特許ウォッチ

公開番号2024135089
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-04
出願番号2023045604
出願日2023-03-22
発明の名称評価方法および評価装置
出願人キヤノントッキ株式会社
代理人弁理士法人秀和特許事務所
主分類C23C 14/24 20060101AFI20240927BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】フォトルミネッセンス法により有機ELディスプレイの成膜装置における成膜の良否を効率的に精度よく判定する。
【解決手段】複数の成膜領域に対応する複数の開口を有するマスクを介して基板上に成膜された複数の有機膜に対してフォトルミネッセンス法を用いて得られた画像データに基づいて、複数の成膜領域からなる成膜パターンにおける複数の有機膜の成膜に関する評価を行う評価工程を有し、評価工程においては、画像データの輝度に基づいて数値化された情報に基づいて、成膜パターンにおける複数の有機膜の成膜の良否を判定する評価方法を用いる。
【選択図】図9
特許請求の範囲【請求項１】
複数の成膜領域に対応する複数の開口を有するマスクを介して基板上に成膜された複数の有機膜に対してフォトルミネッセンス法を用いて得られた画像データに基づいて、前記複数の成膜領域からなる成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜に関する評価を行う評価工程を有し、
前記評価工程においては、前記画像データの輝度に基づいて数値化された情報に基づいて、前記成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜の良否を判定する
ことを特徴とする評価方法。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記評価工程においては、前記輝度に基づいて、成膜の際の前記基板と前記マスクの距離を算出する
ことを特徴とする請求項１に記載の評価方法。
【請求項３】
前記評価工程においては、前記開口のサイズにより規定される前記成膜領域のサイズの設計値と、前記画像データの輝度に基づいて算出される前記有機膜の実際のサイズを比較することにより、前記基板と前記マスクの距離を算出する
ことを特徴とする請求項２に記載の評価方法。
【請求項４】
前記評価工程においては、前記輝度に基づいて、成膜後の前記基板の面積に占める前記複数の有機膜の面積の割合を示す成膜面積率を算出する
ことを特徴とする請求項１に記載の評価方法。
【請求項５】
前記評価工程においては、テーブルまたは数式を用いて、前記成膜面積率から、成膜の際の前記基板と前記マスクの距離を取得する
ことを特徴とする請求項４に記載の評価方法。
【請求項６】
前記評価工程においては、前記基板を区分した複数の領域ごとに、前記有機膜の成膜の良否を判定する
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の評価方法。
【請求項７】
前記評価工程においては、前記画像データにおいて所定以上の輝度が得られた部分において前記有機膜が成膜されたと判定する
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の評価方法。
【請求項８】
複数の成膜領域に対応する複数の開口を有するマスクを介して複数の有機膜が成膜された基板に紫外光を照射する照射部と、
前記紫外光を照射された前記基板から放出される励起光を受光して画像データを取得する撮像部と、
前記画像データを解析して、前記複数の成膜領域からなる成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜に関する評価を行う評価部と、
を備え、
前記評価部は、前記画像データの輝度に基づいて数値化された情報に基づいて、前記成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜の良否を判定する
ことを特徴とする評価装置。
【請求項９】
複数の成膜領域に対応する複数の開口を有するマスクと、
前記マスクを介して基板に成膜材料を放出して複数の有機膜を成膜する成膜源と、
前記基板に紫外光を照射する照射部と、
前記紫外光を照射された前記基板から放出される励起光を受光して画像データを取得す
る撮像部と、
前記画像データを解析して、前記複数の成膜領域からなる成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜に関する評価を行う評価部と、
を備え、
前記評価部は、前記画像データの輝度に基づいて数値化された情報に基づいて、前記成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜の良否を判定する
ことを特徴とする成膜装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜装置における成膜の評価方法および評価装置に関する。
続きを表示（約 2,600 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、モニタ、テレビ、スマートフォンなどの表示画面として、有機ＥＬ表示装置が用いられている。有機ＥＬ表示装置に用いられる有機ＥＬディスプレイは、２つの向かい合う金属膜の電極（カソード電極、アノード電極）の間に、発光を起こす有機物による有機膜が形成された構造を持つ。また有機ＥＬディスプレイでフルカラーの表示を実現するために、ＲＧＢそれぞれの画素の有機膜層が形成される。このような有機ＥＬディスプレイを形成する際は、成膜装置のチャンバにおいて、蒸発源から蒸着材料を放出して、マスクを介して基板に蒸着させる。そして、色ごとに異なる互いに異なるパターニングによる成膜を行うことにより、フルカラー表示が可能な有機ＥＬディスプレイが製造される。
【０００３】
成膜装置において、蒸着された膜のパターニングの精度を判定する評価工程が設けられる。パターニングの精度は成膜パターンの蒸着位置とパターン形状で評価される。評価の結果に基づいて蒸着の良否判定を行い、不良な成膜が行われた場合の改善を図ることにより、良好な成膜が可能となり歩留まりを向上させることができる。
【０００４】
特許文献１（特開２００５－３１０６３６号公報）には、フォトルミネッセンス法を用いた有機膜の検査方法が示されている。特許文献１の方法においては、製造された有機ＥＬディスプレイに対してＵＶ光を照射し、有機膜におけるフォトルミネッセンスにより放出された励起光を検出することにより、有機膜を検査している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２００５－３１０６３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１においては、基板上の有機膜に対して、集光レンズによりスポット状にしたＵＶ光を照射し、基板から励起したフォトルミネッセンスをＣＣＤカメラにより検出して画像データを取得している。そして二値化処理を行った画像データにエッジ検出処理を行い、１０回の繰り返し精度を求めることで、パターニングの良否を判定している。しかしながら、この方法においては、ＵＶ光をスキャンしながら有機膜の画素を一つ一つ観察して結果を確認する必要があるために、特に近年の基板の大型化に伴い検査時間が長くなることが課題となっていた。また、基板から数か所を抽出して評価を行う場合は、不良部分を見逃してしまう場合があった。さらに、成膜不良と判定された場合でも、不良の程度が分からない場合があった。すなわち、フォトルミネッセンス法により有機ＥＬディスプレイの成膜装置における成膜の良否を効率的に精度よく判定することが課題であった。
【０００７】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、フォトルミネッセンス法により有機ＥＬディスプレイの成膜装置における成膜の良否を効率的に精度よく判定することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下の構成を採用する。すなわち、
複数の成膜領域に対応する複数の開口を有するマスクを介して基板上に成膜された複数の
有機膜に対してフォトルミネッセンス法を用いて得られた画像データに基づいて、前記複数の成膜領域からなる成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜に関する評価を行う評価工程を有し、
前記評価工程においては、前記画像データの輝度に基づいて数値化された情報に基づいて、前記成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜の良否を判定する
ことを特徴とする評価方法である。
本発明は、また、以下の構成を採用する。すなわち、
複数の成膜領域に対応する複数の開口を有するマスクを介して複数の有機膜が成膜された基板に紫外光を照射する照射部と、
前記紫外光を照射された前記基板から放出される励起光を受光して画像データを取得する撮像部と、
前記画像データを解析して、前記複数の成膜領域からなる成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜に関する評価を行う評価部と、
を備え、
前記評価部は、前記画像データの輝度に基づいて数値化された情報に基づいて、前記成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜の良否を判定する
ことを特徴とする評価装置である。
本発明は、また、以下の構成を採用する。すなわち、
複数の成膜領域に対応する複数の開口を有するマスクと、
前記マスクを介して基板に成膜材料を放出して複数の有機膜を成膜する成膜源と、
前記基板に紫外光を照射する照射部と、
前記紫外光を照射された前記基板から放出される励起光を受光して画像データを取得する撮像部と、
前記画像データを解析して、前記複数の成膜領域からなる成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜に関する評価を行う評価部と、
を備え、
前記評価部は、前記画像データの輝度に基づいて数値化された情報に基づいて、前記成膜パターンにおける前記複数の有機膜の成膜の良否を判定する
ことを特徴とする成膜装置である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、フォトルミネッセンス法により有機ＥＬディスプレイの成膜装置における成膜の良否を効率的に精度よく判定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
成膜装置の構成を示す模式的な平面図
成膜室の内部構成を示す断面図
評価室の内部構成を示す断面図
成膜の評価内容の一例を示す模式図
成膜の評価内容の別の例を示す模式図
画素のサイズ拡大と輪郭ボケの原因を説明する模式断面図
画素のサイズ拡大と輪郭ボケの原因を説明する拡大図
基板－マスク間ギャップと画素サイズ拡大の関係を示す図
基板－マスク間ギャップと成膜面積率の関係を示す図
実施例２における評価方法を示す模式図
電子デバイスの製造方法を説明する図。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許