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公開番号2025170492
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-11-19
出願番号2024075098
出願日2024-05-07
発明の名称金属シリコンの製造方法
出願人本田技研工業株式会社
代理人弁理士法人クシブチ国際特許事務所
主分類C01B 33/02 20060101AFI20251112BHJP(無機化学)
要約【課題】ガラス廃材等の再生利用により金属シリコンを製造する際に消費されるエネルギーの低減することができる金属シリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】本開示の金属シリコンの製造方法は、二酸化ケイ素を含有する処理対象材料を粉砕する第1粉砕工程と、アルミニウムを含有する還元材料を粉砕する第2粉砕工程と、前記第1粉砕工程により粉砕された前記処理対象材料と、前記第2粉砕工程により粉砕された前記還元材料とを、混合する材料混合工程と、前記材料混合工程により混合された前記処理対象材料と前記還元材料について、800℃から1200℃の範囲内での加熱雰囲気による加熱還元反応を生じさせて、金属シリコンを得る加熱還元工程と、を含む。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
二酸化ケイ素を含有する処理対象材料を粉砕する第１粉砕工程と、
アルミニウムを含有する還元材料を粉砕する第２粉砕工程と、
前記第１粉砕工程により粉砕された前記処理対象材料と、前記第２粉砕工程により粉砕された前記還元材料とを、混合する材料混合工程と、
前記材料混合工程により混合された前記処理対象材料と前記還元材料について、８００℃から１２００℃の範囲内での加熱雰囲気による加熱還元反応を生じさせて、金属シリコンを得る加熱還元工程と、
を含む金属シリコンの製造方法。
続きを表示（約 510 文字）【請求項２】
前記処理対象材料は廃ガラス又はケイ酸植物であり、
前記還元材料は廃アルミニウムである
請求項１に記載の金属シリコンの製造方法。
【請求項３】
前記加熱還元工程は、不活性ガス雰囲気中で実行される
請求項１又は請求項２に記載の金属シリコンの製造方法。
【請求項４】
前記加熱還元工程は、炭酸カリウムを添加して実行される
請求項１又は請求項２に記載の金属シリコンの製造方法。
【請求項５】
前記加熱還元工程は、１０００℃以下の加熱雰囲気により実行される
請求項１又は請求項２に記載の金属シリコンの製造方法。
【請求項６】
前記材料混合工程において、前記処理対象材料と前記還元材料は、１ｍｍ以下の粒度に粉砕された状態で混合される
請求項１又は請求項２に記載の金属シリコンの製造方法。
【請求項７】
前記加熱還元工程により得られた金属シリコンを材料として、シリコーンゴムを製造するシリコーンゴム製造工程を、さらに含む
請求項１又は請求項２に記載の金属シリコンの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、二酸化ケイ素を含有する回収材料から金属シリコンを製造する金属シリコンの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、廃棄物の発生防止、削減、再生利用及び再利用により、廃棄物の発生の大幅な削減に向けた取り組みが活発化している。この実現に向けて、金属シリコンの再生利用に関する研究開発が行われている。
例えば、特許文献１は、二酸化ケイ素を含有するガラスと、金属アルミニウムとを１４５０℃以上に加熱して溶融させ、二酸化ケイ素を還元させることによって金属シリコンを生成させる、金属シリコンの製造方法を開示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００２－１９３６１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、金属シリコンの再生利用に関する技術においては、金属シリコンの製造時に消費される消費エネルギーを低減することが課題である。
本願は上記課題の解決のため、ガラス廃材等の再生利用により金属シリコンを製造する際に消費されるエネルギーの低減の達成を目的としたものである。そして、延いては廃棄物の発生の大幅な削減に寄与するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するための態様として、二酸化ケイ素を含有する処理対象材料を粉砕する第１粉砕工程と、アルミニウムを含有する還元材料を粉砕する第２粉砕工程と、前記第１粉砕工程により粉砕された前記処理対象材料と、前記第２粉砕工程により粉砕された前記還元材料とを、混合する材料混合工程と、前記材料混合工程により混合された前記処理対象材料と前記還元材料について、８００℃から１２００℃の範囲内での加熱雰囲気による加熱還元反応を生じさせて、金属シリコンを得る加熱還元工程と、を含む金属シリコンの製造方法が挙げられる。
【０００６】
上記金属シリコンの製造方法において、前記処理対象材料は廃ガラス又はケイ酸植物であり、前記還元材料は廃アルミニウムである構成としてもよい。
【０００７】
上記金属シリコンの製造方法において、前記加熱還元工程は、不活性ガス雰囲気中で実行される構成としてもよい。
【０００８】
上記金属シリコンの製造方法において、前記加熱還元工程は、炭酸カリウムを添加して実行される構成としてもよい。
【０００９】
上記金属シリコンの製造方法において、前記加熱還元工程は、１０００℃以下の加熱雰囲気により実行される構成としてもよい。
【００１０】
上記金属シリコンの製造方法において、前記材料混合工程における前記処理対象材料と前記還元材料は、１ｍｍ以下の粒度に粉砕された状態で混合される構成としてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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