって、ウェーハチャックを加熱又は冷却する加熱冷却部と、ウェーハチャックに配置された少なくとも1つの温度センサと、ウェーハチャックに配置され、複数の熱電対を直列に接続して、且つ互いに隣接する熱電対の接続部分が、保持面から第1深さ位置と、第1深さ位置よりも深い第2深さ位置と、に交互に配置されている熱流センサと、を備え、熱流センサは、熱電対毎に設けられた複数の測温点を有し、ウェーハチャックを平面視した場合に、複数の測温点がウェーハチャックの全体にわたって配置される。
【0010】
このウェーハチャックによれば、設置する温度センサの数を多くすることなくウェーハの発熱部分に対応するウェーハチャックの温度測定が可能になる。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
株式会社東京精密
ウェーハ剥離洗浄装置
1か月前
株式会社東京精密
ウェーハ剥離洗浄装置
1か月前
株式会社東京精密
ウェーハ剥離洗浄装置
1か月前
株式会社東京精密
研磨装置
1か月前
株式会社東京精密
形状測定方法及び形状測定機
11日前
株式会社東京精密
シリコンウエハの表面改質方法
18日前
株式会社東京精密
シリコンウエハの表面改質方法
1か月前
株式会社東京精密
塗布状況検出方法及び塗布状況検出装置
13日前
株式会社東京精密
部分放電検出装置及び部分放電検出方法
1か月前
株式会社東京精密
ツールホルダの装着状態検出方法及びツールホルダが装着される工作機械
6日前
株式会社東京精密
パーティクル計測装置、三次元形状測定装置、プローバ装置、パーティクル計測システム及びパーティクル計測方法
1か月前
個人
トイレ用照明スイッチ
19日前
ローム株式会社
保持具
5日前
CKD株式会社
巻回装置
18日前
CKD株式会社
巻回装置
18日前
個人
積層型電解質二次電池
11日前
イリソ電子工業株式会社
電子部品
22日前
太陽誘電株式会社
コイル部品
26日前
太陽誘電株式会社
コイル部品
26日前
オムロン株式会社
電磁継電器
26日前
オムロン株式会社
電磁継電器
26日前
オムロン株式会社
電磁継電器
26日前
日本特殊陶業株式会社
保持部材
18日前
協立電機株式会社
着磁器
4日前
国立大学法人信州大学
トランス
26日前
株式会社ヨコオ
ソケット
1か月前
三菱電機株式会社
同軸フィルタ
8日前
ローム株式会社
半導体装置
4日前
ローム株式会社
半導体装置
4日前
ローム株式会社
半導体装置
19日前
ナカムラマジック株式会社
放熱器
13日前
トヨタバッテリー株式会社
二次電池
18日前
トヨタバッテリー株式会社
二次電池
1か月前
日本航空電子工業株式会社
コネクタ
19日前
日新イオン機器株式会社
気化器、イオン源
19日前
トヨタ自動車株式会社
電池モジュール
18日前
続きを見る
他の特許を見る