TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2024115213
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-08-26
出願番号2023020787
出願日2023-02-14
発明の名称添加剤および金属の製造方法
出願人ノリタケ株式会社
代理人個人,個人
主分類C23C 18/44 20060101AFI20240819BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】液相合成による金属の析出において、生成した金属のネッキングや粗大化を抑制する添加剤を提供する。
【解決手段】ここで開示される添加剤は、金属イオン及び/又は金属錯体を含む溶液から該金属を析出させる液相合成に用いられる。ここで開示される添加剤は、キノンオリゴマーを含有することを特徴とする。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項1】
金属イオン及び/又は金属錯体を含む溶液から該金属を析出させる液相合成に用いられる添加剤であって、キノンオリゴマーを含有する添加剤。
続きを表示(約 460 文字)【請求項2】
前記析出される金属が遷移金属である、請求項1に記載の添加剤。
【請求項3】
前記キノンオリゴマーが、以下の(1)および(2)の特徴:
(1)熱分解GC-MSによりヒドロキノンが検出されること;
(2)MALDI-TOF/MSにより、m/z値が200~1200の範囲内に少なくとも1つのピークが検出されること;
を有する、請求項1または2に記載の添加剤。
【請求項4】
前記キノンオリゴマーのMALDI-TOF/MSの測定結果において、m/z値が200以上1200以下の範囲のピーク強度の合計が、全体のピーク強度の50%以上を占める、請求項3に記載の添加剤。
【請求項5】
金属イオン及び/又は金属錯体と、キノンオリゴマーとを含有する溶液から該金属を析出させること、を含む金属の製造方法。
【請求項6】
前記溶液中の前記キノンオリゴマーの濃度が、0.02g/L以上200g/L以下である、請求項5に記載の金属の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、金属を析出させる液相合成に用いられる添加剤と、当該添加剤を用いた金属の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)【背景技術】
【0002】
電子部品の小型化、電極薄層化に伴い、電子ペースト中のコアシェル金属粉に対して小粒径化、シャープな粒度分布が要求される。例えば、特許文献1、非特許文献1、2には、導電性粒子に関する技術が開示されている。また、非特許文献3には、保護剤としてポリビニルピロリドン(PVP)が使用した微粒子合成の技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2010-238419号公報
【非特許文献】
【0004】
嶋本 大祐, 服部 真史, 吾郷 浩樹, 辻 正治, 第9回分子科学討論会講演要旨 2P077, 2015年8月31日公開
Nature nanotechnology, 6, 302 (2011) Supplementary information
趙 斌, 戸嶋 直樹、高分子論文集 Vol. 46 (1989) No. 9 pp. 551
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ところで、導電性粒子の粒子径が小さいほど、液相合成(無電解めっき)による金属析出工程において粒子同士がネッキング、粗大化してしまう傾向がある。そして、こうした凝集・連結(ネッキング)は解砕できないほど強固である場合があり、導電性粉末として利用し難い。
【0006】
そこで、本開示は、液相合成による金属の析出において、生成した金属のネッキングや粗大化を抑制する添加剤を提供することを主な目的とする。また、当該添加剤を用いた金属の析出方法(製造方法)を提供することを他の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
ここで開示される添加剤は、キノンオリゴマーを含有することを特徴とする。ここで開示される添加剤は、金属イオン及び/又は金属錯体を含む溶液から当該金属を析出させる液相合成に用いられる。
【0008】
キノンオリゴマーの存在下で、金属イオン及び/又は金属錯体から金属を析出させることで、析出した金属粒子同士のネッキングや金属の粗大化が抑制される。
【0009】
ここで開示される添加剤の一態様では、析出される金属が遷移金属である場合に用いられ得る。キノンオリゴマーと遷移金属は錯体を形成し易いため、析出した遷移金属粒子同士のネッキングや金属の粗大化が好適に抑制される。
【0010】
ここで開示される添加剤の一態様では、上記キノンオリゴマーが、以下の(1)および(2)の特徴:
(1)熱分解GC-MSによりヒドロキノンが検出されること;
(2)MALDI-TOF/MSにより、m/z値が200~1200の範囲内に少なくとも1つのピークが検出されること;
を有する。これにより、より好適に析出した金属粒子同士のネッキングや金属の粗大化が抑制される。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

ノリタケ株式会社
感光性組成物およびその利用
18日前
ノリタケ株式会社
炭酸カルシウムの製造装置、該装置に用いられるパーツおよび炭酸カルシウムの製造方法
24日前
大同特殊鋼株式会社
熱処理方法
1か月前
芝浦メカトロニクス株式会社
成膜装置
1か月前
神東塗料株式会社
鋼構造物の防食方法
1か月前
大阪瓦斯株式会社
成膜装置
1か月前
株式会社アルバック
成膜方法
3日前
株式会社JCU
無電解めっき方法
1か月前
信越化学工業株式会社
ガス発生装置
18日前
株式会社鈴木商店
皮膜および皮膜形成方法
1か月前
日本製鉄株式会社
表面処理鋼板
1か月前
日揚科技股分有限公司
防着オブジェクト
1か月前
サンデン株式会社
摺動部材
1か月前
東京エレクトロン株式会社
成膜装置及び成膜方法
1か月前
大陽日酸株式会社
半導体材料ガス生成装置
1か月前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置
1か月前
JFEスチール株式会社
耐遅れ破壊性に優れた高強度鋼板
1か月前
信越化学工業株式会社
炭化金属被覆炭素材料
1か月前
出光興産株式会社
水溶性防錆剤組成物
1か月前
株式会社高純度化学研究所
金属薄膜の原子層堆積方法
1か月前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置
1か月前
JFEスチール株式会社
絶縁被膜付き電磁鋼板
1か月前
大阪瓦斯株式会社
原料粉、成膜方法及び成膜体
1か月前
株式会社フジミインコーポレーテッド
溶射用粉末
1か月前
東京エレクトロン株式会社
成膜方法及び成膜装置
1か月前
三菱重工業株式会社
風車翼の前縁保護層施工方法
1か月前
テス カンパニー、リミテッド
非晶質炭素膜及びその蒸着方法
1か月前
東京エレクトロン株式会社
成膜装置
1か月前
株式会社カネカ
放熱シートおよび放熱シートの製造方法
1か月前
デンカ株式会社
電解質溶液及び電気化学的防食工法
1か月前
上村工業株式会社
めっき皮膜の製造方法
24日前
新東工業株式会社
投射材の製造方法及び表面処理方法
1か月前
大陽日酸株式会社
前駆体用バブリング容器
16日前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置及び成膜方法
26日前
国立大学法人九州工業大学
ダイヤモンド及びその製造方法
1か月前
キヤノントッキ株式会社
評価方法および評価装置
1か月前
続きを見る