特許ウォッチ

公開番号2024133297
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-01
出願番号2024114802,2021527438
出願日2024-07-18,2020-05-08
発明の名称医療機器洗浄用過酢酸組成物及びその製造方法
出願人三菱瓦斯化学株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C11D 3/48 20060101AFI20240920BHJP(動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく)
要約【課題】過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たし、かつタンパク除去力が向上した、医療機器殺菌及び洗浄用組成物。
【解決手段】過酢酸を0.001～15質量%、酢酸及び/又はその塩を0.01～70質量%、過酸化水素を0.001～25質量%、及び水を含み、
添加剤を含み、
前記組成物のpH値が、4.0～10.0である、殺菌及び洗浄用組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
過酢酸を０．００１～１５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１～７０質量％、過酸化水素を０．００１～２５質量％、及び水を含み、
添加剤を含み、
前記組成物のｐＨ値が、４．０～１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
続きを表示（約 870 文字）【請求項２】
前記添加剤が、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩、リン系安定剤、カルボン酸系安定剤、及びすず酸塩からなる群より選択される１種以上である、
請求項１に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項３】
前記添加剤がポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩である、請求項１又は２に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項４】
前記添加剤がリン系安定剤である、請求項１～３のいずれか一項に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項５】
前記添加剤がカルボン酸系安定剤である、請求項１～４のいずれか一項に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項６】
前記添加剤が、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩、リン系安定剤、及びカルボン酸系安定剤である、請求項１又は２に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項７】
前記リン系安定剤が、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩のいずれかを含む、請求項６に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項８】
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩のいずれかを含む、請求項６に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項９】
前記リン系安定剤が、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩であって、
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、請求項６に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項１０】
前記ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩を０．００１～５質量％含む、請求項６～９のいずれか一項に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、医療機器の殺菌・洗浄に適する殺菌及び洗浄用過酢酸組成物並びにその製造方法に関する。
続きを表示（約 2,800 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、医療機器の殺菌・洗浄には、酸性やアルカリ性の薬品が使用されており、過酸水溶液もその１つである。しかしながら、酸性やアルカリ性の薬品が使用されるために、その廃液が下水排除基準を満たさないまま排水されて、コンクリート製の下水道管が損傷している例が後を絶たない。下水道管の損傷は、下水への排水ができなくなると共に、道路陥没を引き起こす可能性もあり、早急な対応が必要である。このような背景のもと、東京都下水道局は、２０１９年１月に、透析排水と下水道管についての注意喚起を発表した。東京都下水道局では、排水についての下水排除基準を水素イオン濃度（ｐＨ）が５を超え９未満の範囲内に収めることを求めている。
【０００３】
医療機器の殺菌・洗浄に用いる殺菌及び洗浄用過酢酸組成物としては、酸性の過酢酸水溶液（特許文献１）、アルミニウム腐食抑制性の酸性酸化剤含有組成物（特許文献２）、アルカリ性の殺菌洗浄用製剤（特許文献３）などが知られている。しかしながら、これらの組成物は、必ずしも排水についての下水排除基準を満たすものとは言えない。よって、依然として、配水管を傷めない洗浄剤が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開2010-184868号公報
ＷＯ2010/095231号公報
特表2016-532634号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たす、医療機器殺菌及び洗浄用組成物が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、添加剤を添加することにより、過酸化物の安定性が高く、排水が下水排除基準を満たし、かつタンパク除去力が向上した、医療機器殺菌及び洗浄用組成物を提供することができることを見出した。
【０００７】
すなわち、本発明は、下記の実施形態を含む。
【０００８】
＜１＞
過酢酸を０．００１～１５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１～７０質量％、過酸化水素を０．００１～２５質量％、及び水を含み、
添加剤を含み、
前記組成物のｐＨ値が、４．０～１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
＜２＞
前記添加剤が、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩、リン系安定剤、カルボン酸系安定剤、及びすず酸塩からなる群より選択される１種以上である、
＜１＞に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜３＞
前記添加剤がポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩である、＜１＞又は＜２＞に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜４＞
前記添加剤がリン系安定剤である、＜１＞～＜３＞のいずれかに記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜５＞
前記添加剤がカルボン酸系安定剤である、＜１＞～＜４＞のいずれかに記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜６＞
前記添加剤が、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩、リン系安定剤、及びカルボン酸系安定剤である、＜１＞又は＜２＞に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜７＞
前記リン系安定剤が、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩のいずれかを含む、＜６＞に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜８＞
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩のいずれかを含む、＜６＞に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜９＞
前記リン系安定剤が、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩であって、
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、＜６＞に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜１０＞
前記ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩を０．００１～５質量％含む、＜６＞～＜９＞のいずれかに記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜１１＞
前記リン系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満、及び前記カルボン酸系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満含む、＜６＞～＜９＞のいずれかに記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜１２＞
前記組成物のｐＨ値が、５．０～９．０である＜１＞～＜１１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、＜１＞～＜１２＞のいずれかに記載の組成物の製造方法。
（ｉ）添加剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）酢酸塩
＜１４＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、＜１＞～＜１２＞のいずれかに記載の組成物の製造方法。
（ｉ）添加剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）アルカリ
＜１５＞
前記添加剤、酢酸及びアルカリを混合した後、３０～５０℃で過酸化水素水を混合する、＜１４＞に記載の製造方法。
＜１６＞
＜１＞～＜１２＞のいずれかに記載の組成物と、
追加の水
とを含む、殺菌及び洗浄用希釈組成物。
＜１７＞
過酢酸を０．００１～１．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１～７質量％、過酸化水素を０．００１～２．５質量％、及び水を含み、
添加剤を含み、
前記組成物のｐＨ値が、４．０～１０．０である、＜１６＞に記載の殺菌及び洗浄用希釈組成物。
＜１８＞
＜１＞～＜１２＞のいずれかに記載の組成物又は＜１６＞若しくは＜１７＞に記載の希釈組成物を用いる、医療用器具の殺菌及び洗浄方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、添加剤を添加することにより、過酸化物の安定性が高く、排水が下水排除基準を満たし、かつタンパク除去力が向上した、医療機器殺菌及び洗浄用組成物を提供することができる。本発明の組成物は、ｐＨ値が下水排除基準を満たすため、使用後の廃液を中和処理する必要なく排水することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
１．殺菌及び洗浄用組成物
本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸、過酸化水素、酢酸及び／又はその塩、及び水、ならびに添加剤を含む。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許