TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025060203
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-10
出願番号2023170782
出願日2023-09-29
発明の名称触媒構造
出願人本田技研工業株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類B01J 35/57 20240101AFI20250403BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】燃焼ガスの浄化性能を維持しつつハニカムコアの耐久性を高めることができる触媒装置を提供する。
【解決手段】触媒が担持された金属箔(40)を巻回してなるハニカムコア(31)を有する触媒装置(30)において、金属箔(40)の一部に複数の貫通孔(H)が形成されており、ハニカムコア(31)を通過する燃焼ガス(G)の流れ方向において、その上流側から、貫通孔(H)が設けられない第1領域(A)、貫通孔(H)が設けられる第2領域(B)、貫通孔(H)が設けられない第3領域(C)の順で並べられる。燃焼ガス(G)の流れ方向を幅方向とした際に、第1領域(A)の幅(TA)が、第3領域(C)の幅(TC)より小さく設定される。金属箔(40)は、平箔(41)と波箔(42)とを重ねて構成されており、平箔(41)と波箔(42)とを接合する第1ロウ付け部(51)がハニカムコア(31)の上流側の端部に設けられる。
【選択図】図6


特許請求の範囲【請求項1】
触媒が担持された金属箔(40)を巻回してなるハニカムコア(31)を有する触媒装置(30)において、
前記金属箔(40)の少なくとも一部に複数の貫通孔(H)が形成されており、
前記ハニカムコア(31)を通過する燃焼ガス(G)の流れ方向において、その上流側から、前記貫通孔(H)が設けられない第1領域(A)、前記貫通孔(H)が設けられる第2領域(B)、前記貫通孔(H)が設けられない第3領域(C)の順で並んでおり、
前記燃焼ガス(G)の流れ方向を幅方向とした際に、前記第1領域(A)の幅(TA)が、前記第3領域(C)の幅(TC)より小さく設定される、触媒装置。
続きを表示(約 940 文字)【請求項2】
触媒が担持された金属箔(40)を巻回してなるハニカムコア(31)を有する触媒装置(30)において、
前記金属箔(40)の少なくとも一部に複数の貫通孔(H)が形成されており、
前記ハニカムコア(31)を通過する燃焼ガス(G)の流れ方向において、その上流側から前記貫通孔(H)が設けられない第1領域(A)、前記貫通孔(H)が設けられる第2領域(B)、下流側から前記貫通孔(H)が設けられない第3領域(C)が設けられ、
前記燃焼ガス(G)の流れ方向を幅方向とした際に、前記第1領域(A)の幅(TA)が、前記第3領域(C)の幅(TC)より小さく設定される、触媒装置。
【請求項3】
前記金属箔(40)は、平箔(41)と波箔(42)とを重ねて構成されており、
前記平箔(41)と前記波箔(42)とを接合する第1ロウ付け部(51)が、前記ハニカムコア(31)の上流側の端部に設けられる、請求項1または2に記載の触媒装置。
【請求項4】
前記第2領域(B)にはロウ付けが施されない、請求項1または2に記載の触媒装置。
【請求項5】
前記第1ロウ付け部(51)より下流側で前記平箔(41)と前記波箔(42)とを接合する第2ロウ付け部(52)と、
前記ハニカムコア(31)と該ハニカムコア(31)を収容する外筒(32)とを接合する第3ロウ付け部(53)とを備え、
前記第2ロウ付け部(52)と前記第3ロウ付け部(53)とが、前記触媒装置(30)の側面視で互いに重なる、請求項3に記載の触媒構造。
【請求項6】
前記第2ロウ付け部(52)および前記第3ロウ付け部(53)が、前記触媒装置(30)の下流側寄りの位置に設けられている、請求項5に記載の触媒装置。
【請求項7】
前記第2ロウ付け部(52)の幅(T2)が、前記第3ロウ付け部(53)の幅(T3)より小さく設定される、請求項5に記載の触媒装置。
【請求項8】
前記第2領域(B)の幅(TB)が、前記第3領域(C)の幅(TC)より大きく設定される、請求項1または2に記載の触媒装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、触媒装置に係り、特に、触媒を担持した金属箔を積層してなるハニカムコアを有する触媒装置に関する。
続きを表示(約 1,400 文字)【背景技術】
【0002】
従来から、内燃機関の燃焼ガスを、白金等の触媒を担持した金属箔を積層してなるハニカムコアを通過させることで浄化する触媒装置が知られている。
【0003】
特許文献1には、高温での使用時に発生しやすい2つの現象、すなわち、ハニカムコアの内部の温度差によって生じる熱ひずみ現象と、金属箔の表面に形成された酸化被膜が体積膨張することで金属箔そのものが伸びてしまう現象とを抑えるために、金属箔に複数の貫通孔を設けるようにした触媒装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特許第5199291号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかし、特許文献1のハニカムコアは、碁盤の目状に配置された貫通孔が金属箔全体に設けられているため、燃焼ガスが流れる際に触媒装置の内部の圧力変動が大きくなり、この圧力変動によってハニカムコアのロウ付け部が劣化する可能性があり、その対策が必要であるという課題があった。
【0006】
本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し、燃焼ガスの浄化性能を維持しつつハニカムコアの耐久性を高めることができる触媒装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
前記目的を達成するために、本発明は、触媒が担持された金属箔(40)を巻回してなるハニカムコア(31)を有する触媒装置(30)において、前記金属箔(40)の少なくとも一部に複数の貫通孔(H)が形成されており、前記ハニカムコア(31)を通過する燃焼ガス(G)の流れ方向において、その上流側から、前記貫通孔(H)が設けられない第1領域(A)、前記貫通孔(H)が設けられる第2領域(B)、前記貫通孔(H)が設けられない第3領域(C)の順で並んでおり、前記燃焼ガス(G)の流れ方向を幅方向とした際に、前記第1領域(A)の幅(TA)が、前記第3領域(C)の幅(TC)より小さく設定される点に第1の特徴がある。
【0008】
また、触媒が担持された金属箔(40)を巻回してなるハニカムコア(31)を有する触媒装置(30)において、前記金属箔(40)の少なくとも一部に複数の貫通孔(H)が形成されており、前記ハニカムコア(31)を通過する燃焼ガス(G)の流れ方向において、その上流側から前記貫通孔(H)が設けられない第1領域(A)、前記貫通孔(H)が設けられる第2領域(B)、下流側から前記貫通孔(H)が設けられない第3領域(C)が設けられ、前記燃焼ガス(G)の流れ方向を幅方向とした際に、前記第1領域(A)の幅(TA)が、前記第3領域(C)の幅(TC)より小さく設定される点に第2の特徴がある。
【0009】
また、前記金属箔(40)は、平箔(41)と波箔(42)とを重ねて構成されており、前記平箔(41)と前記波箔(42)とを接合する第1ロウ付け部(51)が、前記ハニカムコア(31)の上流側の端部に設けられる点に第3の特徴がある。
【0010】
また、前記第2領域(B)にはロウ付けが施されない点に第4の特徴がある。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

個人
撹拌羽根
29日前
東レ株式会社
複合半透膜
9日前
東ソー株式会社
ケトン捕捉剤
15日前
株式会社西部技研
ガス吸着装置
3日前
ホーコス株式会社
微粒子捕集装置
26日前
東レ株式会社
濾過方法
22日前
東レ株式会社
濾過方法および濾過装置
3日前
株式会社石垣
ろ材層の圧密状態制御方法
1か月前
株式会社石垣
ろ材層の圧密状態制御方法
1か月前
日本化薬株式会社
プロピレン製造用触媒
1か月前
株式会社ナノバブル研究所
製造物
1か月前
株式会社石垣
ろ材層の圧密状態判別方法
1か月前
キヤノン電子株式会社
二酸化炭素回収装置
1か月前
協和機電工業株式会社
正浸透膜モジュール
1か月前
ワシノ機器株式会社
複式ストレーナ
23日前
株式会社トクヤマ
加熱装置及び表面処理装置
11日前
株式会社LIXIL
液体供給システム
11日前
大和ハウス工業株式会社
反応装置
1か月前
個人
流体混合装置
11日前
大日本印刷株式会社
攪拌スタンド
2日前
東ソー株式会社
消臭性組成物及び脱臭フィルター
1か月前
株式会社神戸製鋼所
混練装置
8日前
本田技研工業株式会社
触媒構造
1か月前
CKD株式会社
二酸化炭素回収システム
12日前
株式会社電業社機械製作所
エネルギー回収装置
1か月前
株式会社大真空
二酸化炭素回収システム
12日前
株式会社大真空
二酸化炭素回収システム
12日前
オリオン機械株式会社
圧縮空気除湿装置システム
3日前
オリオン機械株式会社
圧縮空気除湿装置システム
3日前
株式会社大真空
二酸化炭素捕集モジュール
26日前
東亜ディーケーケー株式会社
溶解装置
1か月前
本田技研工業株式会社
吸着装置
1か月前
カナデビア株式会社
生成装置
15日前
永進テクノ株式会社
油水分離装置及び油水分離方法
1か月前
株式会社HELIX
分解処理装置
4日前
株式会社HELIX
分解処理装置
4日前
続きを見る