特許ウォッチ

公開番号2025154333
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-10
出願番号2024057261
出願日2024-03-29
発明の名称塗布装置
出願人富士フイルム株式会社
代理人弁理士法人太陽国際特許事務所
主分類B05C 5/02 20060101AFI20251002BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約【課題】減圧スリットの閉塞抑制性、及び、膜形成時の幅方向端部の厚膜化抑制性に優れる塗布装置を提供する。
【解決手段】搬送する基材に塗布液を吐出する吐出用スリット、及び、減圧スリットを有するスロットダイを備え、上記減圧スリットが、上記スロットダイの基材搬送方向において前記吐出用スリットと同じ位置から上流側、かつ上記吐出用スリットの幅方向の外側に位置する塗布装置。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
搬送する基材に塗布液を吐出する吐出用スリット、及び、減圧スリットを有するスロットダイを備え、
前記減圧スリットが、前記スロットダイの基材搬送方向において前記吐出用スリットと同じ位置から上流側、かつ前記吐出用スリットの幅方向の外側に位置する
塗布装置。
続きを表示（約 280 文字）【請求項２】
前記減圧スリットの開口部が、３ｍｍ
２
より大きい請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記減圧スリットが、前記吐出スリット幅方向端部よりも５ｍｍ以上前記幅方向の外側に位置する請求項１又は請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
浮上搬送された基材への塗布用である請求項１又は請求項２に記載の塗布装置。
【請求項５】
水系塗布液塗布用である請求項１又は請求項２に記載の塗布装置。
【請求項６】
電池の電極膜形成用である請求項１又は請求項２に記載の塗布装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、塗布装置に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、塗布液を吐出するスリットと減圧のためのスリットを備えたダイを用いて成膜する技術は知られている。
特許文献１は、スロットダイを用いた製造方法で、連続走行する基材とスロットダイ先端との間に塗布ビードを形成し、スロットダイよりも上流に基材の幅方向において対向配置される２つのサイドプレートを含む減圧チャンバーを有する製造方法を開示している。
【０００３】
特許文献２は、塗布ヘッドの被塗布物移動方向に対して、上流側を減圧状態に保持する減圧室を有する塗布装置であり、上記減圧室が塗布幅方向で複数室に分割され、上記複数室は独立に減圧度の調整が可能であることを特徴とする塗布装置を開示している。
【０００４】
特許文献３は、電極シートを搬送するシート搬送部と、搬送中の上記電極シートに向けて電極材料と絶縁材料を吐出する塗布ノズルと、搬送中の上記電極シートと上記塗布ノズルとの間隔を調節するギャップ調節部とを備え、上記塗布ノズルには、電極材料を吐出する電極材料吐出部と、絶縁材料を吐出する絶縁材料吐出部とが、上記電極シートの搬送方向と交差する方向に並んで配置されており、上記ギャップ調節部は、搬送中の上記電極シートと上記電極材料吐出部の間隔及び上記電極シートと上記絶縁材料吐出部の間隔を同時に調節することを特徴とする、塗布装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１６－４３３２１号公報
特開２００８－１５５１６４号公報
特開２０１６－１６７３３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、減圧スリットの閉塞抑制性、及び、膜形成時の幅方向端部の厚膜化抑制性に優れる塗布装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞搬送する基材に塗布液を吐出する吐出用スリット、及び、減圧スリットを有するスロットダイを備え、上記減圧スリットが、上記スロットダイの基材搬送方向において上記吐出用スリットと同じ位置から上流側、かつ上記吐出用スリットの幅方向の外側に位置する塗布装置。
＜２＞上記減圧スリットの開口部が、３ｍｍ
２
より大きい＜１＞に記載の塗布装置。
＜３＞上記減圧スリットが、上記吐出スリット幅方向端部よりも５ｍｍ以上上記幅方向の外側に位置する＜１＞又は＜２＞に記載の塗布装置。
＜４＞浮上搬送された基材への塗布用である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の塗布装置。
＜５＞水系塗布液塗布用である＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の塗布装置。
＜６＞電池の電極膜形成用である＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の塗布装置。
【発明の効果】
【０００８】
本開示によれば、減圧スリットの閉塞抑制性、及び、膜形成時の幅方向端部の厚膜化抑制性に優れる塗布装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
従来の塗布装置の一例におけるスロットダイの塗布面を模式的に示す概略正面図である。
本開示に係る塗布装置の一例におけるスロットダイを模式的に示す概略斜視図である。
図２に示す塗布装置の一例におけるスロットダイ１０の塗布面を模式的に示す概略正面図である。
図２に示す塗布装置の一例における吐出用スリット１２を側面方向から見たときの断面構造を模式的に示す概略断面図である。
本開示に係る塗布装置の他の一例におけるスロットダイ１０の塗布面を模式的に示す概略正面図である。
本開示に係る塗布装置の更に他の一例におけるスロットダイ１０を模式的に示す概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。本開示は、以下の実施形態に何ら制限されない。以下の実施形態は、本開示の目的の範囲内において適宜変更されてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許