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公開番号2024136792
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-04
出願番号2023048038
出願日2023-03-24
発明の名称転写箔の製造方法及び転写箔
出願人TOPPANホールディングス株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G02B 5/18 20060101AFI20240927BHJP(光学)
要約【課題】軽剥離性及び形状再現性を高い水準で実現することができる転写箔の製造方法及び転写箔を提供する。
【解決手段】転写箔の製造方法は、支持体1に分離可能に支持された転写箔2の製造方法であって、支持体1の片面1aに剥離力調整層3を設け、剥離力調整層3を覆うように保護層6を設けて、剥離力調整層3は、保護層6の主材料よりも数平均分子量が少なく融点が低く、塗布前のインキ中で0.5μm以上且つ5.0μm未満の平均粒径を有する粒子状材料A(4)、及び、保護層6の主材料よりも数平均分子量が少なく融点が低く、塗布前のインキ中で0.005μm以上且つ0.5μm未満の平均粒径を有する粒子状材料B(5)を含み、塗布重量が0.001g/m²以上0.1g/m²以下にて設けられている。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
支持体に分離可能に支持された転写箔の製造方法であって、
前記支持体の片面に剥離力調整層を設け、前記剥離力調整層を覆うように保護層を設けて、
前記剥離力調整層は、
前記保護層の主材料よりも数平均分子量が少なく融点が低く、塗布前のインキ中で０．５μｍ以上且つ５．０μｍ未満の平均粒径を有する粒子状材料Ａ、
及び、前記保護層の主材料よりも数平均分子量が少なく融点が低く、塗布前のインキ中で０．００５μｍ以上且つ０．５μｍ未満の平均粒径を有する粒子状材料Ｂを含み、
塗布重量が０．００１ｇ／ｍ
２
以上０．１ｇ／ｍ
２
以下にて設けられている、
転写箔の製造方法。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記剥離力調整層はＳＰ値１１（ＣＡＬ／ｃｍ
３
）以上の溶媒に材料を溶解または分散させたインキを塗布乾燥させて設け、
前記保護層はＳＰ値１０（ＣＡＬ／ｃｍ
３
）以下の溶媒に材料を溶解または分散させたインキを塗布乾燥させて設けることによる、
請求項１に記載の転写箔の製造方法。
【請求項３】
支持体に分離可能に支持された転写箔であって、
前記支持体の片面から順に、剥離力調整層と、保護層と、を備え、
前記剥離力調整層は、
前記保護層の主材料よりも数平均分子量が少なく融点が低く、且つ前記保護層の膜厚以上の平均粒径を有する粒子状材料Ａ、
及び、前記保護層の主材料よりも数平均分子量が少なく融点が低く、且つ平均粒径１μｍ未満の粒子状材料Ｂを含み、
塗布重量が０．００１ｇ／ｍ
２
以上０．１ｇ／ｍ
２
以下にて設けられている、
転写箔。
【請求項４】
断面方向から観察したときに、前記保護層が前記剥離力調整層を介して前記支持体に接する断面Ｃと、前記保護層が前記支持体に直接接する断面Ｄを有し、
前記支持体に占める前記断面Ｃの割合が、前記支持体に占める前記断面Ｄの割合よりも大きい、
請求項３に記載の転写箔。
【請求項５】
前記粒子状材料Ａの融点よりも前記粒子状材料Ｂの融点が低い、
請求項３または４に記載の転写箔。
【請求項６】
前記剥離力調整層を構成する材料の重量比率において、前記粒子状材料Ａが１に対して前記粒子状材料Ｂが０．５以上１．５以下である、
請求項３または４に記載の転写箔。
【請求項７】
前記支持体から前記転写箔が分離した状態において、前記剥離力調整層の材料の少なくとも一部が、前記支持体の表面と前記転写箔の表面のいずれの側にも残る、
請求項３または４に記載の転写箔。
【請求項８】
レリーフ型光学素子または露光記録型光学素子を含む、
請求項３または４に記載の転写箔。
【請求項９】
前記支持体の材料は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を含み、
前記剥離力調整層の材料は、ワックス、低分子ポリエチレン及び低分子ポリオレフィンの中の少なくとも１つを含み、
前記保護層の材料は、アクリルを主成分とする、
請求項３または４に記載の転写箔。
【請求項１０】
前記保護層の膜厚は、０．５μｍ以上２．０μｍ以下で、
前記粒子状材料Ａの平均粒径は、１．０μｍ以上５．０μｍ以下で、
前記粒子状材料Ｂの平均粒径は、０．０１μｍ以上０．５μｍ以下である、
請求項３または４に記載の転写箔。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、本発明は、転写箔の製造方法及び転写箔に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
転写箔において、貼付時に、転写箔が支持体から剥がれやすい特性（軽剥離性）や転写箔が余剰部分や欠乏部分なく刻印金型の形状通りに貼付されやすい特性（形状再現性）等のいわゆる貼付作業性が良好であることは、非常に重要である。
【０００３】
特に、レリーフ型または露光記録型の光学素子を具備する転写箔構成においては、これら光学素子を形成する為に、熱圧または高エネルギー光照射等の加工に耐えうる高融点材料や高分子量材料を転写箔内に追加して設ける必要がある。このため、軽剥離性や形状再現性の悪化を招きやすいという問題があった。
【０００４】
この問題を解決する一つの方法として、支持体と転写箔との界面に、軽剥離性を付与するための剥離力調整層を追加して設けたものが提案されている（下記の特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開第６９１５７５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１等の方法では、転写箔に軽剥離性を付与することができるものの、形状再現性の悪化を併発しやすいという問題点がある。
【０００７】
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、軽剥離性及び形状再現性を高い水準で実現することができる転写箔の製造方法及び転写箔を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は以下の手段を採用している。
すなわち、本発明に係る一態様は、支持体に分離可能に支持された転写箔の製造方法であって、前記支持体の片面に剥離力調整層を設け、前記剥離力調整層を覆うように保護層を設けて、前記剥離力調整層は、前記保護層の主材料よりも数平均分子量が少なく融点が低く、塗布前のインキ中で０．５μｍ以上且つ５．０μｍ未満の平均粒径を有する粒子状材料Ａ、及び、前記保護層の主材料よりも数平均分子量が少なく融点が低く、塗布前のインキ中で０．００５μｍ以上且つ０．５μｍ未満の平均粒径を有する粒子状材料Ｂを含み、塗布重量が０．００１ｇ／ｍ
２
以上０．１ｇ／ｍ
２
以下にて設けられている、転写箔の製造方法である。
【０００９】
また、本発明の他の一態様は、上述した転写箔であって、前記剥離力調整層はＳＰ値１１（ＣＡＬ／ｃｍ
３
）以上の溶媒に材料を溶解または分散させたインキを塗布乾燥させて設け、前記保護層はＳＰ値１０（ＣＡＬ／ｃｍ
３
）以下の溶媒に材料を溶解または分散させたインキを塗布乾燥させて設けることによる。
【００１０】
また、本発明の他の一態様は、支持体に分離可能に支持された転写箔であって、前記支持体の片面から順に、剥離力調整層と、保護層と、を備え、前記剥離力調整層は、前記保護層の主材料よりも数平均分子量が少なく融点が低く、且つ前記保護層の膜厚以上の平均粒径を有する粒子状材料Ａ、及び、前記保護層の主材料よりも数平均分子量が少なく融点が低く、且つ平均粒径１μｍ未満の粒子状材料Ｂを含み、塗布重量が０．００１ｇ／ｍ
２
以上０．１ｇ／ｍ
２
以下にて設けられている、転写箔。
（【００１１】以降は省略されています）

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