TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2024143850
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-10-11
出願番号
2023056761
出願日
2023-03-30
発明の名称
導電性ハニカム構造体、電気加熱型担体及び排ガス浄化装置
出願人
日本碍子株式会社
代理人
アクシス国際弁理士法人
主分類
B01J
35/50 20240101AFI20241003BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約
【課題】ガスシール性と耐熱衝撃性を共に改善するのに寄与する導電性ハニカム構造体を提供する。
【解決手段】導電性ハニカム構造体(110)は、外周壁(114)が露出している外表面又は電極層(112a、112b)の外表面に開口し、電極層(112a、112b)の周方向両端から周方向にそれぞれ10mm以内の箇所に設けられた、セル(115)の延びる方向に延びる溝部(121)を有するスリット(117a、117b)を備える。このスリットの溝部の一部は充填材(119)によって充填されており、第一端面(116)から第二端面(118)までのセルの延びる方向の長さをLとし、第一端面の座標値を0、第二端面の座標値を1.0Lとして、セルの延びる方向に座標軸を取り、座標値が0~0.1Lの範囲における充填材の平均充填率(単位:%)をF
0-0.1
、座標値が0.1L~1.0Lの範囲における充填材の平均充填率(単位:%)をF
0.1/1.0
とすると、0≦F
0-0.1
/F
0.1-1.0
≦0.5が成立する。
【選択図】図2A
特許請求の範囲
【請求項1】
外周壁と、前記外周壁の内側に配設され、第一端面から第二端面まで流路を形成する複数のセルを区画形成する隔壁とを有する導電性のハニカム構造部と、
前記外周壁の外表面に設けられ、セルの延びる方向に帯状に延びる第一電極層と、
前記外周壁の外表面に設けられ、セルの延びる方向に帯状に延びる第二電極層であって、前記ハニカム構造部の中心軸を挟んで第一電極層と対向するように設けられた第二電極層と、
前記外周壁が露出している外表面又は第一電極層の外表面に開口し、第一電極層の周方向両端から周方向にそれぞれ10mm以内の箇所に設けられ、セルの延びる方向に延びる溝部を有する一対の第一スリットと、
前記外周壁が露出している外表面又は第二電極層の外表面に開口し、第二電極層の周方向両端から周方向にそれぞれ10mm以内の箇所に設けられ、セルの延びる方向に延びる溝部を有する一対の第二スリットと、
を備え、
前記一対の第一スリット及び前記一対の第二スリットのうち、少なくとも一つのスリットにおいて、前記溝部の一部に充填材が充填されており、
前記溝部の一部に充填材が充填されている前記少なくとも一つのスリットに関し、前記ハニカム構造部の第一端面から第二端面までのセルの延びる方向の長さをLとし、第一端面の座標値を0、第二端面の座標値を1.0Lとして、セルの延びる方向に座標軸を取り、座標値が0~0.1Lの範囲における前記充填材の平均充填率(単位:%)をF
0-0.1
、座標値が0.1L~1.0Lの範囲における前記充填材の平均充填率(単位:%)をF
0.1-1.0
とすると、0≦F
0-0.1
/F
0.1-1.0
≦0.50が成立する導電性ハニカム構造体。
続きを表示(約 710 文字)
【請求項2】
F
0.1-1.0
が20%~100%である請求項1に記載の導電性ハニカム構造体。
【請求項3】
F
0-0.1
が0%である請求項1又は2に記載の導電性ハニカム構造体。
【請求項4】
前記一対の第一スリット及び前記一対の第二スリットのすべてのスリットにおいて、0≦F
0-0.1
/F
0.1-1.0
≦0.50が成立する請求項1又は2に記載の導電性ハニカム構造体。
【請求項5】
第一端面が流体の入口側であり、第二端面が流体の出口側である請求項1又は2に記載の導電性ハニカム構造体。
【請求項6】
前記外周壁の露出した外表面に開口し、セルの延びる方向に延びる溝部を有し、前記溝部の全部が充填材によって充填されている第三スリットを少なくとも一つ更に備える請求項1又は2に記載の導電性ハニカム構造体。
【請求項7】
第一電極層及び/又は第二電極層の外表面に開口し、セルの延びる方向に延びる溝部を有し、前記溝部の全部が充填材によって充填されている第四スリットを少なくとも一つ更に備える請求項1又は2に記載の導電性ハニカム構造体。
【請求項8】
請求項1又は2に記載の導電性ハニカム構造体と、
第一電極層及び第二電極層のそれぞれの外表面に接合された金属端子と、
を備える電気加熱型担体。
【請求項9】
請求項8に記載の電気加熱型担体と、
前記電気加熱型担体を収容する金属管と、
を備える排ガス浄化装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、導電性ハニカム構造体に関する。また、本発明は導電性ハニカム構造体を備える電気加熱型担体に関する。また、本発明は電気加熱型担体を備える排ガス浄化装置に関する。
続きを表示(約 3,400 文字)
【背景技術】
【0002】
近年、エンジン始動直後の排ガス浄化性能の低下を改善するため、導電性ハニカム構造体を備える電気加熱触媒(EHC)が提案されている。EHCは一般に、外周壁、及び、外周壁の内側に配設され、第一端面から第二端面まで流路を形成する複数のセルを区画形成する隔壁を有する導電性のハニカム構造部と、ハニカム構造部の外周壁に配設された一対の電極層とを備える。EHCを用いることで、通電により導電性ハニカム構造体自体を発熱させ、エンジン始動直後の低温な排ガスを触媒活性温度まで昇温させることができる。
【0003】
EHCに要求される特性の一つに耐熱衝撃性がある。ハニカム構造体の外周部にストレスリリーフを設けることで、ハニカム構造体にかかる応力を分散させ、耐熱衝撃性を向上させる技術が知られている。特許文献1(特開2014-198296号公報)には、外周に電極部が配設されている領域である電極部領域と、ハニカム構造部の側面が露出した領域であるハニカム構造部領域とが設けられており、電極部領域及びハニカム構造部領域の両方にスリットが1本以上形成されているハニカム構造体が記載されている。当該ハニカム構造体では、セルの延びる方向に直交する断面において、少なくとも1本の電極部スリットが、少なくとも1本のハニカム構造部スリットより長くなるように形成されていることで、耐熱衝撃性を向上させている。
【0004】
また、特許文献1には、ハニカム構造体のアイソスタティック破壊強度を向上するため、少なくとも1本のスリットに充填材を充填することが開示されており、充填材はスリットの空間の少なくとも一部に充填されてもよいし、スリットの空間の全部に充填されてもよいことが記載されている。更に、充填材のヤング率が0.001~20GPaであること、充填材の気孔率が40~80%であること等も記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2014-198296号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
特許文献1で提案されているように、ハニカム構造体の外周部にストレスリリーフとしてのスリットを設けることはハニカム構造体の耐熱衝撃性の向上に寄与する。しかしながら、スリットに充填材が充填されることで外周部の剛性(ヤング率)が高くなりやすく、スリットを設けたことによる耐熱衝撃性の向上効果が十分に発揮できないという問題があった。このため、900℃~950℃程度の低温域の排ガスに対してもハニカム構造体にクラックが発生してしまうという問題が未だ残されている。また、特許文献1には充填材はスリットの空間の少なくとも一部に充填されてもよいことが記載されているが、具体的な充填方法は示されておらず、ガスシール性と耐熱衝撃性を高次元で両立させることは困難であった。
【0007】
本発明は上記事情に鑑みて創作されたものであり、一実施形態において、ガスシール性と耐熱衝撃性を共に改善するのに寄与する導電性ハニカム構造体を提供することを課題とする。また、本発明は別の一実施形態において、そのような導電性ハニカム構造体を備える電気加熱型担体を提供することを課題とする。また、本発明は更に別の一実施形態において、そのような電気加熱型担体を備える排ガス浄化装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記課題は、以下に例示される本発明によって解決される。
[態様1]
外周壁と、前記外周壁の内側に配設され、第一端面から第二端面まで流路を形成する複数のセルを区画形成する隔壁とを有する導電性のハニカム構造部と、
前記外周壁の外表面に設けられ、セルの延びる方向に帯状に延びる第一電極層と、
前記外周壁の外表面に設けられ、セルの延びる方向に帯状に延びる第二電極層であって、前記ハニカム構造部の中心軸を挟んで第一電極層と対向するように設けられた第二電極層と、
前記外周壁が露出している外表面又は第一電極層の外表面に開口し、第一電極層の周方向両端から周方向にそれぞれ10mm以内の箇所に設けられ、セルの延びる方向に延びる溝部を有する一対の第一スリットと、
前記外周壁が露出している外表面又は第二電極層の外表面に開口し、第二電極層の周方向両端から周方向にそれぞれ10mm以内の箇所に設けられ、セルの延びる方向に延びる溝部を有する一対の第二スリットと、
を備え、
前記一対の第一スリット及び前記一対の第二スリットのうち、少なくとも一つのスリットにおいて、前記溝部の一部に充填材が充填されており、
前記溝部の一部に充填材が充填されている前記少なくとも一つのスリットに関し、前記ハニカム構造部の第一端面から第二端面までのセルの延びる方向の長さをLとし、第一端面の座標値を0、第二端面の座標値を1.0Lとして、セルの延びる方向に座標軸を取り、座標値が0~0.1Lの範囲における前記充填材の平均充填率(単位:%)をF
0-0.1
、座標値が0.1L~1.0Lの範囲における前記充填材の平均充填率(単位:%)をF
0.1-1.0
とすると、0≦F
0-0.1
/F
0.1-1.0
≦0.50が成立する導電性ハニカム構造体。
[態様2]
F
0.1-1.0
が20%~100%である態様1に記載の導電性ハニカム構造体。
[態様3]
F
0-0.1
が0%である態様1又は2に記載の導電性ハニカム構造体。
[態様4]
前記一対の第一スリット及び前記一対の第二スリットのすべてのスリットにおいて、0≦F
0-0.1
/F
0.1-1.0
≦0.50が成立する態様1~3の何れかに記載の導電性ハニカム構造体。
[態様5]
第一端面が流体の入口側であり、第二端面が流体の出口側である態様1~4の何れかに記載の導電性ハニカム構造体。
[態様6]
前記外周壁の露出した外表面に開口し、セルの延びる方向に延びる溝部を有し、前記溝部の全部が充填材によって充填されている第三スリットを少なくとも一つ更に備える態様1~5の何れかに記載の導電性ハニカム構造体。
[態様7]
第一電極層及び/又は第二電極層の外表面に開口し、セルの延びる方向に延びる溝部を有し、前記溝部の全部が充填材によって充填されている第四スリットを少なくとも一つ更に備える態様1~6の何れかに記載の導電性ハニカム構造体。
[態様8]
態様1~7の何れかに記載の導電性ハニカム構造体と、
第一電極層及び第二電極層のそれぞれの外表面に接合された金属端子と、
を備える電気加熱型担体。
[態様9]
態様8に記載の電気加熱型担体と、
前記電気加熱型担体を収容する金属管と、
を備える排ガス浄化装置。
【発明の効果】
【0009】
本発明の一実施形態によれば、ガスシール性と耐熱衝撃性が共に改善された導電性ハニカム構造体を提供することができる。この導電性ハニカム構造体に金属端子を接合して電気加熱型担体を作製することができる。電気加熱型担体は、例えば排ガス浄化装置の触媒担体として好適に使用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【0010】
本発明の一実施形態に係る電気加熱型担体を第一端面から観察したときの模式図である。
本発明の一実施形態に係る電気加熱型担体の模式的な斜視図である。
本発明の別の一実施形態に係る電気加熱型担体の模式的な斜視図である。
本発明の一実施形態に係る排ガス浄化装置を示す模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
日本碍子株式会社
匣鉢
今日
日本碍子株式会社
ハニカム構造体及び排気ガス浄化装置
21日前
東レ株式会社
分離膜
19日前
株式会社大真空
二酸化炭素捕集体
7日前
株式会社大真空
二酸化炭素捕集体
7日前
株式会社日本製鋼所
反応装置
14日前
株式会社ニクニ
液体処理装置
16日前
株式会社日本製鋼所
反応装置
5日前
株式会社西部技研
二酸化炭素吸着装置
8日前
株式会社リスニ
液体処理ノズル
14日前
株式会社大善
濃縮脱水機
1日前
花王株式会社
香料送達粒子
13日前
東レエンジニアリング株式会社
リアクタ
2日前
木村化工機株式会社
蒸留装置
2日前
木村化工機株式会社
蒸留装置
2日前
株式会社Deto
微細気泡水供給装置
15日前
エステー株式会社
除湿器
今日
花王株式会社
有益物質送達粒子
13日前
株式会社アイエンス
気泡発生装置
7日前
株式会社パウレック
粉体混合装置
15日前
株式会社大真空
二酸化炭素回収システム
5日前
東レ株式会社
ガス分離方法、精製流体及びガス分離装置
8日前
岩井ファルマテック株式会社
脱気システム
8日前
大陽日酸株式会社
排ガス除害システム
7日前
三進金属工業株式会社
ヒュームフード
今日
森下仁丹株式会社
シームレスカプセルの製造方法
1日前
個人
小型紫外線照射装置
16日前
JFEエンジニアリング株式会社
排ガス再資源化システム
6日前
JFEエンジニアリング株式会社
二酸化炭素分離回収装置
8日前
東洋紡エムシー株式会社
吸着フィルター及びフィルターユニット
5日前
日揮触媒化成株式会社
ハロゲン吸着剤
5日前
株式会社SCREENホールディングス
振動フィーダ
15日前
国立大学法人千葉大学
アンモニア吸蔵材
7日前
日揮触媒化成株式会社
パラ水素をオルト水素に変換する触媒
今日
株式会社コスモテック
蒸留処理装置
13日前
いすゞ自動車株式会社
ガス処理装置
6日前
続きを見る
他の特許を見る